「cleaning process」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

To enable a work to be cleaned in as-held state by a work support, in a process for cleaning a hardening oil after a hardening process and before a tempering process, without removing a cap for preventing carburization, which covers a non-hardened part, and provide a method for sequentially sending the work to a tempering process after the hardening process.例文帳に追加

焼入れ工程後、焼もどし工程に送る前の焼入れ油の洗浄に際し、非焼入れ部に被せた浸炭防止用キャップを除去することなく、ワークがその保持体に配置された状態のままで洗浄することを可能とし、焼入れ工程の後、連続して焼もどし工程に送れる方法を提供する。 - 特許庁

A process 4 for removing the minute foreign matters remained is provided before a precision water cleaning process 5 to remove the foreign matters remained, such as metal powder of materials and damaged and dropped pieces of components for bearing parts, produced during a cutting process 1, a heat treatment process 2 and a grinding process 3 in manufacturing processes of each component parts for a rolling bearing.例文帳に追加

転がり軸受の各構成部品の製造過程において、切削工程１、熱処理工程２、研削工程３で生ずる材料の金属粉、軸受部品の組成物の欠落片等、残留微小異物を除去するため、精密水洗浄工程５の以前に、残留微小異物の除去工程４を設けている。 - 特許庁

The drier 8 is used in a manufacturing process of the substrate to remove and dry the cleaning solution C adhered to the substrate material A.例文帳に追加

この乾燥装置８は、基板の製造工程で使用され、基板材Ａに付着した洗浄液Ｃを除去乾燥する。 - 特許庁

Thus, the cleaning liquid supplied to the brush is prevented from leaking to the outside of the process chamber.例文帳に追加

従って、前記ブラシに供給された洗浄液が前記工程チャンバーの外部に漏洩することが防止されることができる。 - 特許庁

This image forming device is provided with a photoreceptor drum 17 in the process cartridge 18, and an electrifying roller 19 and a cleaning blade 22a are arranged in contact with the drum 17.例文帳に追加

プロセスカートリッジ１８の感光ドラム１７を設け、これに帯電ローラ１９、クリーニングブレード２２ａを接触配置する。 - 特許庁

To provide an immunoassay method that is sensitive using enzyme amplification, and does not require a cleaning process.例文帳に追加

酵素増幅を利用した高感度な方法であると同時に洗浄工程を必要としない免疫測定方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a recycling method for a process cartridge whose developing unit and cleaning nit are force-fitted into an interconnected blind bag hole and pin-engaged.例文帳に追加

現像ユニットとクリーニングユニットを袋穴に圧入してピン係合したプロセスカートリッジの再生産方法を提供する。 - 特許庁

Also, the cleaning method of the stencil reticule is provided with a process of removing an OH group on the surface of the membrane.例文帳に追加

また、メンブレンの表面のＯＨ基を除去する工程を有することを特徴とするステンシルレチクルの洗浄方法とした。 - 特許庁

To completely remove a filler material deposited on the inside of an empty drum and realize a safe and rapid cleaning process.例文帳に追加

空ドラム内側に付着する充填物を完全に除去することができ、安全かつ迅速な洗浄を可能にすること。 - 特許庁

This method uses a seal leaving no trace after peeling as the display member 4 to dispense with cleaning in a recycling process.例文帳に追加

表示部材４として剥がすと痕跡が残らないシールを用いることができるので、リサイクル工程で洗浄が不要になる。 - 特許庁

To provide a cleaning method which efficiently removes a residue stuck in the mold of a molding machine without hindering a molding process.例文帳に追加

成形プロセスを妨げることなしに、成形機の金型にこびり付いた残渣を能率良く除去する清掃方法を提供する。 - 特許庁

The process C is for washing the metal material surface with cleaning water having 20-60°C of temperature, for a time from one minute to 12 hours.例文帳に追加

工程（Ｃ）：金属材料の表面を、２０〜６０℃の洗浄水で１分以上１２時間以下の時間、洗浄する工程。 - 特許庁

Thereby, time to perform reticle inspection, reticle cleaning, etc. in a light exposure process can be made after the fact.例文帳に追加

これにより、露光工程においてレチクル検査やレチクル洗浄等を実施するための期間を事後的に創出することができる。 - 特許庁

To decrease apparatus downtime during a cleaning process by minimizing silicon film deposition in the treatment chamber.例文帳に追加

クリーニングプロセスにおいて、処理室内へのシリコン膜の堆積を極力抑えつつ、クリーニング時の装置ダウンタイムを低減できるようにする。 - 特許庁

Thus, the efficiency in the cleaning process of the terminals can be improved by efficiently transferring the boards.例文帳に追加

これにより、基板搬送動作を効率化して外部接続用端子の洗浄工程の作業効率を改善することができる。 - 特許庁

The gas cleaning device removes harmful matter in the exhaust gas including a rehaeting process of the exhaust gas by the reheater 18.例文帳に追加

ガス浄化装置は、再加熱器１８による排ガスの再加熱工程を含みながら、排ガス中の有害物質の除去を行う。 - 特許庁

To provide a recycling method for a process cartridge whose developing unit and cleaning unit are force-fitted into an interconnected blind bag hole and pin-engaged.例文帳に追加

現像ユニットとクリーニングユニットを袋穴に圧入してピン係合したプロセスカートリッジの再生産方法を提供する。 - 特許庁

Removing process is progressed through reaction of cleaning gas plasma (F*: fluorine radical) and a deposited substance within the processing chamber 1 (substance to be cleaned).例文帳に追加

クリーニングガスのプラズマ（Ｆ＊：フッ素ラジカル）と処理チャンバ１内の堆積物（被クリーニング物）とが反応して除去処理が進行する。 - 特許庁

In the method for forming the shallow trench separating structure 84, those voids are formed in a wet cleaning process after forming the dielectric material 56 in the trench.例文帳に追加

これらのボイドは、誘電体材料をトレンチ内に形成した後、ウエット洗浄プロセス中に形成されることがある。 - 特許庁

The method for modifying the surface of the glass substrate contains a process comprising cleaning the surface with an electrolyzed hydrogen peroxide solution.例文帳に追加

ガラス基板の表面改質方法は、ガラス基板を、電解処理した過酸化水素水で表面処理する工程を含む。 - 特許庁

To stably reduce discharged dioxins to the extremely low concentration in a process of cleaning a waste gas including the dioxins with catalyst.例文帳に追加

ダイオキシン類を含む排ガスを触媒で浄化するプロセスにおいて、排出ダイオキシン類を極低濃度まで安定して低減する。 - 特許庁

a person in esrd needs dialysis (the process of cleaning the blood by passing it through a membrane or filter) or a kidney transplant. 例文帳に追加

esrdの人には、透析（血液を膜またはフィルターに通過させることで血液を浄化するプロセス）か腎移植が必要である。 - PDQ®がん用語辞書 英語版

To provide a treatment method of backwashing discharge water by which a protozoan such as cryptomonadida collected in a water cleaning process is not discharged to a river, etc.例文帳に追加

浄水工程において捕捉したクリプト等の原虫を河川等に放流しないような逆洗処理技術の開発。 - 特許庁

To prevent ice cubes separated from an ice making chamber from being badly affected in a water tray cleaning process in a deicing operation.例文帳に追加

除氷運転における水皿の洗浄工程によって製氷室から離脱した角氷に悪影響を与えない。 - 特許庁

In the method for surface-grinding a semiconductor wafer sliced thinly, at least a cleaning process for removing the heavy metal before surface-grinding the semiconductor wafer is performed, and a surface-grinding process is performed after the cleaning process is performed.例文帳に追加

本発明は、薄板状にスライスされた半導体ウエーハを平面研削する方法であって、少なくとも、前記半導体ウエーハを平面研削する前に重金属を除去する洗浄工程を行い、該洗浄工程を行った後に平面研削工程を行うことを特徴とする半導体ウエーハの平面研削方法を提供する。 - 特許庁

The control method includes a closeness determination process (step S10) for determining being approached to the execution timing of the periodical cleaning, a business time determination process (step S11) for determining whether it is out of business hours, and an execution process (step S04-S07) for executing the periodical cleaning when it is determined to be out of the business time.例文帳に追加

定期クリーニングの実行タイミングに近づいたことを判定する近似判定工程（ステップＳ１０）と、営業時間外であるか否かを判定する営業時間判定工程（ステップＳ１１）と、営業時間外であると判定した際に、定期クリーニングを行う実行工程（ステップＳ０４〜Ｓ０７）とを含む。 - 特許庁

This method for producing the (meth)acrylic acid ester having the cyclic skeleton includes a process for reacting an alcohol having the cyclic skeleton composed of four or more carbon atoms with (meth)acrylic acid or an reactive derivative thereof and a process for cleaning the reaction product obtained by the above process with a cleaning fluid containing amines.例文帳に追加

炭素数４以上の環式骨格を有するアルコールと（メタ）アクリル酸またはその反応性誘導体を反応させる工程、および該工程で得られる反応生成物をアミン類を含む洗浄液で洗浄する工程を含むことを特徴とする環式骨格を有する（メタ）アクリル酸エステルの製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method has a process of cleaning the chlorine waste plastics in a cleaning solvent, a process of heating and fusing the cleaned chlorine waste plastics at a temperature equal to or lower than 190°C, and a process of standing to cool the fused chlorine waste plastics, and solidifying the same into block-like, pellet-like or powder-like material.例文帳に追加

本製造方法は、洗浄液で塩素系廃プラスチックを洗浄する工程と、洗浄した塩素系廃プラスチックを１９０℃以下の温度で加熱、溶融する工程と、溶融した塩素系廃プラスチックを放冷し、ブロック状、ペレット状又はパウダー状に固形物化する工程とを備えている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an optical memory device which dispenses with a cleaning process being an unnecessary and labor- and time-consuming process, and therefore has enhanced manufacturing efficiency and is suitable for automation and mass production.例文帳に追加

光メモリ素子の製造方法を、クリーニング工程という不必要で、労力や時間のかかる工程を不要とし、製造効率を高め、自動化や量産に適するものとする。 - 特許庁

To improve a remote plasma cleaning method for removing undesirable deposition by-products formed on walls, surfaces, etc. of a CVD process deposition chamber and a facility from the CVD process chamber and the facility.例文帳に追加

本発明は、CVDプロセス堆積チャンバ及び設備の壁、表面などに形成された不所望の堆積副生成物を、該CVDプロセス・チャンバ及び設備から除去するリモート・プラズマ・クリーニングを改善する。 - 特許庁

Thereby, the sticking of the substrates 3 themselves and/or the sticking of the inner wall of the carrier and the substrate 3 can be prevented, even when the substrate 3 bends beyond a pitch of the grooves of the carrier, during a cleaning process and/or a desiccation process.例文帳に追加

このため、洗浄処理時や乾燥処理時に、キャリア溝ピッチ以上に基板３が反っても、基板３同士の貼り付きやキャリア内壁と基板３との貼り付きが防止される。 - 特許庁

Since process products 56 adhere only to the plasma sealing region 54, the quantity of PFC 58 being used for removing the process products 56 is reduced, and its cleaning time can be shortened.例文帳に追加

生成物５６はプラズマ封止領域５４だけに付着するので生成物５６の除去に用いるＰＦＣ５８の使用量の低減と清掃時間の短縮を図ることができる。 - 特許庁

A dummy substrate the surface of which is covered with a dark color material is subjected to a cleaning process and a printing process as required, and then inspected to diagnose the aforementioned processes.例文帳に追加

表面が暗色材料で覆われているダミー基板を洗浄工程や印刷工程に適宜流動させた後に前記ダミー基板を検査し、前記工程の診断を行う。 - 特許庁

To appropriately clean the external surface of a heat roller, to prevent degradation in the quality of a fixing process, which results from insufficient cleaning, and to maintain the quality of the fixing process.例文帳に追加

この発明によれば、加熱ローラの外周面を適切にクリーニングすることができ、クリーニング不足による定着処理の品質悪化を防ぎ、定着処理の品質を維持することができる。 - 特許庁

To provide a method and a device capable of shortening a work time by simultaneously performing a cleaning process and an injection process without polluting a global environment by a waste liquid.例文帳に追加

廃液で地球環境を汚染することがなく、また、洗浄工程を注入工程と同時に行うことで作業時間を短縮することのできる方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a processing apparatus and a method of processing, capable of yielding high processing uniformity over a surface of an object to be processed, without contaminating the object to b processed during the steps between a cleaning process and an oxidation process.例文帳に追加

洗浄処理から酸化処理の間に被処理体が汚染されることなく、被処理体の面内の処理均一性が高い処理装置及び処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide underfill material that has superior flux oil absorbency and can take in flux residues in a heating and curing process, and hence can dispense with a flux cleaning process.例文帳に追加

優れたフラックス吸油性を有し、加熱硬化過程においてフラックス残渣を取り込むことができ、したがって、フラックス洗浄工程を省略することができるアンダーフィル材を提供すること。 - 特許庁

In an exposure process using the reticle 1, the IC chip instructs and carries out a contamination removing process such as cleaning at a time when the information relating to contamination recorded in the IC chip 3 exceeds predetermined specifications.例文帳に追加

レチクル１を用いて露光処理する時に、ＩＣチップ３に記録した汚染に関する情報が所定の規格量を超えた時点で洗浄など汚染除去処理を指示し、実行する。 - 特許庁

This method for cleaning the metal oxide thin film on the silicon wafer comprises a process for immersing the wafer in an organic solvent, and a process for drying the wafer in a nitrogen atmosphere.例文帳に追加

本発明によるシリコンウェハ上の金属酸化物薄膜を洗浄する方法は、ウェハを有機溶剤に浸漬する工程と、ウェハを窒素雰囲気中で乾燥させる工程とを包含する。 - 特許庁

The control device performs the bubble detection process after performing the first jet process in which the washing pump is operated and cleaning fluid is spouted through the washing nozzle in the washing tank.例文帳に追加

制御装置は、洗浄ポンプを作動させて洗浄ノズルから洗浄槽内に洗浄水を噴出する第１噴出行程を実行した後に、泡検出処理を実行する。 - 特許庁

The cleaning agent is used after the chemical-mechanical polishing process in the semiconductor device manufacturing process, and contains (A) an organic acid and (B) a clathrate compound.例文帳に追加

半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤であって、（Ａ）有機酸、及び、（Ｂ）包接化合物を含有する洗浄剤である。 - 特許庁

The process chamber comprises an improved susceptor for supporting the wafer and a special gas distribution system adapted to feed various gases for use in the deposition process and cleaning.例文帳に追加

この処理チャンバは、ウェハを支持する改良型のサセプタ、および付着プロセスおよび洗浄で使用するさまざまなガスを供給するように適合された特別なガス分配システムを含む。 - 特許庁

The liquid which is used in the polishing process using the CMP method or used in processes before and after the process, and which cleans, or rinses after cleaning is constituted by a component obtained by removing an abrasive grain component from polishing slurry used in the polishing process.例文帳に追加

ＣＭＰ法を用いた研磨工程またはその前後の工程において用いられ、洗浄または洗浄後のリンスを行なう液体を、研磨工程で用いる研磨スラリーから砥粒成分を除去した成分のもので構成する。 - 特許庁

To provide a fixture that facilitates attachment and detachment of a thin-plate printed wiring board and is used for a component mounting process and a reflow process, the fixture improving productivity by solving problems of form deterioration, use frequency limitation etc., of an adhesive in a cleaning process.例文帳に追加

薄板プリント配線基板の着脱が容易で、部品実装工程及びリフロー工程に使用する治具において、洗浄工程による接着剤の形態劣化及び使用回数制限等を解決し、生産性向上を図る。 - 特許庁

To provide a wafer cleaning method for effectively removing from a wafer surface, organic substances sticking on a semiconductor substrate in a pre-processes, such as CMP process for forming Cu wiring, before moving to a next process, related to a wafer processing process.例文帳に追加

ウェーハ処理工程において、次工程へ移る前に半導体基板上にＣｕ配線を形成するＣＭＰ処理などの前工程で付着した有機物をウェーハ表面から有効に除去するウェーハ洗浄方法を提供する。 - 特許庁