「cleaning process」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

In the backwashing process, the coating water is supplied also from a surface cleaning nozzle 38, and the coating is also done by the passage of the coating water in the normal direction.例文帳に追加

また、この逆洗工程において、表面洗浄ノズル３８からもコーティング水を供給し、順方向のコーティング水の流通によるコーティングも行う。 - 特許庁

The customer 10, if necessary, sends additional information 29 or the like to the server 24 from the cellular telephone 27 to indicate an addition to the cleaning process or the like.例文帳に追加

顧客１０は、必要であれば、携帯電話機２７を用いて追加情報２９等をサーバー２４へ送信し、クリーニング工程の追加等を指示する。 - 特許庁

To provide a dicing sheet function-provided film for a semiconductor which does not need a cleaning process and is excellent in productivity, and also to provide a semiconductor device having the cured product of an adhesive layer in the film.例文帳に追加

本発明の目的は、フラックス洗浄工程が不要、かつ生産性に優れるダイシングシート機能付き半導体用フィルムを提供すること。 - 特許庁

Processing tanks 33A to 33C in a cleaning unit 33 are connected to one another through an aperture 680 in a lower part corresponding to the deep portion of a process liquid.例文帳に追加

洗浄部３３の処理槽３３Ａ〜３３Ｃは、処理液の深部に該当する下部において、開口部６８０を通じて互いに連通している。 - 特許庁

The cleaning member 12 is butted to a surface of the cushion member 11 to remove the foreign matter on the cushion member 11 at a process that the sub-casing 31 is moved.例文帳に追加

サブケーシング３１が移動する過程で、クリーニング部材１２がクッション部材１１表面に当接し、クッション部材１１上の異物を除去する。 - 特許庁

More specifically, when cleaning the rear surface 112 of the wafer 102, it becomes possible to introduce the process gas into the lower portion 108 of the chamber 100 only.例文帳に追加

具体的には、ウエハ１０２の裏面１１２をクリーニングする際は、チャンバ１００の下側部分１０８にのみプロセスガスを導入することが可能となる。 - 特許庁

To provide a coating material supply apparatus which can be made small in size, low in pressure and short in a period of time needed for a color change process, and is excellent in cleaning property.例文帳に追加

塗料供給装置の小型化、低圧化及び色替えに要する時間の短縮化が図れ、洗浄性に優れた塗料供給装置を提供する。 - 特許庁

To provide a degreasing agent for inhibiting static electricity, which occurs while cleaning the surface of an automobile in a repairing process of the automobile.例文帳に追加

自動車の補修工程において、自動車表面を清浄した場合に発生する静電気を抑えることができる自動車補修用脱脂剤を提供する。 - 特許庁

In the scrubbing unit (SCR) 40, a brush is rubbed against the bare wafer B to remove foreign substances from the brush by using a tool for a wafer-cleaning process.例文帳に追加

スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）４０ではウエハ洗浄処理用のツールを利用してベアウエハＢにブラシをこすりつけてブラシから異物を除去する。 - 特許庁

To enhance productivity by enhancing strength of a base material in a baking process of the base material for an exhaust gas cleaning filter, and shortening time required for baking.例文帳に追加

排ガス浄化用フィルタ基材の焼成工程における基材強度を向上させ、焼成に要する時間を短縮して、生産性を向上させる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus in which the work for maintaining an intermediate transfer belt and a cleaning unit can drastically be simplified, and to provide a process unit.例文帳に追加

中間転写ベルトおよびクリーニングユニットの保守に際しての作業を大幅に簡略化することができる画像形成装置およびプロセスユニットを提供する。 - 特許庁

A device and a process comprise positioning arm(s) attached to a vehicle 8 that travels on the track 10 and a cleaning station with fixed or movable fingers 6.例文帳に追加

軌道上１０を移動する車両８に取り付けられた位置決めアームと、固定又は可動フィンガ６を持つ洗浄ステーションを含む装置及び方法である。 - 特許庁

Subsequently, portions of the copper film which exist on the outside of the interconnect grooves are polished to form interconnections, and then a cleaning process is performed on the resulting substrate.例文帳に追加

続いて、銅膜における配線溝の外部に存在する部分を研磨して配線を形成した後に、基板に対して洗浄処理を施す。 - 特許庁

The method can periodically perform tool cleaning operation in response to periodic stopping when the pre-process is periodically stopped for a qualitative check and maintenance.例文帳に追加

また、前工程が、品質チェック、メンテナンス等のために定期的に停止されたときに、これに伴い治具洗浄動作を定期的に行うことができる。 - 特許庁

The reproduction is accomplished merely by separating the process cartridge into a developing unit and a cleaning unit and detaching a developing blade and a developing roller unit from the developing unit.例文帳に追加

プロセスカートリッジを現像ユニットとクリーニングユニットに分解し、現像ユニットから現像ブレードと現像ローラユニットを取り外すのみで再生産できる。 - 特許庁

To provide a convenient method for predicting a restoration period in biological restoration of environmental pollution to control the cleaning process.例文帳に追加

本発明の課題は、環境汚染の生物的修復において、修復期間を予想し、浄化プロセスを制御する簡便な方法を提供することである。 - 特許庁

To provide wafer cleaning equipment which can remove polymer or contamination surely with chemical or deionized water, and to provide a production process of a semiconductor device.例文帳に追加

薬液又は純水によってポリマー又は異物を確実に除去できるウェハ洗浄装置及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a wafer drying process utilizing the marangoni effect, an isopropyl alcohol liquid 222 is heated and supplied in a liquid phase to the upside of a cleaning liquid.例文帳に追加

マランゴニ効果を利用したウェーハに乾燥工程において、イソプロピルアルコール液体２２２を加熱して洗浄液の上部に液体状態で供給する。 - 特許庁

By performing the process such as cleaning, oxidation, nitriding, and reduction in film thickness without exposure to the air, the insulating film having high cleanliness can be formed.例文帳に追加

本発明により、大気への暴露を避けて、洗浄、酸化、窒化、薄膜化などの処理を行うことで、洗浄度の高い絶縁膜の形成が可能となる。 - 特許庁

In the process devices, for example, there are devices that conducts processes, while holding a dummy wafer or requires a ware for cleaning reproduction with a specified frequency.例文帳に追加

また、プロセス装置の中には、例えばダミーウェハを保持しながら処理を行うものや、特定の頻度でクリーニング再生のためのウェアを必要とする装置がある。 - 特許庁

In formulating an ink containing catalyst material and carrier that is composed of a catalyst material and a carrier and a solvent, the carrier is subjected to acid cleaning as the preceding process.例文帳に追加

触媒物質と担持体と溶媒とからなる触媒物質担持体含有インクを調製するに際し、その前工程として担持体を酸洗浄する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic device and a process cartridge which suppress increase of electrophotographic photoreceptor driving torque and hardly generate breakage of a cleaning member.例文帳に追加

電子写真感光体駆動トルクの増加を抑制し、クリーニング部材の破損が起こり難い電子写真装置及びプロセスカートリッジを提供することにある。 - 特許庁

The air cleaning method by the photocatalyst contains a process which the photocatalyst is heated and regenerated.例文帳に追加

光触媒体を用いた空気の浄化方法において、光触媒体を加熱、再生させる工程を含むことを特徴とする空気の浄化方法。 - 特許庁

To stably decrease emitted dioxins down to an extremely low concentration in a process for cleaning waste gas containing the dioxins by using catalysts.例文帳に追加

ダイオキシン類を含有する排ガスを触媒を用いて浄化するプロセスにおいて、排出ダイオキシン類を極低濃度まで安定して低減させることである。 - 特許庁

A compound liquid of chelating agent-added hydrogen peroxide water and ammonia water is used as a chemical 5 in a cleaning process after forming a trench 3.例文帳に追加

トレンチ３を形成した後の洗浄工程の薬液５として、キレート剤を添加した過酸化水素水とアンモニア水と水の混合液を用いる。 - 特許庁

The cleaning method is characterised by being provided with a process (step S23) for processing a substrate with the aqueous oxalic acid solution with a concentration of 1 to 10 % at a temperature of 30 to 50 °C.例文帳に追加

基板を濃度が１〜１０％で、温度が３０〜５０℃の蓚酸水溶液によって処理する工程（ステップＳ２３）を具備したことを特徴とする。 - 特許庁

To provide the modifying means of a process flow contemplated from the aspect of a cleaning of the chamber wall and a plasma producing condition contemplated from the aspect of a control of a plasma chemistry.例文帳に追加

チャンバ壁クリーニングの面から考えたプロセスフローおよびプラズマケミストリ制御の面から考えたプラズマ生成条件の改善手段を提供する。 - 特許庁

To improve the removing ratio of chips even in the case of removing the chips not only from a liquid discharged from a machine tool but also from a liquid discharged from a filter medium cleaning process.例文帳に追加

工作機械から排出した液だけでなく濾材洗浄で排出した液から切粉を除去処理する場合も、切粉除去率を向上させる。 - 特許庁

To provide a nozzle detecting unit capable of efficiently detecting dot omission before a printing process, and judging the need of cleaning in a short time.例文帳に追加

印刷処理前のドット抜け検出を効率的に行い、クリーニング要否の判断を短時間で行うことのできるノズル検出装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a moving bed type filter device shortened in a required time for a filter media drawing process, improved in cleaning effect and small- sized in the device.例文帳に追加

ろ材引抜工程の所要時間を短縮するとともに、洗浄効果の向上が図れ、さらに装置の小型化も図れる移床式ろ過装置を提供する。 - 特許庁

A wafer W, whose film forming process is finished, is carried out of a chamber 2 and, thereafter, the inside of the chamber 2 is evacuated and cleaning gas is introduced through a gas introducing port 7.例文帳に追加

成膜処理済みのウエハＷをチャンバー２から搬出した後、チャンバー２内を減圧し、ガス導入口７からクリーニングガスを導入する。 - 特許庁

The environmental cleaning agent consists of used pickling liquid discharged from the pickling process of a steel material and contains the pickling liquid as a deodorization effective component.例文帳に追加

鋼材の酸洗工程から排出される使用済み酸洗液からなる、又は、脱臭有効成分として前記酸洗液を含有する環境浄化剤。 - 特許庁

To solve the following problem: a bias adjusting mode is performed at every process speed in cleaning a second image carrier, so that it takes a long time to start the following image forming operation, regarding an image forming apparatus using a plurality of process speeds.例文帳に追加

複数のプロセススピードを持つ画像形成装置において、第二の像担持体のクリーニングを行う時に、それぞれのプロセススピードでバイアス調整モードを実行するため、次の画像形成までに時間がかかる。 - 特許庁

To efficiently recover gas evaporated from top of a substrate to be treated during a coating process, to save a space for the coating process, to reduce a footprint, and to reduce air cleaning equipment and power consumption.例文帳に追加

塗布処理の際に被処理基板上から蒸発するガスの回収を首尾よく行えるとともに、塗布処理空間の省スペース化、フットプリントの縮小、空気清浄の設備および消費エネルギーの節減を実現する。 - 特許庁

Next, only the largely damaged region of the HfSiON film 15 is selectively removed with the wet-etching process by conducting the cleaning process for about 90 seconds using the aqueous solution of hydrofluoric acid in the concentration of about 5%.例文帳に追加

次に、濃度が５％程度のフッ酸水溶液で９０秒程度の洗浄を行うことにより、ＨｆＳｉＯＮ膜１５のうちダメージが大きく与えられた領域のみが選択的にウェットエッチング除去される。 - 特許庁

To provide an SiC dummy wafer exhibiting excellent planarity while suppressing warp and being employed in a process for cleaning the interior of a plasma etching chamber, or the like, or a process for heat treating a product wafer in a vertical furnace or the like.例文帳に追加

プラズマエッチング用等のチャンバー内を清浄化する工程や拡散炉、縦型炉等で製品ウエハを熱処理する工程に用いられる、反りが少なく平坦性に優れたＳｉＣダミーウエハを提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and device thereof wherein an amount of consumed pure water can be reduced by inventing a pure water cleaning process, and also the number of processes can be reduced by simultaneously performing a drying process.例文帳に追加

純水洗浄処理を工夫することにより、純水の消費量を低減するとともに、乾燥処理を同時に行って工数を低減することができる基板処理方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

This system has a process chamber 2 to be loaded with a wafer 1, a heater 3 heating the loaded wafer 1 and a shower head 4 introducing film deposition gas and cleaning gas for etching in the process chamber 2 after film deposition treatment.例文帳に追加

ウエハ１がロードされるプロセスチャンバー２と、ロードされたウエハ１を加熱するヒーター３と、成膜ガス及び成膜処理後のプロセスチャンバー２内のエッチング用クリーニングガスを導入するシャワーヘッド４とを有している。 - 特許庁

To discharge effectively trash or the like in processing liquid and process a substrate with high cleanliness factor, and prevent mutual contamination by discharging process liquid, while supplying cleaning liquid to the inner wall of a processing tank.例文帳に追加

処理槽内壁に洗浄液を供給しながら処理液を排出することにより、処理液中のゴミ等を効率よく排出して清浄度高く基板を処理することができ、相互汚染を防止することができる。 - 特許庁

To provide a method for cleaning in a paper making and screening process, having high safety and slight influence on drain, with which impurities of chemicals consisting essentially of a sizing agent in a screening process can be effectively removed.例文帳に追加

安全性が高く、排水への影響が少なく、かつ精選工程内のサイズ剤を主体とした各薬品の不純物を効果的に除去することのできる抄紙精選工程における洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process cartridge capable of reducing cost due to the increase of productivity by eliminating a process of applying toner and lubricant to reduce the friction of a cleaning blade in order to prevent the breakage, and to provide an image forming apparatus.例文帳に追加

損傷防止のためにクリーニングブレードの摩擦を軽減するトナーや潤滑剤の塗布工程を省くことで生産性アップによるコスト低減を実現できるプロセスカートリッジおよび画像形成装置を提供する。 - 特許庁

As to the rise of the surface frictional coefficient in the process for raising the surface frictional coefficient; the abutting pressure of a cleaning blade 26 to the photoreceptor 2 is made larger than that obtained in the process for lowering the surface frictional coefficient.例文帳に追加

表面摩擦係数を上昇させる工程における表面摩擦係数の上昇は、例えば、クリーニングブレード２６の感光体２への当接圧を表面摩擦係数を低下させる工程時よりも大きくする。 - 特許庁

To provide an epoxy resin which has excellent electrolytic property, heat resistance and mechanical strength and is capable of controlling the weight loss occurring in an acid treatment process of an electrolyte or cleaning process of an electrolytic membrane to the minimum.例文帳に追加

良好な電解質特性、耐熱性、機械的強度を有し、電解質の酸処理工程または電解質膜の洗浄工程での重量減少を最小限に抑えることのできるエポキシ樹脂を提供する。 - 特許庁

To provide an air cleaner increasing process efficiency of respective cleaning process means and discharging cleaned outside air together with negative ions when the air is cleaned and processed by ozone gas, and a photocatalyst.例文帳に追加

外部空気をオゾンガス、光触媒により清浄処理する際、各浄化処理手段の処理効率を高めると共に、浄化処理した空気をマイナスイオンと共に排出する空気清浄装置を提供する。 - 特許庁

The treatment method for the iron chloride-containing solution containing ferrous ions has a hydroxide treatment process step of forming a hydroxide by adding an alkaline agent to the solution and an oxidation treatment process step of oxidizing the ferrous ions in the solution to ferric ions prior to a separating and cleaning process step of subjecting the slurry of the formed hydroxide to a solid-liquid separation and cleaning the solid content thereof with water.例文帳に追加

少なくとも第一鉄イオンを含む塩化鉄含有溶液の処理方法において、アルカリ剤を添加して水酸化物を生成させる水酸化物処理工程、ならびに生成した水酸化物のスラリーを固液分離し、固形分を水洗する分離・洗浄工程、に先立ち前記溶液中の第一鉄イオンを第二鉄イオンに酸化させる酸化処理工程を有するものである。 - 特許庁