「cleaning process」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a process cartridge and an image forming apparatus having an image carrier having a high loss tangent and of high durability, wherein an abnormal vibration occurring between the image carrier and a cleaning member such as a cleaning blade is suppressed while maintaining a cleaning function of cleaning the image carrier, and an abnormal noise caused by the abnormal vibration is avoided.例文帳に追加

高い損失正接を有し耐久性の高い像担持体を備えながら、像担持体をクリーニングするためのクリーニング機能を維持しつつ、像担持体とクリーニングブレード等のクリーニング部材間で発生する異常振動を抑制し、それによる異常音発生を回避したプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning method capable of steadily and efficiently performing the anaerobic treatment of oils and fats containing wastewater and oils and fats containing waste by optimally controlling a methane fermentation reaction which is a total result of co-work by many kinds of microorganisms, and to provide a cleaning process and a cleaning device used for the cleaning method.例文帳に追加

多種類の微生物による共同作業の総括的な結果であるメタン発酵反応を最適に制御することにより、油脂含有排水あるいは油脂含有廃棄物の嫌気性処理を安定的かつ効率的に行うことのできる浄化方法及び浄化プロセス並びに装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning device which imparts a polishing effect excellent in a long period of time to the cleaning blade itself, improves the durability of the cleaning blade and an image carrier, and removes the deposits on the surface of the image carrier by the cleaning blade, and also to provide a process cartridge equipped therewith, and an image forming apparatus.例文帳に追加

クリーニングブレードそのものに長期的に優れた研磨効果を持たせ、クリーニングブレードと像担持体の耐久性を向上させ、前記クリーニングブレードによって像担持体表面の付着物を除去するクリーニング装置、これを備えたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

After receiving and cleaning (process F11a and process F11b), a polyolefin resin, a masking material 1 e.g. polystyrene or polypropylene, etc., decomposed by a solvent is applied onto a signal input terminal (process F12a) and hardening, etc., is performed to form masking (process F13a).例文帳に追加

受入洗浄（工程Ｆ１１ａおよび工程Ｆ１１ｂ）の後、信号入力端子上に溶剤で分解するポリオレフィン系樹脂、例えばポリスチレンまたはポリプロピレン等のマスキング材料１を塗布（工程Ｆ１２ａ）し、硬化等を行うことによってマスキングを形成（工程Ｆ１３ａ）する。 - 特許庁

The method comprises a process for obtaining membrane-filtered water from raw water, a process for obtaining ozone-treated water by adding ozone to part of the membrane-filtered water, a process for backflow-cleaning a membrane by supplying the ozone-treated water from the filtrate side of a membrane filtration means, and a process for preventing the mixing of ozone at the start of filtration.例文帳に追加

原水より膜ろ過水を得る工程と、膜ろ過水の一部にオゾンを添加してオゾン処理水を得る工程と、オゾン処理水を膜ろ過手段のろ過水側から供給して膜を逆流洗浄する工程と、ろ過開始時にオゾンの混入を防止する工程とから成ること。 - 特許庁

The method for cleaning a process chamber 12 of a CVD apparatus 11 introduces a gas activated in a remote plasma generating device 30 into the process chamber 12, and further activates the gas in the process chamber, and makes the gas react with a deposited substance in the process chamber and exhausts it therefrom.例文帳に追加

ＣＶＤ装置１１のプロセスチャンバー１２のクリーニング方法であって、リモートプラズマ発生装置３０において活性化したガスを前記プロセスチャンバー１２に導入し、該プロセスチャンバーにおいて更に前記ガスを活性化し、前記プロセスチャンバー内の堆積物とを反応させ、排気するものである。 - 特許庁

In the case the cleaning process in the process chamber 2 is executed after the end of a deposition process, gaseous C4F6 is supplied to a fluorine forming section 19 and the gaseous C4F6 is irradiated with microwaves by a microwave irradiation device 18 in the state of continuing the reduced pressure evacuation of the inside of the process chamber 2 by a pump 9.例文帳に追加

成膜プロセスの終了後、プロセスチャンバー２内のクリーニングプロセスを実行する場合、ポンプ９によるプロセスチャンバー２内の減圧排気を継続した状態で、Ｃ_4Ｆ_6ガスをフッ素生成部１９に供給すると共に、マイクロ波照射装置１８によりマイクロ波をＣ_4Ｆ_6ガスに照射する。 - 特許庁

Or, the method comprises a first process in which the optical cleaning is carried out to the above substrate 2 through the opening part of the mask 14, and a second process in which the above organic compound 4B is selectively deposited on the region of the substrate 2 where the above optical cleaning is carried out.例文帳に追加

または、マスク１４の開口部を介して上記基板２に対して光クリーニングを行う第１の工程と、上記基板２の上記光クリーニングが行われた領域に上記有機化合物４Ｂを選択的に堆積させる第２の工程とを有する。 - 特許庁

To provide a masking magnet jig in which small magnet pieces embedded in a pattern before a cleaning process need not be removed in a cleaning process after the vapor deposition, the pattern forming area is not limited, and a plurality of plate masks are excellent in adhesion.例文帳に追加

マスキング磁石治具において、蒸着後の洗浄工程においても洗浄工程の前にパターン中に埋め込まれた磁石小片を取り除く必要もなく、しかもパターン作成面積が制約されることもなく、複数板マスクが密着性を良好にする。 - 特許庁

This image forming method includes a charge process, an exposure process, a developing process, a transfer process, a fixing process, and a cleaning process for cleaning transfer residual toner on an image carrier.例文帳に追加

帯電工程、露光工程、現像工程、転写工程、定着工程及び像担持体上の転写残トナーをクリーニングするクリーニング工程とを含む画像形成方法において、画像形成に用いられるトナーは、水系造粒により作製され、温度および荷重条件が以下の範囲で７日間静置させた後に、目開き７５μｍの篩を用いて、振とう幅１ｍｍで３０秒間篩がけを行った際に篩の上に残存する前記トナー量が０．５ｍｇ／ｇ以下であることを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁

The photoresist peeling process includes three processes: a metal wiring exposure process of performing full ashing by using a mixed gas with a fluorocarbon gas containing oxygen and hydrogen; a cleaning process of cleaning by pure water; and an ashing process by a plasma using oxygen.例文帳に追加

塩素ガス又は塩素を含む反応ガスを用いるドライエッチング工程である金属配線形成工程と、ホトレジストを剥離するホトレジスト剥離工程とを有し、このホトレジスト剥離工程は、酸素と水素を含むフッ化炭素との混合ガスを用いフルアッシングする金属配線露出工程と、純水により洗浄する洗浄工程と、酸素を用いるプラズマでアッシングと、の３つの工程からなる。 - 特許庁

To provide a magnetic disk substrate which can reduce contamination of a cleaning machine during cleaning of a substrate and can reduce contamination of/damage to an inspecting head in a manufacturing process of an one-side magnetic disk.例文帳に追加

片面磁気ディスクの製造工程において、基板洗浄の際の洗浄機の汚染や、検査ヘッドの汚染・損傷を低減することができる磁気ディスク用基板を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a stencil reticule for charged particle ray alignment hardly generating deformation or agglutination of an opening part on a membrane in a drying process after cleaning, and to provide the cleaning method.例文帳に追加

洗浄後の乾燥工程においてメンブレン上の開口部の変形や凝着が生じにくい荷電粒子線露光用ステンシルレチクル及びその洗浄方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a means which effectively and efficiently executes a process for cleaning a surface layer of a CVD-SiC film of a goods such as a member for semiconductor manufacture by oxidizing and acid cleaning.例文帳に追加

半導体製造用部材などの物品のＣＶＤ‐ＳｉＣ膜の表層を酸化と酸洗浄とにより清浄化する工程が、より効果的にかつより効率良く行える手段を提供する。 - 特許庁

To obtain a cleaning apparatus capable of stably cleaning a residue on an image carrier over a long period and suppressing the damage of the image carrier as much as possible, and to obtain a process unit and an image forming apparatus.例文帳に追加

長期的に安定して像担持体上での残留物を清掃することができ、かつ、像担持体へのダメージを極力抑制することのできるクリーニング装置、プロセスユニット及び画像形成装置を得る。 - 特許庁

To provide an independent tubular blanket cleaning system which enables a blanket tube removed from a printing unit to be restored to its original clean condition through a cleaning process and mounted back on the printing unit at any time.例文帳に追加

印刷ユニットから取り外されたブランケット管を、洗浄し新品状態に戻してから、いつでも印刷ユニットに取り付けられるようにする、独立した管状ブランケット洗浄システムを提供する。 - 特許庁

To provide a sewage cleaning apparatus and sewage cleaning method, capable of achieving long-term stable operation without causing occlusion of a membrane in adopting a biological treatment method different from an activated sludge process.例文帳に追加

活性汚泥法とは異なる生物処理法を採用する場合に、濾過膜の閉塞を招くことなく、長期にわたり安定稼動可能な汚水処理装置及び汚水処理方法を提供する。 - 特許庁

In the template treatment of forming films of a release agent on surfaces of templates, surfaces of a plurality of templates are first cleaned by dipping the templates in a cleaning solution reserved in a cleaning solution tank (process A2).例文帳に追加

テンプレートの表面に離型剤を成膜するテンプレート処理では、先ず、洗浄液槽に貯留された洗浄液中に複数のテンプレートを浸漬させ、当該テンプレートの表面を洗浄する（工程Ａ２）。 - 特許庁

Based upon a result thereof, it can easily be determined whether a defect which cannot be removed through the cleaning processing is the defect in the substrate or caused owing to a problem of the cleaning processing process.例文帳に追加

その結果に基づいて洗浄加工によって除去できなかった欠陥が基板内部の欠陥であるのか、洗浄加工プロセスの問題によるものかを容易に判定することができるようになる。 - 特許庁

To provide a cleaning solution for semiconductor substrates having excellent cleaning properties to particular foreign materials and ionic foreign materials on the semiconductor substrates after CMP process, and excellent in temperature dependent stability.例文帳に追加

ＣＭＰプロセス後の半導体基板上の粒子状異物やイオン状異物に対する優れた洗浄性を有し、かつ温度に対する安定性にも優れた半導体基板用洗浄液を提供する。 - 特許庁

To remove components of a solvent that is used for polymer residue removal when a wet cleaning process is included in a standard post-photoresist-etching cleaning method for porous materials used in semiconductor device manufacturing.例文帳に追加

半導体装置製造で多孔質材料のための標準的ホトレジストエッチング後のクリーニング法は、湿式クリーニングを含み、その場合、重合体残留物を除去するため溶媒を用いる。 - 特許庁

To improve the cleaning property by removing a water-soluble lubricating oil adhered to a surface of a very small wire in a drawing process in the whole circumferential direction to suppress the pollution of a cleaning solution.例文帳に追加

伸線工程において極細線の表面に付着した水溶性潤滑油を全周方向において除去することができるようにし、洗浄液の汚染を抑え洗浄性を向上する。 - 特許庁

To improve products in yield by a method, where particles are prevented from readhering to a processed substrate, in a process where the processed substrate is immersed into a processing solution and a cleaning solution for processing and cleaning.例文帳に追加

被処理基板を処理液及び洗浄液に浸漬して洗浄処理を施す過程における被処理基板へのパーティクルの再付着の防止等により製品歩留まりの向上を図れるようにすること。 - 特許庁

It is preferable that the quantity of the cleaning gas to be introduced into the tank in the cleaning process is controlled to 1.5-7.5 times of the volume of the adsorbent in the tank expressed in terms of ordinary temperature and atmospheric pressure.例文帳に追加

好ましくは、洗浄工程において槽内に導入される洗浄ガスの量を、常温・大気圧に換算して、当該分離槽内における吸着剤の容積の１．５〜７．５倍とする。 - 特許庁

To produce an exhaust gas cleaning catalyst capable of inhibiting any increase in particle size of catalytic metal particles caused by sintering, and any reduction of NOX cleaning capability caused by this catalytic metal particle size increase, and also to provide a production process of the catalyst.例文帳に追加

シンタリングによる触媒金属粒子の肥大化及びそれに起因するＮＯｘ浄化性の低下を抑制しうる排気ガス浄化用触媒及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning device capable of suppressing the entanglement of a blade member provided on the downstream side of the cleaning member in the moving direction of a body to be cleaned, and to provide an image forming apparatus and a process cartridge.例文帳に追加

クリーニング部材よりも被クリーニング体移動方向下流側に設けられたブレード部材の巻き込みを抑制することができるクリーニング装置、画像形成装置およびプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To prevent generation of soiling by cleaning on a transfer image surface by basically maintaining a constant state of load by not having a cleaning process overlap while transferring to an intermediate transfer body.例文帳に追加

中間転写体への転写中にはクリーニング工程が重ならないようにして一定負荷状態に維持することを基本として、転写画像面のクリーニング汚れを生じないようにすることである。 - 特許庁

To provide an apparatus for cleaning having no gap space and preventing leakage of mist due to liquid sprayed during a cleaning process outside the apparatus and causing contamination and corrosion.例文帳に追加

隙間空間がなく洗浄工程中に噴射された液体によるミストが洗浄装置の外部に漏出し汚染及び腐食作用をおこすことを防止する洗浄装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide an image forming method, an image forming apparatus and a process cartridge capable of improving qualities of images, cleaning property of toner and durability of a cleaning blade.例文帳に追加

本発明は、画像の品質、トナーのクリーニング性及びクリーニングブレードの耐久性を向上させることが可能な画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することを目的とする。 - 特許庁

The system or process having a primary cleaning system 20 for removing the predominant amount of the residual toner and debris in an operative position and a secondary spot cleaning system 30 for shearing agglomeration is constituted.例文帳に追加

動作位置にて残留トナー及び堆積物の大部分を除去する一次クリーニングシステム２０と、凝集物を刈り取るための二次スポットクリーニングシステム３０とを有するシステム乃至プロセスを構成する。 - 特許庁

To provide a cleaning member capable of preventing abnormal sound from being produced by vibration and attaching accuracy from getting low by the integration of work tolerance, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus using the cleaning member.例文帳に追加

振動による異音発生防止と、加工公差の積み上がりによる取り付け精度低下を防ぎ得るクリーニング部材と、及びこれを用いたプロセスカートリッジ、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning system restraining a white spot from being formed at a solid image part to thereby provide an excellent image, and a process cartridge and an image forming apparatus each equipped with the cleaning system.例文帳に追加

べタ画像部分に白ポチが発生するのを抑制して良好な画像を得ることができるクリーニングシステムおよび該クリーニングシステムを備えたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

A process unit 22 is provided with a primary cleaning roller 82 for catching paper powder on a photosensitive drum 28, a secondary cleaning roller 83 for catching paper powder caught by the primary cleaning roller 82 and a paper powder storing part 94 arranged on the opposite side of the primary cleaning roller 82 through the secondary cleaning roller 83 to store paper powder caught by the roller 83.例文帳に追加

プロセスユニット２２に、感光ドラム２８上の紙粉を捕捉するための１次クリーニングローラ８２と、その１次クリーニングローラ８２上に捕捉された紙粉を捕捉するための２次クリーニングローラ８３と、２次クリーニングローラ８３を挟んで１次クリーニングローラ８２の反対側に、２次クリーニングローラ８３によって捕捉された紙粉を貯留するための紙粉貯留部９４とを設ける。 - 特許庁

The cleaning method of the base for the electrophotography photoreceptor includes the steps of cleaning and drying a base 100 to which a cutting process is performed, then cleaning the base 100 by contacting an adhesion rubber material 130 with the base 100 to remove extraneous matters in a dried state, and thereafter performing a jet cleaning with a cleaning fluid and drying.例文帳に追加

電子写真感光体用の基体を洗浄する方法であって、切削加工処理が施された基体１００を脱脂洗浄、乾燥処理し、その後、乾燥状態で粘着ゴム材１３０を基体１００の表面に当接させることで付着物を粘着させて除去洗浄し、該除去洗浄の後に、洗浄液によるジェット洗浄処理、乾燥処理を行うことを特徴とする。 - 特許庁

Accordingly, the single wafer substrate cleaning facility and backside cleaning method of substrate, which can simplify a process step and saving a cost therefor by simplifying the facility for cleaning the backside of substrate and can minimize the contamination of the substrate by particles, can be provided.例文帳に追加

従って、基板の裏面を洗浄するための設備を簡素化して費用を節減し、工程ステップを簡素化することができ、パーティクルによる基板の汚染を最小化できる枚葉式基板洗浄設備及び基板の裏面洗浄方法を提供することができる。 - 特許庁

To provide an apparatus for cleaning a needle capable of enhancing drying by blowing a cleaning solution adhered to the needle 2 without using a contact material and the like and preventing the cleaning solution from contaminating a sample solution when sucking it at a subsequent process.例文帳に追加

ニードル２に付着した洗浄液を接触物質等を用いることなく吹き飛ばして乾燥を促進させることができ、次工程における吸入時に洗浄液が試液内に混入してしまうことを防止することができるニードル洗浄装置を提供する。 - 特許庁

Cleaning and inspection are executed under a state that a probe is fixed by mounting a cleaning unit 11 for removing foreign matters from a probe by means of laser radiation and a work unit 12 for executing an inspection process inside the probe inspection apparatus 1 so that the cleaning unit 11 and the work unit 12 can move.例文帳に追加

プローブ検査装置１の内部に、レーザ照射によってプローブから異物を除去するクリーニングユニット１１と検査処理を実行するワークユニット１２とを移動可能に設けることでプローブを固定した状態でクリーニングと検査処理とを実行可能とする。 - 特許庁

To provide a cleaning device capable of simplifying the production process and reducing the production cost by supplying a voltage generated from an electrifier to a cleaning roller or a secondary roller without requiring an exclusive high voltage power supply device, and an image forming apparatus provided with the cleaning device.例文帳に追加

帯電器の発生する電圧をクリーニングローラや２次ローラに供給し、専用の高圧電源装置を必要とせず、生産工程の簡易化や生産コストの低減を図ることのできるクリーニング装置及びクリーニング装置を備えた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To miniaturizing the whole device by significantly reducing the amount of cleaning water necessary for removing soluble impurities, fine grinding chips and the like by cleaning, thereby minimizing the capacities of a cleaning water storage tank and a slurry storage tank, in recovering abrasive from grinding process drainage.例文帳に追加

研磨工程排水から研磨材を回収するに当たり、溶解性の不純物や微細な研磨屑等を洗浄除去するために必要とされる洗浄水量を大幅に低減して、洗浄水貯槽やスラリ貯槽を小容量化し、装置全体を小型化する。 - 特許庁

To provide a cleaning apparatus that detects a wafer on which failures such as inadequate cleaning occurs and that determines chemical supply time, in a cleaning process where rise time to make flow rate stable accounts for a half or more of the chemical supply time.例文帳に追加

流量が安定するまでの立上り期間が、薬液供給時間に占める割合が半分以上であるような洗浄プロセスにおいて、洗浄不足などの異常発生ウェハの検知や薬液供給時間を決定する洗浄装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning device arranged to clean a polished wafer at an enhanced processing speed, while reducing the amount of pure water used, and to rearrange a plurality of cleaning tanks optimally, depending on the cleaning process.例文帳に追加

純水使用量を節減しつつ研磨後のウェハに処理速度を高めた洗浄処理を施し、複数の洗浄処理槽を洗浄処理プロセス等に応じて、より最適な配列に入れ替え並べ替えることを可能とした装置構成の洗浄装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma film deposition system by which the dissipitation of radicals in the process of being introduced into a film deposition chamber is prevented, and the radicals of cleaning gas generated at the outside of the film deposition chamber can be utilized for cleaning in the film deposition chamber with high efficiency and to provide a cleaning method therefor.例文帳に追加

成膜室内に導入される過程でのラジカルの消滅を防いで、成膜室外で生成されたクリーニングガスのラジカルが効率よく成膜室内でのクリーニングに利用されるようにしたプラズマ成膜装置及びそのクリーニング方法を提供すること。 - 特許庁

The prescribed temperature in the cleaning process is set to 450°C or lower, at which the selection ratio between Poly-Si and SiO2 (quartz) varies greatly.例文帳に追加

このクリーニング工程時の所定温度は、Ｐｏｌｙ−ＳｉとＳｉＯ_2（石英）の選択比が大きく変化する４５０℃以下とする。 - 特許庁

To provide a cleaning device for effectively removing particles and the like adhering to a substrate surface in a manufacturing process of an optical disk.例文帳に追加

光ディスクの製造工程において、基板表面に付着するパーティクル等を効果的に除去するクリーニング装置を提供する。 - 特許庁

The rotary power of the motor 50 is transmitted through each belt 39 to each of the spinning chucks 31 of the cleaning process units 9-11.例文帳に追加

モータ５０の回転動力を，各ベルト３９等を介して各洗浄処理装置９〜１１のスピンチャック３１にそれぞれ伝達する。 - 特許庁