「cleaning process」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

The method includes a cleaning process for removing deposited and/or adsorbed substances on the surface of the solid material; a process for lowering the surface hardness of the solid material by supporting a hardness lowering substance by the cleaned surface; and a process for applying the mechanical machining operation to the surface carrying the hardness lowering substance after the hardness lowering process or during the hardness lowering process.例文帳に追加

表面に存在する付着物質及び／又は吸着物質を除去するクリーニング工程、クリーニングされた表面に硬度低減物質を担持させ、固体の表面硬度を低減する工程、及び前記硬度低減工程の後、または硬度低減工程中に、前記硬度低減物質を担持させた表面に機械的加工を施す工程を含む。 - 特許庁

The etching method includes a process (a) of etching the material containing silicon using the gas plasma containing halogen atoms other than fluorine, a process (b) of dry cleaning the interior of the reaction chamber using the gas plasma containing fluorine after the above process (a), and a process (c) of generating oxygen plasma within the above reaction chamber and performing plasma treatment immediately after the above process (b).例文帳に追加

エッチング方法は、（ａ）反応室内で、シリコンを含む材料を弗素以外のハロゲン元素を含むガスプラズマを用いてエッチングする工程と、（ｂ）前記工程（ａ）の後、前記反応室内を弗素を含むガスプラズマを用いてドライクリーニングする工程と、（ｃ）前記工程（ｂ）の直後に、前記反応室内で酸素プラズマを発生させ、プラズマ処理する工程とを含む。 - 特許庁

To provide an image carrier protecting agent exhibiting a sufficient protecting effect on an image carrier surface, particularly, a protecting effect against stress in a charging process and a cleaning process, but not contaminating a charging member.例文帳に追加

像担持体表面の十分な保護効果、特に帯電工程並びにクリーニング工程でのストレスに対する保護効果を発現し、かつ帯電部材を汚染しない像担持体保護剤を提供する。 - 特許庁

To enable a cleaning process that is usually performed before a buffing process to be carried out in such a state where water is kept on a buffing platen, thereby restraining defects from occurring on the surface of a wafer, and improving throughput of a wafer polishing device at the same time.例文帳に追加

バフ研磨工程前の洗浄工程を、バフ研磨用のプラテン上に水を溜めて行うことにより、ウェハ面上に発生する欠陥の抑制と処理能力の向上を両立する。 - 特許庁

During any other process than the fixing process, the induction heating part is energized and heated to execute a cleaning mode for removing paraffin wax to be fixed to the induction heating part for a predetermined period (step S5).例文帳に追加

そして、定着工程がおこなわれるとき以外に、誘導加熱部を通電・加熱して誘導加熱部に固着するパラフィンワックスを除去するクリーニングモードを所定時間おこなう（ステップＳ５）。 - 特許庁

To provide a drum type washing machine reducing starting failure due to bubbles in an intermediate spin-drying of a rinsing process by preventing a problem that a cleaning ratio is reduced by the bubbles in a washing process.例文帳に追加

洗濯工程において、泡により洗浄率が低下するという問題を防ぎ、すすぎ工程の中間脱水時の泡による起動不良状態を少なくするドラム式洗濯機を提供する。 - 特許庁

To provide a process cartridge which improves the accuracy of a blade loaded in the process cartridge to carry out cleaning and suppresses distortion and deflection in loading, and to provide an image forming apparatus using the same.例文帳に追加

プロセスカートリッジに装着してクリーニングするブレードの精度を向上させ、かつ、装着時におけるねじれ、たわみの発生を抑制したプロセスカートリッジ及びこれを用いる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To prevent wash water sticking to a carrying part in a cleaning process from contacting with an article being carried in a drying process, while preventing a fixation of a stain to the carrying part of a carrying device.例文帳に追加

搬送装置の搬送部に汚れが固着することを防ぎながら、洗浄工程で搬送部に付着した洗浄水が、乾燥工程を搬送中の物品に接触しないようにする。 - 特許庁

In manufacturing the SIMOX wafer, the SOI film having a thickness larger than a target SOI film thickness is formed in advance, and the final adjustment of the SOI film thickness is performed by an etching process provided differently from a cleaning process.例文帳に追加

SIMOXウェーハの製造に際し、予め目標とするSOI膜厚よりも厚めのSOI膜を形成しておき、最終的なSOI膜厚の調整を、洗浄工程とは別途に設けたエッチング工程により行う。 - 特許庁

The method of cleaning gas to be treated includes a compression process for compressing a gas to be treated that is sent, and a gas-liquid contact process for blowing the compressed gas to be treated as fine air bubbles into electrolytic water.例文帳に追加

送られてくる被処理ガスを圧縮する圧縮工程と、圧縮された前記被処理ガスを微細気泡として電解水中に吹き込む気液接触工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

A layer changed in properties is thereafter removed by using an alkaline solution (second surface treatment 5b) and the magnetic disk substrate is manufactured through a chemical strengthening treatment process step 6 and finishing cleaning process step 7.例文帳に追加

そしてその後、アルカリ性溶液を使用して変質層を除去し（第２の表面処理５ｂ）、化学強化処理工程６及び仕上げ洗浄工程７を経て磁気ディスク基板を製造する。 - 特許庁

Or else, after completing a dispensation process on a relevant specimen "a" and before a dispensation process on a next specimen "b", it is also possible to execute the cleaning of a specimen dispensation probe in a reaction tube.例文帳に追加

また、当該試料ａの分注処理が終了した後次の試料ｂに関する分注処理の前において、反応管内での試料分注プローブの洗浄を実行することも可能である。 - 特許庁

To enable even a process cartridge single body to display whether or not cleaning is performed in a state where a process cartridge is not loaded in an image forming apparatus body, and enable even the image forming apparatus body to detect the same thing.例文帳に追加

プロセスカートリッジが装置本体から装着されていない状態でクリーニングが行われたか否かについて、プロセスカートリッジ単体でも表示できるようにし、さらに装置本体でも検出可能にする。 - 特許庁

To provide a device and a method for film forming, smoothly conducting a film forming process in a film forming chamber using a catalytic wire and a cleaning process in the film forming chamber with the catalytic wire evacuated.例文帳に追加

触媒線を用いた成膜室における成膜処理と、触媒線を退避させた成膜室におけるクリーニング処理とを円滑に実行可能にした成膜装置及び成膜方法を提供する。 - 特許庁

In the first step of the chamber cleaning process, the stacked dielectric layer is let to contain a small quantity of fluorine, and the layer is isotropically etched, thus this process has an additional benefit of reforming the ability of filling the gap of the layer.例文帳に追加

チャンバクリーニングプロセスの第１のステップでは、堆積されている誘電層に少量の弗素を含ませ、等方的に層をエッチングして、層のギャップ充填能を改良する付加的な利益を有する。 - 特許庁

This color photoresist removal method includes steps for: removing the color photoresist on a substrate formed with given elements in the first plasma etching process; conducting wet cleaning after the first plasma etching process; and completely removing residual color photoresist in the second plasma etching process after the wet cleaning.例文帳に追加

本発明のカラー・フォトレジストの除去方法は所定の素子が形成された基板の上のカラー・フォトレジストを第１プラズマエシング工程でとり除く段階と；前記第１プラズマエシング工程の後、湿式クリーニングを行う段階と；及び前記湿式クリーニング後第２プラズマエシング工程で残留カラー・フォトレジストを完全にとり除く段階を含んで成り立つに技術的特徴がある。 - 特許庁

To provide a substrate cleaning device which subjects a substrate to a prescribed cleaning treatment by supplying the droplets of processing liquid produced by mixing the processing liquid and gas together onto the substrate, and subjects the processing regions of the substrate to an optimal cleaning process corresponding to the regions so as to clean the substrate with high quality.例文帳に追加

処理液と気体とを混合して生成した処理液の液滴を基板に供給して所定の洗浄処理を行う基板洗浄装置において、基板上の処理領域に対応した最適な洗浄を行うことで、基板を高品質に洗浄する。 - 特許庁

To provide a cleaning device which is equipped with a rotationally driven cleaning brush and a lubricant application brush, and can reduce the application amount of the lubricant by the lubricant application brush, and to provide a process cartridge with the cleaning device, and an image forming apparatus.例文帳に追加

回転駆動するクリーニングブラシと潤滑剤塗布ブラシとを備え、クリーニングブラシのクリーニング性能を維持しつつ、潤滑剤塗布ブラシによる潤滑剤の塗布量を抑制することができるクリーニング装置、並びにこのクリーニング装置を備えたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an economical, excellently cleanable, highly safe cleaning method for a sintered compact where there is no surface stain and the ooze of cleaning residual oil after drying, drying temperature is lower than that in a water based cleaning agent, and the process from drying to parts cooling can be performed in a short time.例文帳に追加

乾燥後に表面汚れや洗浄残渣油の滲み出しがなく、乾燥温度が水系洗浄剤よりも低く、乾燥から部品冷却までを短時間で行うことができる、経済的で、洗浄性に優れ、安全性が高い、焼結部品の洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning device for removing toner from the surface of the body to be cleaned using a cleaning brush with voltage applied, wherein charge injection to the toner removed from the cleaning brush can be suppressed, and to provide an image forming apparatus and a process cartridge provided therewith.例文帳に追加

電圧が印加されたクリーニングブラシを用いて被清掃体上からトナーを除去するクリーニング装置で、クリーニングブラシからの除去するトナーへの電荷注入を抑制することができるクリーニング装置、並びにこれを備えた画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing electrostatic charge image developing toner includes a process of cleaning toner base particles formed in an aqueous medium with cleaning water, wherein the cleaning water contains the net solved component of 0.5 to 1,000.0 mg/L, at 25°C.例文帳に追加

水系媒体中で形成したトナー母体粒子を洗浄水で洗浄する工程を有する静電荷像現像用トナーの製造方法において、該洗浄水が総溶解成分を２５℃において０．５〜１０００．０ｍｇ／Ｌ含有していることを特徴とする静電荷像現像用トナーの製造方法。 - 特許庁

To provide a cleaning/rust preventing composition having cleaning property and rust preventing property in combination and capable of unifying two steps of a cleaning step and a rust-preventing step into one step and reducing the load for the management of oil to be used in a conventional metal working process or the like.例文帳に追加

従来の金属加工工程等において、洗浄工程とさび止め工程の二つの工程を一元化することが可能になるとともに、使用油管理の負担の低減を図ることができる、洗浄性とさび止め性を兼ね備えた洗浄兼さび止め油組成物を提供すること。 - 特許庁

The cleaning method has a process of relatively moving a cleaning head 16 together with a wiping material 15 along the surface of a terminal part 13 in the state of pressurizing the surface of the terminal part 13 of a liquid crystal display panel 10 by the pressurizing surface 18 of the cleaning head 16 through the wiping material 15.例文帳に追加

クリーニング方法は、液晶表示パネル１０の端子部１３の表面を拭き取り材１５を介して清掃ヘッド１６の押圧面１８により押圧した状態で、清掃ヘッド１６を拭き取り材１５と共に端子部１３の表面に沿って相対移動させる工程を有する。 - 特許庁

To provide a process cartridge which is formed by integrating a latent image carrier and a cleaning means and is equipped with the cleaning means which enables a user, etc., to independently and easily exchange the latent image carrier and the cleaning means, is free of toner scattering and has high exchangeability and an image forming apparatus.例文帳に追加

潜像担持体とクリーニング手段を一体化して形成するものであっても、ユーザ等が潜像担持体、クリーニング手段を、独立して容易に交換することができ、かつ、トナーの飛散のない交換性の高いクリーニング手段を備えたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning device capable of performing complete cleaning to cope with a situation that untransferred toner caused when recording paper is jammed or toner of large adhesive amount such as a P sensor pattern remains on a toner carrier, and an image forming apparatus and a process cartridge which include the cleaning devices.例文帳に追加

トナー担持体上に、記録紙ジャム時の未転写トナーやＰセンサーパターン等のような高付着量トナーが残留している場合にはそれに対応した充分なクリーニングが出来るクリーニング装置ならびにこれを備えた画像形成装置およびプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a method for efficiently cleaning water which precipitates floating algae in the untreated water containing the algae without reducing the consumption of or using a flocculating agent and thereby lowers the turbidity of the intake water and simplifies the water cleaning process and diminishes the treatment load for the preservation of environments, and a water cleaning device therefor.例文帳に追加

浮上藻類を含む原水を、凝集剤の使用を低減又は使用することなく浮上藻類を沈降せしめて、取水の濁度を低減と共に、浄水処理を簡素化し、かつ環境保全のための処理負荷を低減した効率的な浄水処理方法と処理装置の提供。 - 特許庁

The cleaning member (A61) can be attached as the leveling member (A74), or the leveling member (A74) can be attached as the cleaning member (A61), or the cleaning member (A61) and the leveling member (A74) can be exchanged, and thereby the running cost of the process cartridge and the image forming apparatus is reduced.例文帳に追加

クリーニング部材（Ａ６１）が均し部材（Ａ７４）として取り付け可能、もしくは均し部材（Ａ７４）がクリーニング部材（Ａ６１）として取り付け可能、もしくはクリーニング部材（Ａ６１）と均し部材（Ａ７４）とを交換可能とし、ランニングコストを削減できるプロセスカートリッジ、画像形成装置とする。 - 特許庁

Regarding the cleaning device 30, the black toner as the undefined toner is cleaned first among plural kinds of toner, and the method of rotating the cleaning roller 32 at the cleaning operation is selected by the control means 60, then, the toner remaining on the surface of the photoreceptor drum 21 after the toner transfer process is cleaned.例文帳に追加

クリーニング装置３０は、複数のトナーのうち不定形トナーであるブラックトナーを最初にクリーニングするものであり、制御手段６０がクリーニング動作時のクリーニングローラ３２の回転方法を選択して、トナー転写後に感光体ドラム２１表面に残留するトナーをクリーニングする。 - 特許庁

To provide a cleaning liquid not oxidizing nor corroding a copper wiring material or an insulating film material and capable of removing an etching residue remaining after dry etching in a short time in a wiring process of a semiconductor element employed in a semiconductor integrated circuit, and to provide a cleaning method employing the cleaning liquid.例文帳に追加

半導体集積回路に用いられる半導体素子の配線工程における、ドライエッチング後に残存するエッチング残渣を短時間で除去でき、かつ、銅配線素材や絶縁膜材料等を酸化または腐食しない洗浄液を用いた洗浄法を提供すること。 - 特許庁

To provide a polishing device which can be applied to a dry-in/dry-out type polishing device and respond to cleaning of semiconductor wafers accompanying miniaturization, having three or more cleaning steps in a cleaning process without spoiling processing capacity per unit time and per unit footprint.例文帳に追加

ドライイン／ドライアウト方式のポリッシング装置に適用可能であり、単位時間あたり及び単位設置面積あたりの処理能力を損なうこと無く、洗浄工程における洗浄段数を３段以上備え、微細化に伴う半導体ウエハのクリーン化に対応できるポリッシング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a process cartridge which enables a user etc., to independently and easily exchange latent image carrier and cleaning means, even with the cartridge formed by integrating the latent image carrier and the cleaning means and which is provided with the cleaning means, having high interchangeability exchangeability and which is free of toner scattering, and to provide an image forming apparatus.例文帳に追加

潜像担持体とクリーニング手段を一体化して形成するものであっても、ユーザ等が潜像担持体、クリーニング手段を、独立して容易に交換することができ、かつ、トナーの飛散のない交換性の高いクリーニング手段を備えたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To complete cleaning of a gas discharge pipe in short time without damaging the gas discharge pipe, a valve and a vacuum pump, by preventing a local temperature rise and preventing unreacted cleaning gas from flowing into the vacuum pump in a non-plasma cleaning process of a deposited film forming device.例文帳に追加

堆積膜形成装置のノンプラズマクリーニング工程において、局部的な昇温の防止や、未反応のクリーニングガスが真空ポンプへ流入するのを防止して、排気配管やバルブ、真空ポンプなどにダメージを与えることなく、短時間で排気配管等のクリーニングを完了できるようにする。 - 特許庁

The effected area can readily be removed in its whole part at a cleaning process after imaging, thus obtaining an image spot of a larger diameter than that of an incident beam.例文帳に追加

作用を受けた領域はイメージング後の洗浄工程で全体を容易に除去でき、入射ビーム径より大きなイメージスポットが得られる。 - 特許庁

To provide a method for forming silicide wherein silicide can be formed at lower temperatures without increasing the wet cleaning process.例文帳に追加

ウェット洗浄工程を増加させることなく、かつ、より低温でシリサイドを形成することが可能なシリサイドの形成方法を提供すること。 - 特許庁

Consequently, elimination of the dry cleaning process itself and so on are achieved to efficiently recover the raw material itself and the metal contained in the raw material.例文帳に追加

これにより、ドライクリーニング処理自体をなくすなどして原料自体の回収や原料に含まれる金属の回収を効率的に行う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor, the method achieving both a lower cost in a cleaning process and a reduced environmental load.例文帳に追加

洗浄工程の低コスト化と環境負荷の低減との両立を実現することが可能な固体電解コンデンサの製造方法を提供する。 - 特許庁

Additionally, the process includes the steps of: cooling the solution and adding an alcohol to the solution to precipitate a product in the solution; repeating the cycle of filtration and cleaning of the solution; and drying the product to obtain the silver nano-particle.例文帳に追加

さらに冷却してアルコールを加えて生成物を沈殿し、濾過、洗浄を繰り返した後、乾燥して銀ナノ粒子を得る。 - 特許庁

As a result, the need for cleaning work after the melting is eliminated, the processing process is simplified and the higher density of the semiconductor devices is resulted.例文帳に追加

これにより、はんだ溶融後の洗浄作業が不要となり、処理工程の簡略化、半導体装置の高密度実装化につながる。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus which allow cleaning process to be carried out without exerting damage on a pattern on a substrate.例文帳に追加

基板上のパターンにダメージを与えることなく洗浄処理することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To omit a cleaning step of a surface to be joined before a welding process, so that efficiency improvement in operation and welding with no error can be achieved.例文帳に追加

溶接工程の前における接合表面のクリーニングステップを省くことができ、作業の効率化とエラーのない溶接を可能にする。 - 特許庁

A surface cleaning process is executed for 10 minutes without any change to increase the temperature of the single crystal substrate up to 1,100°C for 3 minutes and a lattice relaxing layer is formed.例文帳に追加

そのまま10分間表面クリーニング工程を行ない、単結晶基板を1100℃まで3分間かけて昇温し格子緩和層を形成する。 - 特許庁

To provide a substrate treatment method capable of executing a cleaning process high in a removal rate and small in damage, and to provide a substrate treatment device.例文帳に追加

除去率が高く、ダメージが少ない洗浄処理を行うことができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

The reproduction method of the process cartridge 5 includes processes for storing crushed toner in the toner storage part 58, and removing the cleaning brush 54.例文帳に追加

プロセスカートリッジ５の再生方法は、トナー収容部５８に粉砕トナーを収容する工程と、清掃ブラシ５４を取り外す工程とを有する。 - 特許庁

After the substrate is taken out, the organic silica film and precoat film sticking on the plasma reaction chamber inner wall are removed using plasma (cleaning process).例文帳に追加

次いで、基板を取り出した後、プラズマ反応室内壁に付着した有機シリカ膜とプリコート膜とをプラズマを用いて除去する（クリーニング工程）。 - 特許庁

In a step S6, the four classifications of the step S5 is used as classification data, and the effect of improving the chips related with the cleaning treatment process is analyzed.例文帳に追加

その後、ステップＳ６で、ステップＳ５の４分類をチップ分類データとして、洗浄処理工程に伴うチップの良品化効果を解析する。 - 特許庁