「cleaning process」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a substrate cleaning method which can prevent rigid hydrocarbon on the substrate surface with organic cleaning process and can effectively remove hydrocarbon even when such hydrocarbon is deposited on the substrate surface.例文帳に追加

有機洗浄により基板表面にハイドロカーボンが強固に付着することを防止し、あるいは基板表面にハイドロカーボンが付着した場合でも、それを効率的にを除去する基板洗浄方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a cleaning device realizing an increase of cleaning performance of spherical toner and the prolongation of the life of an image carrier by preventing the spherical toner from getting into a wedged part, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus equipped with the same.例文帳に追加

クサビ形状部に球形トナーが入り込むのを防止し、球形トナーのクリーニング性向上および像担持体の高寿命化を図るクリーニング装置、プロセスカートリッジおよびこれを備えた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor with a resin layer excellent in toner cleaning performance and stability to the burr of a cleaning blade and to provide a method for producing the photoreceptor, an image forming method, an image forming device and a process cartridge.例文帳に追加

トナーのクリーニング性能やクリーニングブレードのめくれに対する安定性の優れた樹脂層を有する感光体を提供すること、該電子写真感光体の製造方法、画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジの提供。 - 特許庁

To provide a new removable tank conduit constructing coupling device capable of switching a conduit optionally even in the middle of a receiving/ discharging process for cleaning a receiving line and a discharging line independently of each other by means of a cleaning device.例文帳に追加

脱着を可能とし、受入工程の途中でも払出工程の途中でも任意に管路の切換ができ、受入ラインと払出ラインとは、個々に洗浄装置で洗浄することができる、新規のタンク管路構築用継手装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor with a resin layer excellent in toner cleaning performance and stability to the burr of a cleaning blade and to provide a method for producing the photoreceptor, an image forming method, an image forming device and a process cartridge.例文帳に追加

トナーのクリーニング性能やクリーニングブレードのめくれに対する安定性の優れた保護層を有する感光体を提供すること、該電子写真感光体の製造方法、画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジの提供。 - 特許庁

Because the front surface and the back surface of the substrate are cleaned with the cleaning liquid CL, the ice grains IG in the cleaning liquid CL uniformly act on the substrate to uniformly process the front surface and the back surface of the substrate.例文帳に追加

そして、この洗浄液ＣＬにより基板の表面や裏面を洗浄しているため、洗浄液ＣＬの氷粒ＩＧが基板に対して均一に作用して基板の表面や裏面を均一に処理することができる。 - 特許庁

To provide a method of cleaning a used denitration catalyst which prevents emission of mercury into the atmosphere by recovering and removing mercury to be emitted into the atmosphere in a process of cleaning a used denitration catalyst.例文帳に追加

使用済脱硝触媒を洗浄する工程で、大気へと放出される水銀を回収、除去することにより、大気中へ水銀が放出されないようにする、使用済脱硝触媒の洗浄方法を提供する。 - 特許庁

Also, a cleaning effect is enhanced and the deposition of the reaction products is suppressed by providing the apparatus with an auxiliary heater for heating the portions where the reaction products deposit on the quartz parts only during the cleaning process.例文帳に追加

また、石英部品上に反応生成物が堆積する部分をクリーニングプロセス中にのみ加熱する補助加熱装置を備えることによりクリーニング効果を上げて反応生成物の堆積を抑制させることにより解決できる。 - 特許庁

Provided is a cleaning web fixing means for deterring the cleaning web from slackening when a user is able to rotate a fixing roller rotation knob, for example, when the user needs to process a jam or when a device stops and its front door is open.例文帳に追加

ユーザーによるジャム処理が必要な間、もしくは装置が停止し、前ドアオープン時のときのように定着ローラー回転ノブをユーザーが回動可能時に作用する清掃ウェブの緩みを抑止させる清掃ウェブ固定手段を設ける。 - 特許庁

To provide a cleaning blade capable of maintaining contact pressure by suppressing turning up of the top end ridge portion of the cleaning blade and making followability for a body to be cleaned of the top end ridge portion excellent, and to provide an image forming apparatus and a process cartridge.例文帳に追加

先端稜線部のめくれを抑制し、かつ、先端稜線部の被清掃体に対する追随性を良好にでき当接圧を維持することができるクリーニングブレード、画像形成装置、及び、プロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning apparatus for effectively cleaning a metal stuck to a tool in the tool used in a dry etching apparatus, a CVD (chemical vapor deposition) apparatus, or the like, used in a process for manufacturing a semiconductor, a liquid crystal substrate or a solar battery.例文帳に追加

半導体又は液晶基板、太陽電池の製造過程で使用されるドライエッチング装置、ＣＶＤ装置などで使用される冶具に対して、この冶具に付着した金属を有効に洗浄する洗浄装置を実現すること。 - 特許庁

During this cleaning process, the discharging fluid control lable of charging is supplied to the semiconductor wafer W and charges are removed from the front surface side of the semiconductor wafer W at the time of cleaning.例文帳に追加

この洗浄処理工程中において、帯電量が制御可能な帯電された除電用流体を半導体ウエハＷに供給して、洗浄処理工程の際に半導体ウエハＷの表面側に帯電する電荷を除去する。 - 特許庁

To provide an additive for toner which prevents deposition of the toner on a photoreceptor in a cleaning process and which improves cleaning performance because the additive hardly causes cracks or chips by mechanical external force, and to provide the toner using that additive.例文帳に追加

機械的な外力による割れや欠けなどが起こり難いので、クリーニング工程においてトナーが感光体ドラムに付着するのを防止し、クリーニング性能を向上させたトナー用添加剤、及び、それを用いたトナーを提供する。 - 特許庁

To simplify constitution and to shorten a cleaning process of a carrier belt in an image forming device which has a plurality of image forming parts and recovers unnecessary toner on the carrier belt by a cleaning device via a photosensitive drum.例文帳に追加

複数の画像形成部を有し、搬送ベルト上の不要なトナーを感光ドラムを介してクリーニング装置によって回収する画像形成装置において、構成を簡略化し、かつ搬送ベルトのクリーニング工程を短縮する。 - 特許庁

Thereafter, a wet cleaning process using a cleaning liquid 17 that chemically dissolves the organic film 15 is applied to the silicon oxide film 14 to remove residuals of the organic film 15 remaining on the silicon oxide film 14.例文帳に追加

その後、シリコン酸化膜１４に対して、有機膜１５を化学的に溶解できる洗浄液１７を用いた湿式洗浄処理を行なうことによって、シリコン酸化膜１４上に残存する有機膜１５の残留物を除去する。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device comprises a process for cleaning a semiconductor substrate having a copper electric wiring by a cleaning liquid for the semiconductor substrate, containing a saccharide and a basic compound, having the copper electric wiring.例文帳に追加

糖類と、塩基性化合物とを含有してなる銅配線を有する半導体基板用洗浄液および当該洗浄液で銅配線を有する半導体基板を洗浄する工程からなる半導体デバイスの製造方法の提供。 - 特許庁

The cleaning method of the circulative cooling water system in the steel making process includes: contacting the cleaning agent which contains phosphonic acid and/or its salts with the filter and/or cooling tower; and dissolving the manganese fouling and manganese deposit.例文帳に追加

濾過器及び／又は冷却塔にホスホン酸及び／又はその塩を含んでなる洗浄剤を接触させて、マンガンによる汚れ又はマンガン析出物を溶解する鉄鋼製造工程における循環冷却水系の洗浄方法。 - 特許庁

To provide a cleaning liquid and a cleaning method for removing unnecessary solidified matter produced by antireflection agent applied during the processing process of a semiconductor wafer in manufacturing a semiconductor element.例文帳に追加

本発明は、半導体素子の製造における半導体ウエハの加工工程で、塗布される反射防止剤によって生じる、不要な固化物を除去するために用いられる、洗浄液および洗浄方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a substrate cleaning method which allows adhering of rigid hydrocarbon on a substrate surface with organic cleaning process to be prevented or hydrocarbon to be effectively removed even when the hydrocarbon is deposited on the substrate surface.例文帳に追加

有機洗浄により基板表面にハイドロカーボンが強固に付着することを防止し、あるいは基板表面にハイドロカーボンが付着した場合でも、それを効率的に除去する基板洗浄方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A cleaning water spray nozzle 23 pours downward-sprayed cleaning water into a gap between the outer peripheral surface of a bottle mouth 1A and the inner peripheral surface of the cap 2 during a process of conveying, in a lying posture, the bottle 1 with the cap 2 fastened.例文帳に追加

キャップ２が締着されたボトル１を横置搬送する過程で、洗浄水噴射ノズル２３が下向き噴射する洗浄水をボトル口１Ａの外周面とキャップ２の内周面との間の隙間に注入するもの。 - 特許庁

The process cartridge attachable/detachable to/from the main body of an image forming device, has a rotatable photoreceptor drum 4 for forming a image and a cleaning member 20 for cleaning the exposure member 3 of the device main body.例文帳に追加

画像形成装置本体に着脱可能なプロセスカートリッジにおいて、画像を形成するために回転可能な感光体ドラム４と、装置本体の露光部材３を清掃するための清掃部材20とを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a cleaning fluid used in a cleaning process following to a chemical mechanical polishing process of a substrate for a semiconductor device, especially a substrate for a semiconductor device having metal wiring on the surface, exhibiting a sufficient corrosion resistance, and can minimize production of residue and adhesion of residue to the surface of the substrate.例文帳に追加

半導体デバイス用基板、特に表面に金属配線を有する半導体デバイス用基板を化学的機械的研磨工程後の洗浄工程に用いられ、金属配線に対する十分な防食性を有し、残渣の発生及び基板表面への残渣の付着を抑制することができる洗浄液を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the insulation wire in which an insulation coating film is formed by applying resin coating on a conductor includes an electrolytic cleaning process for performing electrolytic cleaning on the surface of the conductor, and an insulation coating film forming process for applying resin coating on the electrolytic-cleaned surface of the conductor to form the insulation coating film.例文帳に追加

導体上に、樹脂塗料を塗布して絶縁皮膜を形成する絶縁電線の製造方法において、前記導体の表面に電解洗浄を施す電解洗浄工程と、電解洗浄した前記導体の表面に、前記樹脂塗料を塗布して絶縁皮膜を形成する絶縁皮膜形成工程とを備える。 - 特許庁

To provide a foamed body roller of which productivity can be increased and cost can be reduced, and allowed to be uniformly pressurized in contact with a member to be in a press-contact, a cleaning roller consisting of the foamed body roller, a process device provided with the cleaning roller, and an image forming device provided with the process device.例文帳に追加

生産性およびコストの低減化を図ることができ、しかも、被圧接部材に対して均一に圧接させることのできる、発泡体ローラ、その発泡体ローラからなるクリーニングローラ、そのクリーニングローラが備えられるプロセス装置、および、そのプロセス装置が備えられる画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

The water cleaning method for cleaning water prepares the assembly of carriers carrying one of the photocatalysts or the photosensitizing dye, and has a carrier support process for supporting the assembly of carriers so that the lower side contacts with the layer of air, and a water sprinkling process for sprinkling water over the assembly of carriers.例文帳に追加

また、従来の水を浄化する水浄化方法にかわって、光触媒または光増感色素の一方を担持した担体の集合を用意し、前記担体の集合を下方に空気の層を接する様に支持する担体支持工程と、水を前記担体の集合に散布する水散布工程と、を備えた、ものとした。 - 特許庁

To provide cleaning liquid for removing resist enhanced in a removing function of resist residual dross and resistance against corrosion of a copper film and an insulator film, when the resist residual dross after etching or ashing, and other etching residual dross are removed in a semiconductor manufacturing process including a copper wiring process, and a manufacturing method for a semiconductor device using the cleaning liquid.例文帳に追加

銅配線プロセス等の半導体装置製造方法工程において、エッチング後またはアッシング後のレジスト残さ物およびその他のエッチング残さ物を除去する際に、レジスト残さ物等の除去性、銅および絶縁体膜の耐腐食性が高いレジスト除去用洗浄液を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device is provided with a cleaning process, in which the surface oxide film 6 formed on the copper interconnection 3, is cleaned and a first process, in which the film 6 is substituted into carboxylate and a second process, in which the generated carboxylate is reduced and removed.例文帳に追加

銅配線３に形成された表面酸化膜６を清浄する清浄工程を有する半導体装置の製造方法であって、清浄工程は、表面酸化膜６をカルボン酸塩に置換する第１の工程と、生成されたカルボン酸塩を還元除去する第２の工程とを有する。 - 特許庁

To provide liquid used for a CMP method which effectively cleans a polisher and a wafer in a polishing process by the CMP method and a process to clean the polisher, and to provide the manufacturing method of a semiconductor device including the effective cleaning process.例文帳に追加

ＣＭＰ法による研磨工程や、研磨装置を洗浄する工程において、研磨装置やウェハの洗浄を効率的に行なうことができるＣＭＰ法に用いる液体、および効率的な洗浄が可能な工程を備えた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A treatment method of a membrane electrode assembly for a solid polymer fuel cell includes a process preparing alcohol aqueous solution, a process making the membrane electrode assembly in contact with the alcohol aqueous solution, and a process cleaning the assembly which is made in contact with the alcohol aqueous solution.例文帳に追加

本発明によれば、アルコール水溶液を準備する工程と、アルコール水溶液に膜電極接合体を接触させる工程と、アルコール水溶液に接触させた接合体を洗浄する工程とを含む、固体高分子型燃料電池用膜電極接合体の処理方法が提供される。 - 特許庁

The particle removing step comprises at least one of steps of subjecting the raw material silicon to a cleaning process with ultrapure water, subjecting the raw material silicon to a blow process with a compressed gas, and subjecting the raw material silicon in a sieving process, or a combination of these steps.例文帳に追加

微粒子除去工程は、原料シリコンを超純水又はアルコールで洗浄処理する工程、原料シリコンを圧縮気体によりブロー処理する工程、又は原料シリコンをふるい処理する工程の少なくとも１つの工程、あるいは、複数の工程を組み合わせた工程である。 - 特許庁

In forming aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor, a process which roughens the aluminum foil in an etching liquid containing at least a chlorine ion to make it etched foil, a chemical cleaning process which removes a deposit from the etched foil, and an anodic oxidation process for the etched foil are carried out.例文帳に追加

電解コンデンサ用アルミニウム電極箔を製造するにあたって、少なくとも塩素イオンを含むエッチング液中でアルミニウム箔を粗面化してエッチド箔とするエッチング工程と、エッチド箔から付着物を除去するケミカル洗浄工程と、エッチド箔に対する陽極酸化工程とを行う。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a liquid crystal display element provided with a process suitable for large size by hardly generating dust when performing alignment treatment of a liquid crystal alignment film, not only skipping a complicated cleaning process and a drying process but hardly generating thickness irregularity and alignment irregularity of the alignment film.例文帳に追加

液晶配向膜の配向処理に際して塵埃が生じ難く、煩雑な洗浄工程及び乾燥工程を省略することができるだけでなく、配向膜の厚みむらや配向むらが生じ難く、大型化に適した工程を備える液晶表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To manage the cleaning between main process steps of the manufacturing process for liquid crystal display devices to solve the substrate contamination, such as cross contamination, which occurs in the regenerating solutions of the chemicals used in the manufacturing process described above and the environment of a clean room, more particularly the instability of the device characteristics occurring in metal contamination.例文帳に追加

液晶表示装置の製造過程、クリーンルームの環境や用いる薬品の再生液で生じるクロスコンタミなどで生じる基板汚染、特に金属汚染が起因するデバイス特性の不安定に対して、前記製造過程の主たる工程間の洗浄を管理する。 - 特許庁

In a method for cleaning organic sewage by biological treatment, excess sludge generated from a biological treatment process is irradiated with microwaves to sterilize sludge bacteria and the irradiated excess sludge is returned to the biological treatment process to be digested by the microorganism group in the same process.例文帳に追加

有機性汚水を生物処理により浄化する方法であって、生物処理工程より発生する余剰汚泥にマイクロ波を照射して汚泥細菌を死滅させた後、該余剰汚泥を生物処理工程へ返送して同工程内の微生物群により消化させるものである。 - 特許庁

This sediment cleaning method includes a process for sucking sludge (23h) containing a contaminant, a process for discharging the sludge (23h) into soil (27) at a place where a stirring means (17) is located and a process for kneading the discharged sludge (23h) with the surrounding soil (27) by the stirring means (17).例文帳に追加

汚染物質を包含するヘドロ（２３ｈ）を吸引する工程と、ヘドロ（２３ｈ）を撹拌手段（１７）が位置している箇所の土壌（２７）中に排出する工程と、排出されたヘドロ（２３ｈ）を撹拌手段（１７）により周囲の土壌（２７）に練りこむ工程、とを含んでいる。 - 特許庁

The image forming method is composed of; an electrifying process electrifying an image carrier surface, an exposure process exposing an image carrier and forming an electrostatic latent image, a developing process forming a toner image by having toner transit to the electrostatic latent image, a transfer process transferring the toner image to a recording medium, and a cleaning process cleaning the image carrier surface with a blade.例文帳に追加

像保持体表面を帯電する帯電工程と、像保持体を露光し静電潜像を形成する露光工程と、静電潜像にトナーを転移させトナー像を形成する現像工程と、トナー像を記録媒体に転写する転写工程と、像保持体表面をブレードによりクリーニングするクリーニング工程と、を有し、前記像保持体表面の摩擦係数が０．６〜１．４であり、ブレードの材料が下式（１）〜（３）を満たし、像保持体とクリーニングブレードとの接触部に研磨剤を供給する画像形成方法。 - 特許庁

The polluted soil cleaning method has a process for treating polluted soil while using water containing no nutrient composition for pollution source cleaning microorganisms as water subjected to disintegration to disintegrate soil lumps, a process for dehydrating a part of moisture in polluted soil and a process for accumulating partially dehydrated soil at a predetermined deposition position and adding the nutrient composition for polluted source cleaning microorganisms to soil.例文帳に追加

本発明による汚染土壌の浄化方法は、汚染源浄化微生物向け栄養組成物を含まない水を解砕に供する水として使用しつつ汚染土壌を処理して土壌塊を解砕する工程と、その後、上記汚染土壌中の水分の一部を脱水する工程と、その一部の水分が脱水された土壌を所定の堆積位置に堆積させると同時にその土壌に汚染源浄化微生物向け栄養組成物を添加する工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a cleaning device and an image forming apparatus including the same which can suppress image defects caused by scattering matters from a cleaning blade at the process of removing and collecting of toner by the cleaning blade and which can also collect scattering matters at the time when the cleaning blade is separated for replacement and the like without adversely affecting a usual image formation operation.例文帳に追加

クリーニングブレードによるトナーの除去、回収の過程において、クリーニングブレードからの飛散物による画像不良を抑制し、また交換などでクリーニングブレードを離間させたときの飛散物に対しても、通常の画像形成動作に悪影響を与えることなく捕集することができるクリーニング装置、及びそのクリーニング装置を備えた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning composition which can prevent corrosion of the metal layer on a semiconductor substrate, especially of titanium nitride, and can sufficiently remove plasma etching residue or ashing residue produced in the production process thereof by solving a problem peculiar to a cleaning composition containing a hydroxylamine compound adjusted substantially to neutral, and to provide a cleaning method using the cleaning composition and a method of manufacturing a semiconductor element.例文帳に追加

実質的に中性に調整されたヒドロキシルアミン化合物を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層、特に窒化チタンの腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The process cartridge includes: an electrophotographic photoreceptor; a cleaning unit; and one or more units selected from a charging unit, an exposure unit and a developing unit to be integrated, wherein the photosensitive layer in the electrophotographic photoreceptor includes a charge transport material expressed by the general formula (1), and, a cleaning blade is used as the cleaning unit.例文帳に追加

電子写真感光体、クリーニング手段並びに帯電手段、露光手段、及び現像手段から選ばれる１つ以上の手段が一体となるプロセスカートリッジであって、電子写真感光体の感光層中に下記式（１）で表される電荷輸送物質を有し、クリーニング手段にクリーニングブレードを用いる。 - 特許庁

In a cleaning process of a dicing step, for instance, a semiconductor wafer 200 with a tape electrostatically charged by the cleaning is lifted from a cleaning stage 230 to the specific height h1 by a transferring arm 210, and in this state, the electricity on the surface side of the semiconductor wafer W is removed by an electricity removing means 70.例文帳に追加

例えば、ダイシング工程の洗浄処理において、洗浄に伴い帯電したテープ付半導体ウエハ２００を、搬送アーム２１０によって洗浄ステージ２３０から一定の高さｈ１まで持ち上げ、この状態で除電手段７０により半導体ウエハＷを表面側から除電する。 - 特許庁

To provide a cleaning and drying method and a cleaner and dryer of an electronic device in which the clean surface of a semiconductor substrate can be obtained by controlling the transfer of dust between the semiconductor substrates through an organic solvent layer at the time of pulling up the electronic device (especially, the semiconductor substrate) from a cleaning tank in a drying process following to cleaning.例文帳に追加

洗浄後の乾燥過程において、電子デバイス（特に半導体基板）を洗浄槽より引き上げる際の、有機溶剤層を介しての半導体基板間の異物転写を抑制し、清浄な半導体基板表面を実現できる電子デバイスの洗浄乾燥方法、及び電子デバイス洗浄乾燥装置を提供する。 - 特許庁

In removing the scale generated in a process of generating steam in the pot 41, the cover 102 for cleaning is demounted from a heating chamber side, the nonwoven fabric 114 on which the scale is attached is taken out and cleaned, then the nonwoven fabric 114 after cleaning is placed back in the pot 41, and the cover 102 for cleaning is mounted.例文帳に追加

そして、ポット４１内で蒸気が発生する過程で発生するスケールを除去する際には、加熱室側から掃除用蓋１０２を取り外し、スケールが付着した不織布１１４を取り出して洗浄し、洗浄後の不織布１１４をポット４１内に戻した後に、掃除用蓋１０２を取り付ける。 - 特許庁

A process unit 22 is provided with a primary cleaning roller 82 for catching paper powder on a photosensitive drum 28 and a secondary cleaning roller 83 for catching the paper powder caught by the primary cleaning roller 82 and both the end parts of these rollers 82, 83 in the axial direction are supported by common bearing members 85.例文帳に追加

プロセスユニット２２に、感光ドラム２８上の紙粉を捕捉するための１次クリーニングローラ８２と、その１次クリーニングローラ８２上に捕捉された紙粉を捕捉するための２次クリーニングローラ８３とを設けて、それらの軸方向両端部を、共通の軸受部材８５によってそれぞれ軸受支持させる。 - 特許庁

To solve the problem that a chemical liquid cannot enter a hole easily by the influence of centrifugal force by the rotation of a semiconductor substrate and that of surface tension operating between a cleaning chemical liquid and the sidewall of a fine hole, in a cleaning process of the fine hole having high aspect ratio by a sheet type cleaning apparatus.例文帳に追加

枚葉式洗浄装置による高アスペクト比の微細孔の洗浄過程において、半導体基板の回転による遠心力の影響と、洗浄薬液と微細孔の側壁との間に作用する表面張力の影響とで薬液が孔内に入り込むことが難しく洗浄が困難である。 - 特許庁