「cleaning process」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

In the manufacturing process, the cleaning liquid is injected to a one-piece unit comprising the printing head 2, the manifold 3 and the buffer tank 5, thereby removing foreign matter.例文帳に追加

製造工程において、印字ヘッド２、マニホールド３及びバッファタンク５からなる一体のユニットに洗浄液を注入し、異物を除去する。 - 特許庁

To extend a cycle period of a process cleaning a product material deposited on a substrate cart and improve the work efficiency when a thin film is formed.例文帳に追加

薄膜を形成する際、基板カートに堆積する生成物を洗浄する処理のサイクル期間を長くして、作業効率の向上を図る。 - 特許庁

The process cartridge includes a photoreceptor unit 12A, an electrification unit, a developing unit 14A, a cleaning unit 15A and a toner feed unit 16A.例文帳に追加

感光体ユニット１２Ａと、帯電ユニットと、現像ユニット１４Ａと、クリーニングユニット１５Ａと、トナー供給ユニット１６Ａとを備えたプロセスカートリッジ。 - 特許庁

To provide a lubricant supply device that reliably suppresses the scattering of a lubricant, and to provide a cleaning device, a process cartridge, and an image forming apparatus.例文帳に追加

潤滑剤の飛散が確実に抑止される、潤滑剤供給装置、クリーニング装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a polymerization toner, the method characterized in an effective cleaning method on a manufacturing apparatus in a toner manufacturing process.例文帳に追加

トナー製造工程にて製造装置の効果的な洗浄方法を特徴とする重合トナーの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The method comprises the step of supplying a cleaning plasma for removing the coating material from the patterning device by means of a plasma etching process.例文帳に追加

この方法は、パターニングデバイスからコーティング材料をプラズマエッチング処理により除去するための洗浄プラズマを供給する工程を含む。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and a process cartridge having stable cleaning performance independently of the conditions of formed images and image area ratio.例文帳に追加

形成される画像の状態、画像面積率によらず安定したクリーニング性能を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To surely secure a cleaning effect resulting from a liner in a magnetic disk cartridge having the liner without complicating a manufacturing process.例文帳に追加

ライナーを有する磁気ディスクカートリッジにおいて、製作工程を煩雑にすることなく、ライナーによるクリーニング効果を高く確保できるようにする。 - 特許庁

10^-4Pa or less is desirable for the base degree of vacuum of the process, ion-etching processing is desirable for the cleaning processing.例文帳に追加

前記工程のベース真空度は、１０^−４Ｐａ以下であることが好ましく、前記清浄化処理は、イオンエッチング処理であることが好ましい。 - 特許庁

The manufacturing method of a proton conductor (10) comprises a process of cleaning the proton conductor (10), consisting of SnP_2O_7, by water or alcohol (20).例文帳に追加

プロトン伝導体（１０）の製造方法は、ＳｎＰ_２Ｏ_７からなるプロトン伝導体（１０）を水またはアルコール（２０）で洗浄する工程を含む。 - 特許庁

To provide a degreasing method by which sufficient removal of oil and degreased quality can be achieved only by a preliminary degreasing (preliminary cleaning) process.例文帳に追加

予備脱脂（予備洗浄）に始まる所定の工程のみで充分な油分除去と脱脂品質の得られる脱脂洗浄方法を提供する。 - 特許庁

Further, after a wet-cleaning process, a small upper contact opening is obtained, and deformation of the contact opening caused by an annealing processing is decreased.例文帳に追加

更に、ウェット洗浄工程後、小さな上部接触開口部が得られると共に、アニール処理による接触開口部の変形が低減される。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a membrane module by which the effective flow recovery of the membrane module can be realized in the process of chemical cleaning of the membrane module used for oil water separation to remove emulsified oil from waste oil containing oil.例文帳に追加

含油廃油から乳化油を除去するための油水分離で使用した膜モジュールの薬品洗浄において、膜モジュールの流量化を有効に回復させうる膜モジュールの洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning agent composition used in a silicon wafer manufacturing process using semi-aqueous system, which is free from liquid separation (oil-water separation) even if it is diluted with water in use and is excellent in cleaning performance and rinsing performance.例文帳に追加

使用時に水で希釈しても液分離（油水分離）せず、しかも、洗浄性及びすすぎ性に優れた準水系のシリコンウエハ製造工程で使用するための洗浄剤組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a lubricant supply device that reduces chips on a cleaning blade to reliably prevent the occurrence of poor cleaning, and prolongs the life of solid lubricant, as well as a process cartridge, and an image forming apparatus.例文帳に追加

クリーニングブレードの欠けを軽減してクリーニング不良の発生を確実に防止するとともに、固形潤滑剤が高寿命化される、潤滑剤供給装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Corrosion resistance of a piping system can be kept by using pure water, and the need of washing away a cleaning agent or an abrasive for brushing can be obviated, so that the cleaning process can be simplified.例文帳に追加

高圧液体ジェットとして、純水を用いることにより配管系の耐食性が保持され、且つ、洗浄剤、ブラシ磨き用研磨剤等を洗い落とす必要がなくなり、洗浄工程を簡素化することができる。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a substrate in which burrs occurring on the element forming surface of a substrate through probe test can be removed, and to provide a process for producing a semiconductor device and equipment for cleaning a substrate.例文帳に追加

プローブ検査によって基板の素子形成面にカエリが生じた場合でも、このカエリを除去することができる基板清浄方法及び半導体装置の製造方法、並びに基板清浄装置を提供する。 - 特許庁

To provide a process whereby a multipurpose cleaning liquid friendly to human beings and to the environment is produced while correcting the defects of conventional multipurpose cleaning liquids.例文帳に追加

一種の環境保護多目的洗浄液の製造方法だが、従来の洗浄液の欠点を改善し、人と環境に優しく洗浄効果の高い多目的洗浄液の製造方法を発明することが課題である。 - 特許庁

At this time, a centrifugal force is generated by synchronizing a cleaning process fluid nozzle with the rotation of the substrate, and the foreign objects separated from the substrate surface are quickly removed to carry out cleaning of the substrate surface efficiently.例文帳に追加

このとき、洗浄処理流体ノズルと基板の回転を同期させることで遠心力を発生させ、基板表面から離脱させられた異物を速やかに排除し、基板表面の洗浄を効率的に行う。 - 特許庁

To provide a cleaning blade capable of maintaining contact pressure by suppressing turning up of a front end ridge portion of the cleaning blade and improving followability for a body to be cleaned of the front end ridge portion, and an image forming apparatus, and a process cartridge.例文帳に追加

先端稜線部のめくれを抑制し、かつ、先端稜線部の被清掃体に対する追随性を良好にでき当接圧を維持することができるクリーニングブレード、画像形成装置、及び、プロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To easily determine whether a defect left on a mask substrate after cleaning processing is carried out on the mask substrate is caused by the cleaning processing process or an internal defect of the mask substrate itself.例文帳に追加

マスク基板に対して洗浄加工を行なった場合の洗浄加工後にマスク基板に残る欠陥が洗浄加工プロセスによるものなのか、マスク基板自体の内部欠陥によるものなかを容易に判定する。 - 特許庁

To provide a phase shift mask which prevents haze, by heat treating a patterned lightproof film (MoSiON) in order to suppress permeation of residual ions contained in a cleaning solution through the phase shift mask at wet cleaning process.例文帳に追加

パターニングされた遮光膜（ＭｏＳｉＯＮ）を熱処理することにより、湿式洗浄の際、洗浄液に含まれている残留イオンの位相シフトマスク内への浸透を抑制してヘイズを防止する位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

The semiconductor surface treating agent in this invention is useful as a developing solution, remover, or cleaning solution used for a semiconductor manufacturing process, and also useful as a polishing solution of CMP and its post-treatment cleaning solution.例文帳に追加

本発明の半導体表面処理剤は、半導体製造工程で用いられる現像液、剥離液あるいは洗浄液として有用であるほか、ＣＭＰの研磨液やその後処理洗浄液としても有用である。 - 特許庁

To provide a cleaning device capable of satisfactorily recovering toner with a positive polarity and toner with a negative polarity stuck to a cleaning brush even in a low temperature-low humidity environment, to provide a process cartridge, and to provide an image forming apparatus.例文帳に追加

低温低湿環境下であっても、クリーニングブラシに付着した正極性トナーと、負極性のトナーとを良好に回収することのできるクリーニング装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The controller controls the elevating motor 17 so as to adjust the torque of the driving motor 15 to a predetermined value, in the cleaning process of bringing the cleaning roller 14 into contact with the inside surface Ti of the tread and rotating.例文帳に追加

制御装置は、研掃ローラ１４をトレッド内腔面Ｔｉに接触させかつ回転させる研掃工程において、駆動用モータ１５のトルクが予め定められた設定値となるように昇降用モータ１７を制御する。 - 特許庁

To solve the problem that a raw material of an inkjet head is damaged and a process failure may occur when a power of an ultrasonic wave is raised in order to enhance the cleaning effect in an ultrasonic cleaning of the raw material of the inkjet head.例文帳に追加

インクジェットヘッド原料の超音波洗浄において、洗浄効果を上げるために、超音波のパワーを上げるとインクジェットヘッド原料を損傷して工程不良が発生するという問題を解決する。 - 特許庁

To provide an assembling device and method that can reduce the processing tact time in the assembling work by improving the efficiency in the cleaning process of the connector terminals, and a terminal cleaning device.例文帳に追加

外部接続用端子の洗浄工程の作業効率を改善して、組立作業のタクトタイムを短縮することができる組立装置および組立方法ならびに端子洗浄装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a cleaning method for subjecting the surplus sludge produced in a first process for carrying out a cleaning treatment of organic wastewater in a first biological treating vessel to a biological treatment in a second biological treating vessel.例文帳に追加

有機質排水を第一生物処理槽で浄化処理する第一工程において、生じた余剰汚泥を次の第二工程の第二生物処理槽等で生物処理をする浄化方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photoreceptor unit, a process cartridge and an image forming apparatus, capable of easily carrying out both of positional adjustment of a cleaning blade and exchange of a charging roller cleaning member upon recycling the photoreceptor unit.例文帳に追加

感光体ユニットのリサイクルの際、クリーニングブレードの位置調整と帯電ローラ清掃部材の交換を同時且つ容易に行うことが可能な感光体ユニット、プロセスカートリッジおよび画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit device capable of improving the throughput, reducing the cost of a cleaning gas, and prolonging the life of a process kit by automatically detecting the end time point of cleaning in a chamber.例文帳に追加

チャンバ内のクリーニングの終了時刻を自動検出して、スループットの向上、クリーニングガス費の低減およびプロセスキットの長寿命化を図ることができる半導体集積回路装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Meanwhile, after the quartz plate 2 is transferred to a cleaning unit by the transfer mechanism and then cleaned (step S5: cleaning process), the quarts plate 2 is returned to a plate member cassette and then stored therein until the plate is re-used.例文帳に追加

一方、石英板２については、搬送機構によって洗浄ユニットに搬送されて洗浄された（ステップＳ５：洗浄処理）後、板状部材用カセットに戻され、次に再利用されるまで該カセット内で待機される。 - 特許庁

To provide a resin for cleaning which is effective to clean a residual preceding resin in a molding machine at the time of resin replacement or color changeover in molding process of a transparent resin, and a resin composition for cleaning using the same.例文帳に追加

透明性樹脂の成形加工を行う際の、樹脂換えや色換え時に、成形機内の残留先行樹脂の洗浄に有効な洗浄用樹脂及びそれを用いた洗浄用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning agent efficiently removing scales produced in a paper pulp production process and sticking/depositing on production equipment such as a pipe or an apparatus in a short time and to provide a method for cleaning.例文帳に追加

紙・パルプ製造工程中で生じて配管や装置等の製造設備に付着・堆積するスケールを短時間で効率よく除去することができる洗浄剤および洗浄方法を提供することである。 - 特許庁

The substrate cleaning method jets cleaning gas consisting of water vapor on the surface of the substrate after plasma washing the substrate having on the surface the resist used in an ion implantation process or the like.例文帳に追加

イオン注入工程などにおいて使用されたレジストを表面に有する基板を、１分未満のプラズマアッシングした後、水蒸気からなる洗浄ガスを該基板表面に噴射することを特徴とする基体洗浄方法。 - 特許庁

The sizing agent containing the cyclodextrin incorporating the smell is removed by cleaning its rinsing process on re-cleaning the fibrous products in each time, and is substituted by a new sizing agent in its final sizing treatment.例文帳に追加

さらに、臭気が取り込まれたシクロデキストリンを含むサイジング剤は、その繊維製品を再クリーニングする度に、その水洗工程で洗浄除去され、仕上げのサイジング処理により新しいサイジング剤に入れ替わる。 - 特許庁

To minimize the amount of the use of a photoresist removal solution and properly minimize a required time for a photoresist process by estimating optimum values of a distance between semiconductor wafers and a cleaning time of the semiconductor wafers upon cleaning the semiconductor wafers.例文帳に追加

フォトレジスト除去液の使用量を最小限にし、かつ、フォトレジスト工程の所要時間を適正最小にするため、洗浄時の半導体ウエハ間距離と半導体ウエハの洗浄時間との最適値を策定する。 - 特許庁

To provide a cleaning device which excellently controls polarity of non-transferred toner, maintains good cleaning performance and achieves energy saving, an image forming apparatus, and a process cartridge.例文帳に追加

転写残トナーの極性制御を良好に行うことができ、良好なクリーニング性能を維持することができ、かつ、省エネルギー化を実現することのできるクリーニング装置および画像形成装置およびプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a method for economically advantageously collecting and recycling a cleaning water from an impregnant-containing cleaning waste water generated in an impregnation process for the object materials such as cast products using a water-soluble impregnant liquid.例文帳に追加

水溶性含浸液を用いた、鋳造品等の対象物の含浸工程において発生する、含浸液含有洗浄廃水から、洗浄水を経済的に有利に回収して、再利用し得る手法を提供する。 - 特許庁

The cleaning method of electronic material is characterized in that a material is processed to obtain an electronic material, and then the cleaner composition for electronic material is used for cleaning the electronic material after the process.例文帳に追加

本発明の電子材料の洗浄方法は、被加工材を加工して電子材料を得て、次いで、本発明の電子材料用洗浄剤組成物を用い、加工後の電子材料を洗浄することを特徴とする。 - 特許庁

One of the alternative cleaning techniques is a vacuum hydrocarbon agent cleaner. By sealing up the cleaning process, it prevents any leakage of solvent, and also reduces the use of detergents by up to 1/5. 例文帳に追加

代替洗浄技術の一つとして、真空炭化水素系溶剤洗浄機があります。洗浄工程を密閉することで、洗浄剤を外に漏洩せず洗浄剤使用量を五分の一に減らすことができます。 - 経済産業省

To solve the problem that a cleaning frame and a shutter shaft are sometimes deformed because a finger often reaches the cleaning frame at the tip of the shaft of a shutter member when grasping a small process cartridge with a hand as a way to use.例文帳に追加

使い方として、小型のプロセスカートリッジを手でつかむと、シャッター部材の軸の先のクリーニング枠体まで指が届くことが多く、クリーニング枠体、シャッター軸を変形させることがあるのを解消する。 - 特許庁

To provide a cleaning device which achieves high removal performance while suppressing the wear of a surface moving member to be cleaned and a cleaning blade, and can more reliably maintain the contact state of the surface moving member and the cleaning blade, and to provide an image forming apparatus equipped with the cleaning device, a process cartridge, a recording material conveyance unit and an intermediate transfer unit.例文帳に追加

クリーニング対象である表面移動部材及びクリーニングブレードの摩耗を抑止しつつ高い除去性能が得られ、且つ、表面移動部材とクリーニングブレードとの当接状態を経時でより確実に維持できるクリーニング装置、並びに、これを備える画像形成装置、プロセスカートリッジ、記録材搬送ユニット、及び、中間転写ユニットを提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning method for a melt-spinning spinneret capable of thoroughly cleaning foreign matters such as carbides of polymers, additives, inorganic additives contained in coating materials for cleaning the spinneret face for use during the spinning process, that could not be fully removed by a conventional spinneret cleaning method, in addition to removing these foreign matters without corroding the spinneret.例文帳に追加

従来の口金洗浄方法では、完全に除去できなかったポリマーの炭化物や添加剤、紡糸途中で使用する口金表面洗浄用塗布剤に含まれる無機添加物等の異物を、十分に洗浄することを提供することにあり、さらには口金を腐食することなくこれら異物を除去することが可能な洗浄方法を提供する。 - 特許庁

The cleaning process comprises a process to heat the substrate to be processed to a first temperature, a process to introduce the gas which mixes chlorine and nitrogen and has the atomic ratio of chlorine and nitrogen of 9:1 to 5:5, and a process to apply the radio frequency wave power to an electrode 2 to which the substrate to be processed is set.例文帳に追加

前記クリーニングする工程は、前記被処理基板を第１温度に加熱する工程と、塩素と窒素とを含み且つ前記塩素と窒素との原子比が９対１乃至５対５であるガスを導入する工程と、前記被処理基板が載置される電極２に高周波電力を印加する工程とを含む。 - 特許庁

In a method for producing bleached pulp by treating unbleached pulp obtained by digesting hardwood material in an alkali oxygen bleaching process and subsequently in a multistage bleaching process, the alkali oxygen bleaching process is carried out by using a three stage continuous reaction tower and solely installing a cleaning process between the second reaction tower and the third reaction tower.例文帳に追加

広葉樹材を蒸解して得られる未漂白パルプをアルカリ酸素漂白工程で処理し、次いで多段漂白工程で処理して漂白パルプを製造する方法において、三段の連続した反応塔を用い、かつ二段目と三段目の反応塔の間にのみ洗浄工程を設けてアルカリ酸素漂白工程を行う。 - 特許庁