「cleaning process」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

The manufacturing method of the filler for carbonyl compound collection has in due order a process (1) for cleaning an inorganic carrier with an organic solvent including an acid material, and a process (2) for allowing the inorganic carrier cleaned in the process (1) to adsorb a hydrazine compound.例文帳に追加

酸性物質を含有する有機溶媒で無機系担体を洗浄する工程（１）と、該工程（１）で洗浄された前記無機系担体にヒドラジン化合物を吸着させる工程（２）とを順に備えたカルボニル化合物捕集用充填材の製造方法としている。 - 特許庁

This is to provide an improved version of a silicon wafer etching method in which an acid etchant and an alkaline etchant are individually stored in a plurality of tanks, and a silicon wafer having a process modified layer formed through a lapping process and a subsequent cleaning process is sequentially immersed in the acid etchant and the alkaline etchant.例文帳に追加

複数のエッチング槽に酸エッチング液とアルカリエッチング液をそれぞれ貯え、ラッピング工程に続いて洗浄工程を経た加工変質層を有するシリコンウェーハを酸エッチング液とアルカリエッチング液とに順次浸漬するシリコンウェーハのエッチング方法の改良である。 - 特許庁

In the immersion lithography apparatus, there are assembled a working stage arranged to retain a workpiece, a projection system for projecting a pattern image, a fluid supply unit which serves during an immersion lithography process to supply an immersion liquid into a gap defined between the optical element of the projection system and the workpiece, and a cleaning device for cleaning the optical element during a cleaning process.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置は、ワークピースを保持するように配置されたワーキングステージと、パターン像を投影させる投影システムと、液浸リソグラフィプロセスの間、投影システムの光学素子とワークピースとの間に画成された隙間に液浸液体を供給する流体供給ユニットと、洗浄プロセスの間に光学素子の洗浄を行うクリーニングデバイスと、が組み込まれている。 - 特許庁

Two cleaning tank lines 12, 13 are arranged in the progress direction of a treatment process, and in order to immerse substrates in each cleaning tank all together in turn for cleaning, a substrate conveyance robot 15 is constituted to be removable in the progress direction of the treatment process and perpendicularly to the progress direction to reduce the installation space of the apparatus.例文帳に追加

処理工程進行方向に沿って２列の洗浄槽列１２，１３を配置するとともに、複数枚の基板を一括して前記各洗浄槽に順次浸漬して洗浄するために、基板搬送ロボット１５を前記処理工程進行方向と、この処理工程進行方向に直交する方向とに移動可能なように構成し、装置の設置スペースの縮小化を図られる。 - 特許庁

Cleaning is carried out by using a cleaning liquid of a pH ≥11 containing ammonia and/or ammonium salt in the method of cleaning the catalyst wet process oxidation equipment packed with the catalysts for subjecting the ammonia in the waste water containing the ammonia and the metals to catalyst wet process oxidation decomposition by passing the waste water through the equipment and bringing the ammonia in the waste water into contact with the catalysts in the presence of an oxidizing agent.例文帳に追加

アンモニア及び金属を含有する排水を通水して該排水中のアンモニアを酸化剤の存在下に触媒と接触させて触媒湿式酸化分解するための触媒が充填された触媒湿式酸化装置を洗浄する方法において、アンモニア及び／又はアンモニウム塩を含む、ｐＨ１１以上の洗浄液を用いて洗浄する。 - 特許庁

To provide a device and a method for processing a substrate capable of improving an efficiency of a cleaning process with the substrate satisfactorily cleaned.例文帳に追加

基板を良好に洗浄しながらも、洗浄処理の処理効率を向上させることができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a means of efficiently cleaning the surface of a photoreceptor drum with a simple means in an image forming apparatus using an electrophotographic process.例文帳に追加

電子写真方式を用いる画像形成装置において、感光体ドラム表面を簡易な手段で、効率よくクリーニングする手段を提供する。 - 特許庁

In particular, the marking step 2 is provided, after a step 1 of peeling the photosensitive layer and prior to a cleaning step 3 in the regeneration process.例文帳に追加

特に、再生工程における感光層の剥離工程１の後であって、洗浄工程３の前にマーキング工程２を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

To improve productivity in a film-forming process by suppressing generation of particles in a processing container and extending a cleaning period in the processing container.例文帳に追加

処理容器内におけるパーティクルの発生を抑制すると共に、処理容器内のクリーニング周期を延伸して成膜処理の生産性を向上させる。 - 特許庁

To provide a film manufacturing method capable of cleaning a substance adhered to a conveyance roll without interrupting a production process and having excellent productivity.例文帳に追加

搬送ロールに付着した付着物を生産工程を中断することなく清掃可能にした生産性に優れたフィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device for manufacturing a semiconductor in which productivity can be enhanced by cleaning off foreign matters adhered to a semiconductor device during the manufacturing process thereof at a high rate.例文帳に追加

半導体デバイスの製造過程で付着した異物を高速で洗浄し、生産性を向上させることが可能な半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electrode for plasma generation used for carrying out cleaning and a reforming process of a base material to be processed damage-free in a pressure atmosphere in the vicinity of the atmospheric pressure.例文帳に追加

大気圧近傍の圧力雰囲気下において、ダメージフリーで被処理基材の洗浄、改質処理を行うプラズマ生成用電極を提供する。 - 特許庁

Preferably, plasma generated outside the chamber 100 in the substrate treatment or a cleaning process is supplied into the chamber 100 via a conduit.例文帳に追加

好適には、基板処理時或いは洗浄処理時にチャンバ１００外部で生成されたプラズマが導管を通してチャンバ１００内に供給される。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and a process cartridge, in which components such as a lubricant can be exchanged easily and moreover, the workability of exchanging cleaning blades is improved.例文帳に追加

潤滑剤等の部品の交換が容易で、しかもクリーニングブレードの交換作業性が良くなる画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To efficiently manage the process of the whole service system for cleaning such as the collection, delivery, etc., of cleaned articles such as linen products of a hospital.例文帳に追加

病院のリネン製品など多量なクリーニング品に対する回収、納品などのクリーニングのサービスシステムの全体の工程を効率よく管理する。 - 特許庁

To provide a thinly layering process by which a semiconductor element substrate is less likely to crack, contamination to the substrate is little, the substrate can be thinly layered, and subsequent, the peeling or cleaning of the substrate is easy.例文帳に追加

割れ難く、半導体素子基板への汚染が少なく、薄く薄層化でき、後の基板剥離や洗浄が容易な薄層化工程を備える。 - 特許庁

The photoreceptor and means selected from among the charging means, developing means, transferring means, cleaning means and neutralizing means are integrated to constitute a process cartridge.例文帳に追加

前記感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段及び除電手段から選択される手段とを一体に構成しプロセスカートリッジとする。 - 特許庁

To provide: a cleaning device for sufficiently removing discharge products adhering on the surface of an image carrier; a process cartridge; and an image forming apparatus.例文帳に追加

像担持体の表面に付着した放電生成物を充分に除去することができる、クリーニング装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a device for processing a substrate by which the substrate is processed with a process liquid, and a cup body and a processing tank are cleaned with a cleaning liquid with a simple configuration.例文帳に追加

簡単な構成で基板を処理液で処理したり、カップ体と処理槽を洗浄液で洗浄できる基板の処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a mask blank and a photomask suitable for a wet process in a large mask for an FPD (such as a resist stripping method, an etching method and a cleaning method).例文帳に追加

ＦＰＤ用大型マスクにおけるウエットプロセス（レジスト剥離方法やエッチング方法、洗浄方法等）に適したマスクブランク及びフォトマスクを提供する。 - 特許庁

Even with a CVD process at low temperature, the growth of a nitride thin film 24 can be started at once after cleaning, and a barrier film 33 of good quality can be also formed.例文帳に追加

低温のＣＶＤプロセスでも、クリーニング後、直ちに窒化物薄膜２４の成長が開始でき、品質のよいバリア膜３３を形成することができる。 - 特許庁

After the last cleaning process 17 using hydrofluoric acid, processes 18 and 19 where polysilicon is cleaned with pure water and then is dried are preferably added.例文帳に追加

最後のフッ酸による洗浄工程１７の後で、上記ポリシリコンを純水で洗浄した後、乾燥する工程１８，１９を含むことが好ましい。 - 特許庁

The water wash process uses a cleaning system 10 which reserves well water L1 in a first water wash tank 12 and pure water L2 in a second water wash tank 14.例文帳に追加

この水洗工程は、第１水洗槽１２には井水Ｌ１を貯留し、第２水洗槽１４には純水Ｌ２を貯留した洗浄システム１０を用いる。 - 特許庁

To improve workpiece bonding strength and to facilitate a cleaning process after machining in a fusion or solidification fixative for machining using ceramic resin.例文帳に追加

セラック樹脂を用いる機械加工用融解・凝固式固定剤において、ワーク接着強度の向上と機械加工後における洗浄工程の容易化を図る。 - 特許庁

Then in a developing process S3, the unexposed part of the photosensitive color resist film is removed by cleaning with water or the like and the pattern of the photosensitive color resist is developed.例文帳に追加

次に現像工程（Ｓ３）で、感光性着色レジスト膜の非露光部を水洗浄等によって除去し、感光性着色レジストのパターンを現像する。 - 特許庁

The tapered end face of the stopper film 4 is removed by etching carried out until an overhand 4H located under the stopper film 4 and generated in a cleaning process is eliminated.例文帳に追加

清浄化工程の際に生じるストッパ膜４の下のオーバハング４Ｈを解消するまでストッパ膜４のテーパ状の端面をエッチングで除去する。 - 特許庁

To prevent the traces of water drops from remaining on substrate substrates in manufacturing process steps, such as cleaning treatment and etching treatment, of liquid crystal display substrates using liquid chemicals.例文帳に追加

液晶ディスプレイ基板の薬液を用いた洗浄処理またはエッチング処理等の製造工程において、基板表面に水滴の跡が残る。 - 特許庁

To provide a post treatment method for preventing a metal strip from being oxidized by a pickling solution remained while stopping the metal strip in a post treatment cleaning process of the pickling.例文帳に追加

酸洗いの後処理洗滌工程において、金属ストリップの停止中に残った酸洗い液により酸化するのを防ぐ後処理方法を提供する。 - 特許庁

The wafer after the wet cleaning process is passed to the bypass conveying mechanism 2406 and passed to the first subpassage A as shown by a movement line L12.例文帳に追加

湿式洗浄処理がなされたウェハは、バイパス搬送機構２４０６に受け渡され、動線Ｌ１２に示すように、第１のサブ通路Ａに受け渡される。 - 特許庁

To provide a cleaning device that includes blades that come into contact with an image carrier and has resistance to chatter vibration, burr generation, and wear loss, a process cartridge, and an image forming apparatus.例文帳に追加

像担持体に当接するブレードにビビリ振動や捲れや磨耗欠損が生じにくい、クリーニング装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pre-treatment agent for metal drying, which prevents irregular appearance or stain after a drying process in a field of water-based metal surface treatment or water-based metal cleaning.例文帳に追加

水系金属表面処理や水系金属洗浄分野において、乾燥ムラ、シミを防止するための金属の乾燥前処理剤を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning method of master carrier which removes depositions to a master carrier without re-attachment by means of a dry process and non-contact and allows magnetic transfer of high transfer quality.例文帳に追加

マスター担体への付着物をドライプロセスおよび非接触で再付着することなく除去して転写品質の高い磁気転写が行えるようにする。 - 特許庁

To provide a wafer grinding apparatus which does not contaminate the wafer surface with grinding powder when grinding the bevel to eliminate the need of the wafer cleaning process after the grinding.例文帳に追加

ベベル研磨時に研磨粉によってウエハ表面が汚染されず、研磨後のウエハ洗浄工程を必要としないウエハ研磨装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus that performs a cleaning process only when toner sticks to a transfer roller.例文帳に追加

本発明は、トナーが転写ローラに付着した場合のみクリーニング処理を行うことのできる画像形成装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

The wet barrel polishing does not require cleaning in the subsequent process, and can polish each surface of the filter chip 1 while rounding the corners thereof.例文帳に追加

湿式バレル研磨では後工程での洗浄が不要になり、フィルタチップ１の各面を研磨するとともに、フィルタチップ１の角を落とすことができる。 - 特許庁

Hydrofluoric acid obtained from the gaseous hydrogen fluoride can be reutilized as the one for cleaning, e.g. in a semiconductor fabrication process as the source of producing a waste liquid.例文帳に追加

フッ化水素ガスから得られるフッ化水素酸を前記、排液発生源の半導体製造工程等の洗浄用としての再利用を可能とする。 - 特許庁

To provide a cleaning process for recovering an anodized aluminum part particularly useful when the part has been exposed to a fluorine-containing plasma in etch reactor.例文帳に追加

陽極酸化アルミニウムパーツを再生するためのクリーニングプロセスは、パーツが、エッチングリアクタにおいてフッ素含有プラズマに露出された時に特に有用である。 - 特許庁

The detonation wave will be followed by the expulsion of a pressurized combustion product, the expelled product emerging as a jet from the downstream end 30 of the detonation conduit and further completing the cleaning process.例文帳に追加

爆轟波に続き、加圧された燃焼生成物が、爆轟管路の下流端部３０から噴流として放出され、洗浄プロセスをさらに仕上げる。 - 特許庁

To prevent lowering of an image quality owing to the residual developer stored on a blade edge part of the cleaning blade, in the image forming device applying electrostatic transfer process.例文帳に追加

静電転写プロセスを利用する画像形成装置における、クリーニングブレードのブレードエッジ部に貯溜する残留現像剤による画質の劣化を防止する。 - 特許庁

CLEANING EQUIPMENT, POLISHING SYSTEM EMPLOYING IT, PROCESS FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE POLISHING SYSTEM, AND SEMICONDUCTOR DEVICE PRODUCED BY THE METHOD例文帳に追加

洗浄装置、この洗浄装置を用いた研磨装置、この研磨装置を用いた半導体デバイス製造方法及びこの方法により製造される半導体デバイス - 特許庁

Then, an outer side upper surface 43d of the process cup 40 is washed with the cleaning liquid dispersed from the holding surface 21a of the rotating spin base 21.例文帳に追加

そして、回転するスピンベース２１の保持面２１ａから飛散した洗浄液によって処理カップ４０の外側上面４３ｄを洗浄する。 - 特許庁

After film forming process, plasma is generated from the cleaning gas with a remote plasma unit 6 different from the processing chamber 1 and the generated plasma is introduced into the processing chamber 1.例文帳に追加

成膜処理終了後に、処理チャンバ１とは別のリモートプラズマユニット６にてクリーニングガスからプラズマを生成して、処理チャンバ１に導入する。 - 特許庁

To provide a semiconductor cleaning agent for removing a residual generating in etching, etc., in a process for manufacturing an element using a ferroelectric material.例文帳に追加

強誘電体材料を用いた素子の製造工程で、エッチング時などに発生する残渣物を除去するための半導体用洗浄剤を提供すること。 - 特許庁

To provide a cleaning method and process capable of stably and efficiently performing the anaerobic treatment of oils and fats-containing wastewater or waste.例文帳に追加

油脂含有排水あるいは油脂含有廃棄物の嫌気性処理を安定的かつ効率的に行うことのできる浄化方法及び浄化プロセスを提供する。 - 特許庁

To provide a grinding apparatus for the edge of a semiconductor device whereby a cleaning process performed after grinding the outer peripheral edge of the semiconductor device can be made unnecessary.例文帳に追加

半導体デバイスの外周エッジ部を研削した後の洗浄工程を不要にすることができる半導体デバイスのエッジ部の研削装置を提供する。 - 特許庁