「cleaning process」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

The system for cleaning the sewage to be discharged from the livestock barn and reusing the cleaned sewage comprises a process for separating the cleaned sewage into treated water and sludge and cleaning each of the treated water and the sludge by using minute air bubbles and a biodegradable cleaning agent.例文帳に追加

畜舎より排出される汚水を、浄化処理して再資源化するシステムであり、汚水を分離したのち処理水と汚泥を個々に微細気泡、生分解洗浄剤で浄化処理する方法。 - 特許庁

To provide a cleaning device where storing space for storing toner removed from an image carrier is secured fully, and which does not have lowering of the cleaning function for cleaning blades and stably maintains high cleaning performance, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus.例文帳に追加

像担持体上から除去したトナーを収容する収容スペースが充分に確保されて、クリーニングブレードを清掃する機能の低下がなく、高いクリーニング性能を安定的に維持できる、クリーニング装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning method which is excellent in suppression effect of cleaning troubles produced in a detergent by an increase of dirty components in a process of cleaning articles to improve dramatically a liquid life of the detergent, and a cleaning device.例文帳に追加

物品を洗浄する工程において、洗浄剤中に汚れ成分の増加により発生する洗浄不良の抑制効果に優れ、洗浄剤の液寿命を飛躍的に改善する洗浄方法および洗浄装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a small cleaning/drying device and device which perform cleaning in which removal of dirt and drying are performed in the same process, which are an energy saving type where cleaning time is speeded up and an area of a cleaned object is made wide and which can realize high speed cleaning/drying.例文帳に追加

汚れの除去と乾燥を同じ工程で行う洗浄であって、洗浄時間の高速化と洗浄処理物面積の広域化を可能とする省エネルギー型で、小型で高速の洗浄乾燥を可能にする、洗浄乾燥方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning device where toner charged to a polarity reverse to that of the voltage to be applied to a cleaning brush and toner charged to a polarity same as that of the voltage to be applied to the cleaning brush can be cleaned with the cleaning brush, to provide a process cartridge, and to provide an image forming apparatus.例文帳に追加

クリーニングブラシに印加する電圧と逆極性に帯電したトナーおよびクリーニングブラシに印加する電圧と同極性に帯電したトナーをクリーニングブラシでクリーニングすることのできるクリーニング装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an easy method for processing a waste cleaning water for increasing the flocculation effect of a flocculation process on a waste cleaning water generating in a developing process of a photosensitive planographic printing forme and for increasing filtration characteristics on the flocculated waste cleaning water.例文帳に追加

本発明の目的は、感光性平版印刷版の現像処理において発生する洗浄廃水の凝集処理において、凝集効果を高め、凝集処理された洗浄廃水の濾過特性を高める、洗浄廃水を処理する簡便な方法を提供することである。 - 特許庁

This cleaning agent for the circulative cooling water system in a steel making process is a cleaning agent which dissolves the manganese fouling and manganese deposit in the filter and/or cooling tower installed in the circulative cooling water system in the steel making process, wherein the cleaning agent includes phosphonic acid and/or its salts.例文帳に追加

鉄鋼製造工程における循環冷却水系に設置された濾過器及び／又は冷却塔のマンガン汚れ又はマンガン析出物を溶解する洗浄剤であって、ホスホン酸及び／又はその塩を含んでなる鉄鋼製造工程における循環冷却水系用洗浄剤。 - 特許庁

To provide a cleaning composition capable of sufficiently removing a plasma etching residue and/or an ashing residue on a semiconductor substrate without damaging a wiring structure and an interlaminar insulation structure; and to provide a cleaning process and a process for producing a semiconductor device using the cleaning composition.例文帳に追加

配線構造や層間絶縁構造を損傷することなく、半導体基板上のプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去しうる洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた洗浄方法及び半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The manufacturing method for the charging roller includes a washing process for cleaning glass beads with a solvent 1 and an additional cleaning process, repeatedly carrying out cleaning of the glass beads by a solvent 2 for n times (n is a natural number which is two or more), until a condition (A) is fulfilled.例文帳に追加

ガラスビーズを溶剤１で洗浄する洗浄工程、条件（Ａ）を満たすようになるまで、溶剤２によりガラスビーズの洗浄をｎ回（ｎは２以上の自然数である）、繰り返し行う追洗浄工程、を有することを特徴とする帯電ローラの製造方法。 - 特許庁

In the cleaning process of the semiconductor substrate by the sheet type cleaning apparatus, a pretreatment process by a surfactant is included immediately before chemical liquid treatment, thus reliably cleaning the inside of the fine hole with high aspect ratio and hence providing the clean surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加

枚葉式洗浄装置による半導体基板の洗浄過程において、薬液処理直前に界面活性剤による前処理工程を含むことによって、高アスペクト比の微細孔内部を確実に洗浄し、清浄な半導体基板表面を提供することができる。 - 特許庁

To provide a substrate cleaning method using a substrate cleaning apparatus in which, when a pushing-in amount of a cleaning brush with respect to a substrate is set, a reference position of the cleaning brush serving as its reference can be easily decided, a worker's burden is reduced, and improvement in cleaning process quality of the substrate can be achieved.例文帳に追加

基板に対する洗浄ブラシの押し込み量の設定に当って、その基準となる洗浄ブラシの基準位置を容易に確定でき、作業者の負担を軽減し、基板の洗浄処理品質の向上が達成できるような基板洗浄装置を用いた基板洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a buffer chamber arrangement in which circulation cleaning can be carried out easily without setting a process dedicated to filling a hole.例文帳に追加

専用の穴埋め工程を設定することなく、容易に循環洗浄できるバッファ室構成を提供する。 - 特許庁

To remove contamination on an end face of a substrate which cannot be removed only with chemical cleaning process.例文帳に追加

化学的な洗浄のみでは除去することができない基板の端面の汚染を除去することを課題とする。 - 特許庁

A cleaning process equipment 10 is constituted by a wafer scrubber chamber 14 and a vacuum ultraviolet ray treating chamber 16.例文帳に追加

洗浄処理装置１０は、ウエハスクラバ室１４および真空紫外光処理室１６により構成される。 - 特許庁

WET CLEANING METHOD OF MATERIAL SURFACE AND MANUFACTURING PROCESS OF ELECTRONIC, OPTICAL OR OPTOELECTRONIC DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

材料表面の湿式洗浄方法及びこれを用いた電子、光学、または光電子デバイスの作製プロセス - 特許庁

To provide an inverter for quadrilateral substrate in which the roll cleaning process of a quadrilateral substrate can be shortened.例文帳に追加

四辺形基板のロール洗浄工程を短縮することができる四辺形基板の反転装置を提供する。 - 特許庁

To practice a cleaning treatment in a reaction chamber after a film forming process is finished without giving influence upon catalyst element.例文帳に追加

成膜処理終了後に触媒体に影響を与えることなく反応室内のクリーニング処理を行なう。 - 特許庁

To provide a method for burying a contact hole in a semiconductor device which includes a dry cleaning step as a pre-process step.例文帳に追加

ドライ洗浄工程を前工程として含む半導体装置のコンタクトホール埋め込み方法を提供する。 - 特許庁

Further, a flux cleaning process is performed, and the ball guide part 120 formed on the solder resist 103 is removed.例文帳に追加

さらに、フラックス洗浄処理をし、ソルダーレジスト１０３上に形成されたボール案内部１２０を除去する。 - 特許庁

ADJUSTING METHOD OF COPPER CONCENTRATION IN LEACHING LIQUID IN CLEANING PROCESS OF WET ZINC METALLURGY AND ADJUSTING EQUIPMENT THEREFOR例文帳に追加

湿式亜鉛製錬の清浄工程における浸出液中銅濃度の調整方法および調整設備 - 特許庁

A reactive plasma cleaning process is employed for reducing the time required to clean a processing chamber.例文帳に追加

反応性プラズマクリーニングプロセスを利用して処理チャンバを洗浄するのに必要な時間を短縮する方法と装置。 - 特許庁

To provide a treatment process for a synthetic resin cleaning drain capable of reducing the amount of liquid drain and the amount of wastes.例文帳に追加

排液量および廃棄物量を低減した合成樹脂洗浄排水の処理工程を提供する。 - 特許庁

To provide a method and device for cleaning a probe which can make process simpler, without giving damages to probes.例文帳に追加

プローブにダメージを与えることなく、工程が簡素となるプローブカードの清掃方法及び清掃装置を提供する。 - 特許庁

To provide a printer in which it is decided in a more preferable way as to whether a cleaning process is to be performed.例文帳に追加

クリーニング処理を行うか否かの判断がより好ましい形で行われる印刷装置を、提供する。 - 特許庁

A thickness of the metal-containing barrier layer is not substantially changed by the hybrid in-situ dry cleaning process.例文帳に追加

前記金属含有バリア層の厚さは、ハイブリッドその場ドライクリーニングプロセスによって実質的には変化しない。 - 特許庁

The production equipment in the paper pulp production process forming the scales is cleaned with an alkaline aqueous solution of the cleaning agent.例文帳に追加

スケールが生じた紙・パルプ製造工程の製造設備を、前記洗浄剤のアルカリ性水溶液で洗浄する。 - 特許庁

In the first drying process, air is sprayed to the cylinder head to remove the cleaning liquid adhering to the cylinder head.例文帳に追加

第１乾燥工程では、シリンダヘッドにエアが吹き付けられ、シリンダヘッドに付着した洗浄液が除去される。 - 特許庁

The method includes an elution process of eluting heavy metals or the like from soil by cleaning water containing electrolytic water.例文帳に追加

電解水を含有する洗浄水で土壌から重金属類等を溶出させる溶出工程を有する。 - 特許庁

To prevent occurrence of red water due to a process for cleaning soil by oxidation decomposition.例文帳に追加

酸化分解により土壌を浄化する土壌浄化工程に起因して赤水が発生することを防止すること。 - 特許庁

The wiring board 3b cut and conveyed from the second cutter 33 enters a cleaning process due to brushing 70.例文帳に追加

第２切断装置３３から切断搬送された配線板３ｂはブラシング７０によりクリーニング工程に入る。 - 特許庁

The process cartridge 2 is constituted by integrally assembling the photoreceptor drum 17, a developing device 24 and a cleaning device 23.例文帳に追加

感光ドラム１７と現像器２４とクリーニング装置２３とを一体的に組み込んでプロセスカートリッジ２を構成する。 - 特許庁

The cleaning process of a film containing a metal atom deposited in the treatment chamber 1 includes the following four processes.例文帳に追加

処理室１内に付着した金属原子を含む膜のクリーニング工程を次の４つの工程から構成する。 - 特許庁

CLEANING APPARATUS OF EXHAUST PART AND VACUUM PUMP OF PROCESS REACTION CHAMBER IN SEMICONDUCTOR AND LCD MANUFACTURING EQUIPMENT例文帳に追加

半導体及びＬＣＤ製造装置における工程反応チャンバーの排気部及び真空ポンプの洗浄装置 - 特許庁

To provide a cleaning device which can wash and process comparatively small objects to be processed effectively and without unevenness.例文帳に追加

比較的細かい被処理物を効率よくムラなく洗浄処理することができる洗浄装置を提供する。 - 特許庁

To accurately decide the height position of a partition plate in a cleaning device in a simple process.例文帳に追加

クリーニング装置における仕切り板の高さ位置を、簡単な工程で精度良く位置決めできるようにすることにある。 - 特許庁

The molecular pump 1 can be cleaned without removing it from a semiconductor manufacturing line, and cleaning process can be rapidly executed.例文帳に追加

また、分子ポンプ１を半導体製造ラインから取り外すことなく洗浄でき、洗浄処理を迅速にできる。 - 特許庁

The optical properties of the substrate holder 3 are monitored when a cleaning process is carried out, and the end point of cleaning is detected by taking advantage of a change in optical properties in accordance with the disappearance of a film.例文帳に追加

クリーニング時に基板ホルダ３の光学的特性をモニターし、膜の消失に伴い光学的特性が変化することを利用して、クリーニングの終点を検出する。 - 特許庁

To improve efficiency of a transport system of unpolished rice and polished rice, and to enhance flexibility in a rice cleaning process when the rice cleaning processes are overlapped and intermingled.例文帳に追加

玄米や白米の輸送系統の効率化を図るとともに、精米工程が重なりあって錯綜するような場合であっても、精米工程の融通性を向上させる - 特許庁

This cleaning process using this device comprises performing ultrasonic cleaning in a medium consisting of a dispersion medium and a liquid or viscoelastic material which, in the form of finely divided particles, is dispersed in the dispersion medium.例文帳に追加

分散媒と、この分散媒中に微粒子状に分散された液体または粘弾性物質からなる媒体中で超音波洗浄する方法および装置。 - 特許庁

To provide a cleaning method in which surface roughness can be recovered easily when it is worsened by cleaning in the fabrication process of an SOI substrate.例文帳に追加

ＳＯＩ基板の製造工程において、洗浄により表面粗さが悪化した場合でも、表面粗さを容易に回復させることができる洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device for cleaning an optical fiber core, in which the cleaning process of the fusion-connection operation of the optical fiber can be performed with a simple configuration and which can be made compact.例文帳に追加

光ファイバ融着接続作業のクリーニング工程を簡単な構成で行うことができるとともに小型化が図れる光ファイバ心線清掃器具を提供する。 - 特許庁

To provide petroleum washing process liquid for dry-cleaning and a dry-cleaning method slowing rise of an aniline point, decreasing reverse stain rate and capable of increasing conductivity as well.例文帳に追加

アニリン点の上昇を緩やかとし、かつ、逆汚染率を低下し、通電性も向上し得る石油系ドライクリーニング用洗浄加工液及びドライクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

A cleaning liquid is used for cleaning a chemical supply apparatus used in a semiconductor manufacturing process, and contains at least hydrofluoroether.例文帳に追加

半導体製造工程で使用される薬液供給装置を洗浄するための洗浄液であって、少なくともハイドロフルオロエーテルを含有することを特徴とする洗浄液。 - 特許庁

After this process, a cleaning liquid supply nozzle 41 travels above the main surface, and supplies a rinsing liquid which is the cleaning liquid to the main surface of the substrate W.例文帳に追加

その後、洗浄液供給ノズル４１が基板Ｗの主面上方を通過移動しつつ、基板Ｗの主面に洗浄液としてリンス液を供給する。 - 特許庁

To clean a pattern formed on a semiconductor wafer with high cleaning force, without deforming and damaging the pattern, and increase throughput of a cleaning process.例文帳に追加

半導体ウェーハ上に形成されているパターンを、変形や損傷を加えることなく高い洗浄力で洗浄力すると共に、洗浄工程のスループットを高める。 - 特許庁