「cleaning process」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a cleaning agent for use in a cleaning process after the planarizing polishing process in a semiconductor device manufacturing process capable of effectively removing the organic residue and/or particles etc. existing on the surface of the semiconductor device, particularly on the surface of the semiconductor device having copper wiring thereon without subjecting the copper wiring to corrosion and/or oxidation, and to provide a cleaning method of the semiconductor device using it.例文帳に追加

半導体デバイス製造工程における平坦化研磨工程後の洗浄工程に用いられる洗浄剤であって、半導体デバイス表面、特に、表面に銅配線が施された半導体デバイスの表面に存在する有機残渣やパーティクルなどを、銅配線の腐蝕や酸化を引き起こすことなく、有効に除去することができる洗浄剤及びそれを用いた半導体デバイスの洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To excellently perform an image forming process such as charging, developing and cleaning or the like by using a conductive brush which prevents abnormal discharge.例文帳に追加

異常放電を防止する導電性ブラシを用いて、帯電、現像、クリーニング等の画像形成プロセスを良好に実施可能とする。 - 特許庁

To provide a device and a process for cleaning electrical insulators mounted under an electrified contact rail parallel to a rail track.例文帳に追加

軌道と平行な帯電した電気接点レールの下に装着された電気絶縁碍子を洗浄する装置及び方法を提供する。 - 特許庁

A spontaneous oxide film, formed on the surface of the electrode 17A, is removed by a cleaning process using a mixed solution of hydrofluoric acid and water.例文帳に追加

下部電極１７Ａの表面に形成される自然酸化膜を、フッ酸と水の混合液を用いた洗浄処理により除去する。 - 特許庁

To provide a method for cleaning to effectively remove abrasive grains and polishing powder produced in a polishing process for a chemically reinforced glass substrate.例文帳に追加

化学強化ガラス基板の研磨工程で生じる砥粒や研磨粉を効果的に除去できる洗浄方法を提供すること。 - 特許庁

The process control part 10A causes the substrate W in which the resist film is removed by the cleaning device 21 to be transferred to the resist application device 22.例文帳に追加

プロセス制御部１０Ａは、洗浄装置２１によりレジスト膜が除去された基板Ｗをレジスト塗布装置２２に搬送させる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which, even after the process speed thereof is switched, can correctly determine the necessity for cleaning of a corona wire.例文帳に追加

プロセススピードが切り替えられた場合であっても、コロナワイヤの清掃の要否を正確に判定できる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and a process cartridge that can achieve both of favorable removal of a discharge product and favorable toner cleaning property.例文帳に追加

放電生成物の良好な除去と良好なトナークリーニング性とを両立することができる画像形成装置を提供する - 特許庁

Electric conductivity in a core is inspected during a cleaning process of removing residual flux remaining inside the core after flux coating.例文帳に追加

フラックス塗布後にコア部の内部に残った残渣フラックスを取り除く洗浄工程の中で、コア部内の導電率を検査するようにする。 - 特許庁

A preliminary run for cleaning a photoreceptor drum 14 by using a developing device 18 and a blade cleaner 21 is performed when the printing process is started again.例文帳に追加

印字プロセス再開時に、感光体ドラム１４を現像装置１８とブレードクリーナ２１とを用いて、クリーニングするプレランを実施する。 - 特許庁

After this process, cleaning in pure water is performed for at least five minutes, and after drying, second formation of an epitaxial growth film 4 is executed.例文帳に追加

この処理後、純水洗浄を５分以上実施し、乾燥処理した後、二回目のエピタキシャル成長膜４の形成を実施する。 - 特許庁

The accumulating counter ACL is added (S7) with one every time when performing the ink sucking process and is reset (S10) when finishing the head cleaning.例文帳に追加

積算カウンタＡＣＬはインク吸引処理を実行する毎に１加算され（Ｓ７）、ヘッドクリーニング終了時にリセットされる（Ｓ１０）。 - 特許庁

To provide a lubricant supply device, a cleaning device, a process cartridge, and an image forming apparatus that surely suppress scattering of lubricant.例文帳に追加

潤滑剤の飛散が確実に抑止される、潤滑剤供給装置、クリーニング装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a water washing method for an electrodeposition coating process, which shows high cleaning capability and can wash a coated article with facilities having a more compact space.例文帳に追加

高い洗浄性を有し、よりコンパクトな設備スペースで実施することのできる電着塗装のための水洗方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning device, a process cartridge, and an image forming apparatus in which a sealing member sufficiently prevents the scattering of a toner.例文帳に追加

シール部材によってトナー飛散の発生が充分に防止される、クリーニング装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Thereby, the cleaning process for the fluid dynamic pressure bearing can be automated, and productivity can drastically be enhanced by the automation.例文帳に追加

これにより、流体動圧軸受の洗浄工程の自動化が可能となり、自動化によって生産性を飛躍的に高めることができる。 - 特許庁

If the sensor output is above the reference value, normal sheet conveyance is stopped by determining that stain is present and a process such as cleaning is executed.例文帳に追加

また、センサ出力が基準値以上であれば、汚れが有るとして通常の用紙搬送は止め、クリーニングなどの処理を行う。 - 特許庁

This ultrasonic vibration is applied three times while exchanging the water solution, and by applying working-up cleaning, the pretreatment process is completed.例文帳に追加

これを、水溶液を交換しながら３回の超音波振動を与え、最後に仕上げ洗浄を行って前処理工程を完了する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus causing no turning-up of a cleaning blade even when a fresh process cartridge is used.例文帳に追加

新品のプロセスカートリッジを使用した際にも、クリーニングブレード捲れが発生しない画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of producing a polyvinyl alcohol-based porous molding, industrially advantageous without requiring a cleaning process, having no pollution.例文帳に追加

洗浄工程が不要で工業的に有利であって、かつ汚染のないポリビニルアルコール系多孔質成形体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a waste cleaning method in wet type zinc refinement wherein copper arsenide-containing residue produced in a treatment process for Zn residue can be effectively utilized.例文帳に追加

Ｚn残渣の処理プロセスで発生する砒化銅含有残渣が有効利用可能な湿式亜鉛製錬の浄液方法を提供する。 - 特許庁

This process removes such contaminants from the surface which is hydrophobic and hence difficult to clean with aqueous-based cleaning techniques alone.例文帳に追加

この処理は、水性系洗浄技術だけを用いて洗浄することが難しい、疎水性の表面から汚染物質を取り除く。 - 特許庁

To improve the reliability of a semiconductor device by preventing electrostatic discharge and dryness inferiority in a rear face cleaning process of a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウエハの裏面洗浄工程における静電破壊や乾燥不良を防止し、半導体装置の信頼性を向上する。 - 特許庁

A wet cake of titanium hydroxide precipitate recovered in a cleaning process is dispersed in distilled water in a reaction vessel 301.例文帳に追加

洗浄工程で回収された水酸化チタン沈殿の湿潤ケーキは、反応容器３０１の中で蒸留水に分散させられる。 - 特許庁

The oxide film formation cleaning is a process for forming the oxide film 3 using either ozone water, SC1 washings, or SC2 washings.例文帳に追加

酸化膜形成洗浄は、オゾン水、ＳＣ１洗浄液、ＳＣ２洗浄液のいずれかを用いて酸化膜３を形成する工程である。 - 特許庁

To combine a process of stripping sheathing from an optical fiber, and cutting and welding processes and perform cleaning and sleeving processes using a single apparatus.例文帳に追加

光ファイバーの被覆ストリップ、切断、溶接過程を組み合わせ、洗浄及びスリーブ過程を単一装置で行うことができるようにする。 - 特許庁

The automatic cleaning process destroy too old (for the given life time) cache files when a new cache file is written. 例文帳に追加

自動クリーニングプロセスは、新しいキャッシュファイルを書き込むとき(与えられた生存期間に対して)古くなったキャッシュファイルを削除します。 - PEAR

When a cleaning process is finished, a shielding plate 2 is arranged at a position close to the upper surface of a wafer W held by a spin chuck 1.例文帳に追加

洗浄処理が終了すると、遮断板２がスピンチャック１に保持されたウエハＷの上面に近接した位置に配置される。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for inspecting foreign materials on a wafer, wherein foreign materials on a wafer can be inspected during a cleaning process to shorten the time required for manufacturing the wafer and the process of cleaning can be surely checked and no foreign material will adhere to the wafer between cleaning and foreign inspection.例文帳に追加

ウェーハの異物検査を、その洗浄工程において行なえるようにして、ウェーハの製造に要する時間を短縮することができるとともに、洗浄の進み具合を確実に把握することができ、洗浄と異物検査との間にウェーハに異物が付着することがないウェーハ上の異物検査方法および装置を提供すること。 - 特許庁

This cleaning member 100 is a member designed to clean a photoreceptor drum placed on a process unit which are detachably attached to the apparatus body and includes a sheet-like cleaning part 110 contacting the photoreceptor drum, and a pair of attachment parts 120, 130 which are placed on the both end parts of the cleaning part 110 and attached on parts of the process unit which form a pair.例文帳に追加

クリーニング部材１００は、装置本体に着脱可能となるプロセスユニットに設けられる感光ドラムをクリーニングするための部材であり、感光ドラムに接触するシート状のクリーニング部１１０と、クリーニング部１１０の両端側に設けられ、プロセスユニットの一対の部位に取り付けられる一対の取付部１２０，１３０と、を有している。 - 特許庁

The cleaning liquid for a semiconductor device substrate is provided which is used after a chemical mechanical polishing process in a semiconductor device manufacturing process and contains a nonionic surfactant represented by general formula (I), an organic acid and polyethylene glycol with a number average molecular weight of 5,000 or less, and has a pH of 5 or lower, and a cleaning method using the cleaning liquid.例文帳に追加

半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄液であって、下記一般式（Ｉ）で表されるノニオン性界面活性剤と有機酸と数平均分子量５０００以下のポリエチレングリコールとを含み、かつ、ｐＨが５以下である半導体デバイス用基板の洗浄液、及びそれを用いた洗浄方法。 - 特許庁

To positively clean and dry a cap by discriminating the front and rear of the cap on the upstream side of the cleaning process of an automatic cleaning and drying device, removing the cap moving with the inside of the cap facing upward, and feeding only the cap moving with the inside of the cap facing downward to the cleaning process.例文帳に追加

自動洗浄乾燥装置の洗浄工程の手前側でキャップの表裏を判別し、キャップの内側が上を向いて移動してきたキャップを除去し、キャップの内側が下を向いて移動してきたキャップだけを洗浄工程に供給して、確実に洗浄・乾燥できるようにしたキャップ表裏判別装置を提供するものである。 - 特許庁

To provide a clean-up device contrived to achieve desired cleaning without the occurrence of recontamination in a cleaning process step and a rinsing process step even if ordinary detergents are not substantially used for devices, such as washing machines and dish washing machines for performing rinsing after cleaning of objects to be cleaned.例文帳に追加

被洗浄物を洗浄した後、すすぎを行うための洗濯機や食器類洗浄機などの装置において、通常の洗剤を実質的に用いないにもかかわらず、洗浄工程およびすすぎ工程において再汚染を生ずることなく、所期の洗浄が達成されるように工夫した清浄化装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus wherein a defective image caused by defective cleaning, etc., is prevented by effectively cleaning residual toner on a photoreceptor after a transfer process even when using spherical toner, in the image forming apparatus having a cleaning process of removing the residual toner on the photoreceptor after transferring the toner image by using the spherical toner.例文帳に追加

球形化したトナーを使用して、トナー像を転写した後、感光体上の残留トナーを除去するクリーニング工程を有する画像形成装置において、球形トナーを用いた場合でも、転写工程後の感光体上の残留トナーを効率よくクリーニングし、クリーニング不良等の画像不良が生じない画像形成装置を提供することである。 - 特許庁

As a pre-treatment process before an electrostatic latent image formation process on a photoreceptor drum, a flag CL is set in the case of incorporating a cleaning process according to the input operation of a control panel by a user, and the flag CL is reset in the case of not incorporating it (72, 74, 76).例文帳に追加

感光体ドラムへの静電潜像形成処理前の前処理工程として、ユーザによる操作パネルの操作入力に応じて、クリーニング工程を、組み込む場合にはフラグＣＬをセットし、組み込まない場合にはフラグＣＬをリセットする（72,74,76）。 - 特許庁

To provide a dry flux coating applicator capable of uniformly carrying out dry flux coating on a surface of a body 4 to be coated such as an aluminum-made heat exchanger or the like without using water by unnecessitating a cleaning process and a drying process in a flux coating process.例文帳に追加

フラックス塗布工程中に、洗浄工程および乾燥工程を必要とせず、水を使わないでアルミニウム製熱交換器等の被塗布体４の表面に均一に乾式フラックス塗布を行うことのできる乾式フラックス塗布装置を提供する。 - 特許庁

This method of cleaning the liquid droplet delivery head includes a functional liquid supply process for controlling a drive waveform applied to a driving element, to supply the functional liquid L from a nozzle 21b to the nozzle face 21a, and a wiping process for wiping the nozzle face 21a, after finishing the functional liquid supply process.例文帳に追加

駆動素子に印加する駆動波形を制御してノズル２１ｂからノズル面２１ａに機能液Ｌを供給する機能液供給工程と、機能液供給工程の終了後、ノズル面２１ａをワイピングするワイピング工程と、を有する。 - 特許庁

To provide a drying method capable of continuously performing a cleaning/rinsing process and a drying process, greatly reducing the amount of usage of fluid for drying, and drying both the surfaces of an object to be dried by one drying process.例文帳に追加

洗浄・リンス工程及び乾燥工程を連続して行うことができ、また、乾燥用流体の使用量を大幅に低減することができ、さらに、１回の乾燥工程で被処理物の両面を乾燥させることのできる乾燥方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new, removable, space-saving tank conduit constructing coupling device capable of optionally switching a conduit in the middle of a receiving process or a discharging process and cleaning a receiving line (receiving conduit) and a discharging line (discharging conduit) separately by means of a cleaning device.例文帳に追加

脱着を可能とし、受入工程の途中でも払出工程の途中でも任意に管路の切換ができ、受入ライン（受入管路）と払出ライン（払出管路）とは、個々に洗浄装置で洗浄することができ、しかも省スペースタイプとして使用できる新規のタンク管路構築用継手装置を提供すること。 - 特許庁

Disclosed is the cleaning agent used after a chemical-mechanical polishing process in the manufacturing process of the semiconductor device having the copper interconnection formed on the surface, wherein the cleaning agent contains (A) polycarboxylic acid and (B) a compound having an aldehyde structure and has the pH of 0.5 to 5.例文帳に追加

表面に銅配線が施された半導体デバイスの製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤であって、（Ａ）ポリカルボン酸と、（Ｂ）アルデヒド構造を有する化合物と、を含有し、ｐＨが０．５〜５であることを特徴とする洗浄剤である。 - 特許庁

A chemical oxide film 100 formed on a semiconductor substrate 1 by wet cleaning, using a strong oxidizing solution to reduce the attachment of impurities to the chemical oxide film 100 between the wet cleaning process and an insulating film forming process.例文帳に追加

半導体基板上１に形成されるケミカル酸化膜１００を、強酸化性溶液を用いたウエット洗浄により形成するようにして、ウエット洗浄工程から絶縁膜形成工程間における、ケミカル酸化膜１００への不純物の付着を低減できるようにする。 - 特許庁

To provide a cleaning and processing method dispensing with processing of sand and a process for returning sand to a sea bottom during the separation processing process of muddy water and capable of efficiently performing the cleaning processing of sea bottom muddy sand.例文帳に追加

泥水で海水を汚損することがなく、掻きあげた汚濁物と砂を有効に分離することにより、泥水分離処理工程時の砂の処理と砂を海底に戻す別工程が不要になり、かつ、海底泥砂の浄化処理が能率よく行なえる浄化処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a forming method of an electrically conductive pattern of a semiconductor element by which improvement in cleaning efficiency of a cleaning process carried out after a polishing process for forming the electrically conductive pattern of the semiconductor element, reduction in manufacturing cost and improvement in use of a polishing device are achieved.例文帳に追加

半導体素子の導電パターンを形成するための研磨工程の後に実施する洗浄工程における洗浄効率の向上、生産コストの軽減、及び研磨装置の活用性の改善を可能にする半導体素子の導電パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing the substrates 1 having the plating layers consisting of the base metals has a plating immersion process step of forming the plating layers consisting of the base metals by immersing the substrate 1 into a plaiting tank 3 and a plating cleaning process step of cleaning the substrates by taking out the substrates out of the plating tank 33 and moving the same.例文帳に追加

卑金属からなるメッキ層を備える基板１の製造方法は、基板１をメッキ槽３３に浸漬して、卑金属からなるメッキ層を形成するメッキ浸漬工程と、基板１をメッキ槽３３から取り出して移動させ、基板１を洗浄するメッキ洗浄工程とを備える。 - 特許庁

The printer, equipped with a print engine capable of performing the cleaning process, is configured to perform the cleaning process, when print contents prescribing data cannot be prepared within a standby time (steps S111: time-out) and when reception of next-page data has not started (step S111: "NO").例文帳に追加

クリーニング処理を実行可能な印刷エンジンを備えた印刷装置を、待機時間内に印刷内容規定データが用意できなかった場合（ステップＳ１１３；タイムアウト）と、次ページデータの受信が開始されていなかった場合（ステップＳ１１１；ＮＯ）とに、クリーニング処理が行われるように、構成しておく。 - 特許庁