「cleaning process」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

After a dry etching process of the semiconductor substrate, when the cleaning liquid composition for the semiconductor substrate is used for surface cleaning of the semiconductor substrate, damage is minimized in a metal layer and an oxide film, and an impurity left on the substrate is easily removed.例文帳に追加

半導体基板のドライエッチング工程後、半導体基板の表面洗浄に前記洗浄液組成物を用いると、金属層及び酸化膜の損傷を最小化し、基板上に残留する不純物の除去を容易にすることができる。 - 特許庁

To provide an inexpensive plasma cleaning apparatus with good facility investment efficiency, which can shift an experimental device with verifications, such as the cleaning experiment, process development, and application development of electronic parts, to a mass-production apparatus.例文帳に追加

本発明は、電子部品の洗浄実験、プロセス開発、あるいは、用途開発等の検証を行った実験装置を量産装置に移行することができ、設備投資効率のよい安価なプラズマ洗浄装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

An ozone-containing cleaning solution provided by dissolving ozone into a saturated fatty group surfactant solution that does not have the inter-carbon double bond expressed by general following Formula is used to carry out cleaning by the surfactant and decomposition/sterilization by the ozone in a single process.例文帳に追加

下記一般式で表される炭素間二重結合を持たない飽和脂肪族系界面活性剤の溶液に、オゾンを溶解させたオゾン含有洗浄液を用いて、界面活性剤による洗浄と、オゾンによる分解，殺菌を一工程で行う。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing toner having cleaning performance facilitating cleaning without the existence of dust between character parts and without reducing fine line reproducibility, and to provide toner, an image forming apparatus using the toner, and a process cartridge thereof.例文帳に追加

文字部の間などにチリがないと共に細線再現性を低下させることがなく、かつ、容易にクリーニングできるクリーニング性能を有するトナーの製造方法、及びトナー、並びにそのトナーを用いる画像形成装置、及びプロセスカートリッジを提供すること。 - 特許庁

To provide a neutralizing apparatus for waste water from a cleaning and sterilizing process of a dialyzing apparatus capable of safely and separately neutralizing at a low cost the cleaning and sterilizing waste water from the dialyzer which tends to be acidic or alkaline.例文帳に追加

透析排水のなかで酸性或いはアルカリ性に傾いている洗浄，消毒廃液を、個別に且つ安全に中和処理し、しかも低コストで処理することのできる透析機器の洗浄，消毒廃液の中和処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning device which can reduce the offset in a fixing process and output high quality image, and is small in size, simple in structure and low in cost, to provide a fixing device having the cleaning device, and to provide an image forming apparatus having the fixing device.例文帳に追加

定着処理でのオフセットを軽減可能とし高品質画像を出力可能な、小型の、簡単な構造の、低価格のクリーニング装置、該クリーニング装置を有する定着装置、および、該定着装置を有する画像形成装置の提供。 - 特許庁

Although the final transfer roll 28 is provided with a cleaning blade 50A, the cleaning process in this portion does not directly influence the picture quality, which results that degradation in the picture quality such as fog can be prevented and the life of the photoreceptor drum can be extended.例文帳に追加

最終転写ロール２８には、クリーニングブレード５０Ａを設けているが、この部分でのクリーニングは、画質に直接影響を与えることがないため、カブリ等の画質低下を防止し、かつ感光体ドラムの寿命を伸ばすことができる。 - 特許庁

The method of wiring the substrate with the wiring pattern formed in a treatment container 100 which is maintained in a vacuum includes a pre-process of cleaning the wiring pattern on a wafer with a desired cleaning gas, and an embedding process of embedding metal nano-particles into the wiring pattern using a clustered metal gas (a metal gas cluster Cg) after the pre-process.例文帳に追加

真空状態に保持された処理容器１００内にて配線用パターンが形成された基板を配線する方法であって、ウエハ上の配線用パターンを所望のクリーニングガスにより洗浄する前工程と、前工程後、クラスタ化された金属ガス（金属ガスクラスタＣｇ）を用いて配線用パターン内に金属ナノ粒子を埋め込む埋め込み工程と、を含むことを特徴とする基板の配線方法が提供される。 - 特許庁

To provide a cleaning agent used for a cleaning process after a planarization polishing process in a semiconductor device manufacturing process, by which dopant existing on the surface of a semiconductor device, especially on the surface of the semiconductor device on which a copper wiring is applied is removed effectively, without causing corrosion and oxidization of the copper wiring, or deterioration of the surface texture of the device planarized.例文帳に追加

半導体デバイス製造工程における平坦化研磨工程後の洗浄工程に用いられる洗浄剤であって、半導体デバイス表面、特に、表面に銅配線が施された半導体デバイスの表面に存在する不純物を、銅配線の腐蝕や酸化、或いは、平坦化されたデバイスの表面性状の悪化を引き起こすことなく、有効に除去することができる洗浄剤を提供する。 - 特許庁

After finishing the heat treatment process in the wet oxygen atmosphere, the wafer may be subjected to oxide film removal cleaning so as to remove an oxide film formed on the wafer surface.例文帳に追加

ウェット酸素雰囲気下での熱処理工程の終了後に、ウェーハ表面に形成された酸化膜を除去するため酸化膜除去洗浄を行ってもよい。 - 特許庁

To provide a seal cleaning tool using sticky rubber suppressing an offensive smell at the time of a manufacturing process and capable of obtaining stable quality capacity regardless of a batch or a season.例文帳に追加

製造工程時の臭気を抑え、バッチごとや季節に関係なく安定した品質性能が得られる粘着性ゴムを用いた印判清掃具を提供する。 - 特許庁

By this setup, the rinsing process performed after an HPM and APM treating processes can be carried out in a shorter time than a usual cleaning method, so that the consumption of the DIW can be restrained.例文帳に追加

これにより、ＨＰＭおよびＡＰＭ処理後のリンス工程を従来の洗浄方法より早めることができて、ＤＩＷの消費を押えることができる。 - 特許庁

To provide a method of measuring a specimen that does not require a cleaning process, does not require an expensive measuring instrument, and allows sensitive and quick measurement.例文帳に追加

洗浄工程を必要とすることなく、高価な測定機器が不要あり、そして高感度かつ迅速な測定が可能な被験物の測定方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a device having electronic components, an electronic circuit module and an electronic circuit device, and to provide a manufacturing method of the same, in which flux cleaning process is not required and manufacturing cost is reduced.例文帳に追加

フラックス洗浄工程を必要とせず、製造コストの安価な電子部品装置、電子回路モジュール、電子回路装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In this process, electrostatic charge that allows the pattern image to attach on the intermediate transfer belt 121 is removed using a detaching charger 161, before cleaning the pattern image.例文帳に追加

ここで、パターン画像がクリーニングされる前に、中間転写ベルト１２１上にパターン画像を静電吸着させている電荷を、分離チャージャ１６１により除去する。 - 特許庁

To provide a process of cleaning a hard surface without using mechanical action, by bringing grease into contact with a liquid composition exhibiting grease removing performance advantage.例文帳に追加

グリース除去性能利益を示す液体組成物をグリースに接触させることによって、機械作用を用いずに硬質面をクリーニングする方法を提供すること。 - 特許庁

Any of a plurality of chambers is provided with a spinning apparatus 25 for conducting spinning process to the substrate before the water cleaning after the processes by the chemical solutions.例文帳に追加

複数の室のうちのいずれかには、薬液処理よりも後で水洗よりも前に基板に対してスピン処理を行なうためのスピン装置２５が設置されている。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus accurately determining the dirt level of a member and efficiently cleaning the member for an image forming process according to the estimation result.例文帳に追加

部材の汚れ具合を正確に判定し、予測結果に合わせて画像形成プロセスの部材を効率的に清掃する画像形成装置を提供することができる。 - 特許庁

At specified time tA1 prior to the processing start of a cleaning process C1, a sulfuric acid concentration adjustment operation A1 is conducted, and sulfuric concentration (shown by a line DL) is held at a constant value.例文帳に追加

洗浄処理Ｃ１の処理開始前の所定の時刻ｔＡ１において、硫酸濃度調整動作Ａ１を行い、硫酸濃度（線ＤＬで示す）を一定値に保つ。 - 特許庁

To provide a metal processing process giving excellent lubrication, wherein no seizure is caused, cleaning is easy, high speed processing is possible and the removal of residues is not required.例文帳に追加

優れた潤滑性を与え、焼付けがなくクリーニングが容易であり、プロセスを高速度で行え、残留物の除去が必要でない金属加工プロセスを提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, in which a protective deposition film is stripped and removed completely, and in which a cleaning process not corroding a wiring body is provided.例文帳に追加

保護堆積膜を完全に剥離除去し、かつ配線体を腐食しない洗浄工程を備えた半導体装置の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

On the other hand, the cleaning residue contains the Ca-component in a lower level and therefore the Pb-content residue of a low gypsum content is by-produced in a sulfuric acid leaching process and is useful for Pb smelting.例文帳に追加

他方、洗浄残渣はＣa分が少ないので硫酸浸出プロセスで石膏含有量の少ないＰb含有残渣が副生し、これはＰb製錬に有用である。 - 特許庁

To provide a cleaning and coating apparatus which can prevent damages to a substrate to be treated due to vibration or warp, yet can efficiently process substrates to be processed continuously.例文帳に追加

振動や反りによる被処理基板の破損が回避され、しかも被処理基板を連続的に効率よく処理することができる洗浄・塗布処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a water cleaning structure that can purify water in inner water areas along coastal zones in seas and lakes or the like in an infiltration process, maintaining a high ratio of suspended-matter removal and preventing clogging.例文帳に追加

海、湖沼等の沿岸部に隣接する内水域を浸透濾過で浄化する際、懸濁物の除去率を高く維持しながら、なおかつ目詰まりを防止する。 - 特許庁

The outside of the pump is cleaned out with the solvent fed from the circulation tank 60 by making V12 in an opened state in parallel with the inside-cleaning process.例文帳に追加

以上の内部洗浄工程と並行して、Ｖ１２を「開」の状態にすることで、循環タンク６０から供給された溶剤によって、ポンプ外部の洗浄が行われる。 - 特許庁

To provide a plasma process device chamber member in which plasma resistance is secured, which can be used for long time even if a cleaning processing is repeated and which is economically advantageous.例文帳に追加

耐プラズマ性が確保されており、クリーニング処理を繰り返しても長期間使用可能で、経済的に有利なプラズマプロセス装置用チャンバー部材を提供すること。 - 特許庁

An excessive synthetic resin Px flows into the recess 5, to prevent the synthetic resin from being bulged out toward the reverse face side, and a cleaning process for wiping work or the like is eliminated by this manner.例文帳に追加

余剰の合成樹脂Ｐｘは凹部５内へ流入するから、裏面側へのはみ出しが防止され、拭き取り作業等の清掃工程が不要になる。 - 特許庁

To substantially remove and reduce the weak point ad the problem accompanying a system and a method for gas flow cleaning developed before used in semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

半導体製造において使用される以前に開発されたガス流浄化システムおよび方法に伴う欠点および問題を実質的に除去または減少させること。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a substrate processing device, easily removing deposits sticking in a turbo molecular pump without requiring a complicated process.例文帳に追加

複雑な工程を要することなく、簡易にターボ分子ポンプの内部に付着した付着物を除去することのできる基板処理装置のクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing silicon refined by a refining process for effectively reducing aluminum with low silicon loss using an easily handleable cleaning liquid.例文帳に追加

ハンドリングが容易な洗浄液を用いて、少ないシリコンのロスでアルミニウムを効果的に低減できる精製方法により精製されたシリコンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optoelectronic device and a method for manufacturing optoelectronic device by which the process of cleaning an optoelectronic material cell is made unnecessary and the production efficiency can be improved.例文帳に追加

電気光学材料セルの洗浄工程を不要にし、生産効率を向上することができる電気光学装置及び電気光学装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

This method further comprises a step of removing the first wafer and processing another wafer using the same process without cleaning the inside of the processing chamber between wafers.例文帳に追加

この方法は第１のウエハを除去し、かつウエハ間で処理室内を清掃することなく同じ工程を用いてさらなるウエハを処理する工程をさらに含む。 - 特許庁

To improve the efficiency of a dry cleaning process for removing a natural oxide film and further, to minimize the quantity of fluorine atoms to be adsorbed onto the surface of a treated substrate.例文帳に追加

自然酸化膜を除去するドライクリーニングプロセスにおいて、プロセスの効率を向上させ、さらに処理された基板表面へのフッ素原子の吸着量を最小化する。 - 特許庁

In each image forming part 20, the discharging process of removing the residual charge of the photoreceptor drum 22 is carried out before cleaning the toner remaining on the surface of the drum 22.例文帳に追加

各画像形成部２０は、感光体ドラム２２の残留電荷を除去する除電工程を、ドラム表面に残留するトナーをクリーニングする前に実行する。 - 特許庁

To improve the cleaning performance of thermoplastic recording materials remaining on an image carrying member while downsizing an image creation engine without adversely affecting the next image creation process.例文帳に追加

次の作像プロセスに悪影響を及ぼすことなく、作像エンジンの小型化を図りながら、像担持体上に残留する熱可塑性記録材料のクリーニング性能を改善する。 - 特許庁

To provide both a method for producing a high-purity texafluorothane usable as an etching gas or a cleaning gas in a production process for a semiconductor device and the use thereof.例文帳に追加

半導体デバイスの製造工程でエッチングガスあるいはクリーニングガスとして使用することができる高純度のヘキサフルオロエタンを製造する方法およびその用途を提供する。 - 特許庁

A substrate cleaning apparatus (10) is provided with a nozzle (60) located below the lower surface of a substrate (W) held by a substrate holding mechanism and ejecting process liquid to the lower surface of the substrate.例文帳に追加

基板洗浄装置（１０）は、基板保持機構に保持された基板（Ｗ）の下面の下方に位置して基板の下面に処理液を吐出するノズル（６０）を備える。 - 特許庁

Residues generated when a semiconductor layer is subjected to dry-etching in a semiconductor substrate manufacturing process are removed by the use of a cleaning agent containing an oxidizing agent and a chelating agent.例文帳に追加

半導体基板の製造工程において、半導体層のドライエッチング時に発生する残渣物を酸化剤とキレ−ト剤とを含有する洗浄剤により除去する。 - 特許庁

The image forming apparatus is configured to perform an aging process of trial running of the image carrier and a cleaning blade by using magnetic toner after supplying the magnetic toner with high lubricity and polishing property to a fur brush.例文帳に追加

潤滑性と研磨性の高い磁性トナーをファーブラシへ供給した後、磁性トナーを用いて像担持体表面とクリーニングブレードをならすエージング工程をおこなう。 - 特許庁

The thin layer also protects the low dielectric constant film from the subsequent wet cleaning process and penetration by a precursor of a layer subsequently laminated on the low dielectric constant film 102.例文帳に追加

薄層は、また、続いての湿式洗浄プロセスと、低誘電率膜上に続いて堆積される層の前駆物質による浸透から低誘電率膜を保護する。 - 特許庁

The wafer carried into the chamber is cooled by blowing the cooling nitrogen and water drops remaining on the wafer leaving the cleaning process are also cooled.例文帳に追加

チャンバーに搬入されたウエハに冷却窒素ブローが施されることによりウエハが冷却され、ウエハ上に洗浄工程から残留している水滴も同様に冷却される。 - 特許庁

To provide a cleaning device which is capable of suppressing contamination of a polarity control member and prolonging service life of the polarity control member and to provide an image forming apparatus and a process cartridge.例文帳に追加

極性制御部材の汚れを抑制し、かつ、極性制御部材の寿命を延ばすことのできるクリーニング装置、画像形成装置およびプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

In the polishing process, the upper surface BU of the vehicle body B is cleaned by applying a cleaning fluid to the upper surface BU while being polished with a polishing net 41 brought into contact with the upper surface BU.例文帳に追加

研ぎ工程では、車両ボディＢの上面ＢＵに研ぎ網４１を摺接させて研ぎを行いつつ、上面ＢＵに洗浄用流体を作用させて洗浄する。 - 特許庁

STRIP CASTING EQUIPMENT, ROLLING MILL AND/OR STRIP PROCESS LINE, IN PARTICULAR, METHOD AND DEVICE FOR CLEANING ROLL OR ROLLER IN TEMPERING DEVICE, OR SIMILAR RE-ROLLING MILL例文帳に追加

ストリップ鋳造設備、圧延装置及び又はストリッププロセスライン、特に調質装置又は類似の再圧延装置におけるロール及び又はローラの洗浄方法及び装置 - 特許庁

To provide a developer capable of forming a good image under cleaning simultaneous with development, an image forming method using the developer, an image forming device and a process cartridge.例文帳に追加

良好な現像同時クリーニング画像形成を可能とする現像剤、並びに、それを用いる画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁