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cleaning processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2302件
To simplify manufacturing process of a connecting fastener, cleaning at a working site and to prevent damage to a floor plate due to working by maintaining straight advancing property of the fastener during driving the fastener.例文帳に追加
ファスナーの打込時にファスナーの直進性を確保し、連結ファスナーの製造工程の簡略化と、施工現場での清掃の簡略化と、施工に伴う床板の損傷防止を図る。 - 特許庁
By doing so, jam disposal can be facilitated even if the document is jammed in the conveying route, and also cleaning process can be simplified for stains stuck to a read surface of the reading means.例文帳に追加
こうすることで、原稿搬送路に原稿が詰まった場合でも容易にジャム処理をすることができ、また、読取手段の読取面に付着した汚れの清掃処理も簡単に行える。 - 特許庁
To provide a flip-chip mounting method by which the need for a flux residue cleaning removal process can be eliminated, and in addition, adverse effects caused by the residue of flux can be removed.例文帳に追加
フラックス残渣の洗浄除去工程を省略することができるうえ、フラックス残渣に起因する悪影響の排除が可能なフリップチップ方式の実装方法を提供する。 - 特許庁
The shower plate, through which both cleaning gas and reaction source gas flow, may include a hole machined surface area with a size different than conventionally used to ensure a good film thickness uniformity during a deposition process.例文帳に追加
クリーニングガス及び反応ガスの両方が通過するシャワープレートは従来と異なるサイズの孔切削表面を有し、膜堆積処理中に良好な膜厚均一性を保証する。 - 特許庁
When the process cartridge 20 is loaded inside a casing 2, an actuator 100 in the casing 2 is turned by the moving member 992, so that cleaning of the electrifying wire 94 is detected.例文帳に追加
プロセスカートリッジ20がケーシング2内に装着されると、移動部材992によってケーシング2中のアクチュエータ100が回動し、帯電ワイヤ94の清掃が検出される。 - 特許庁
To provide a cleaning device for manufacturing an information display panel that can be installed easily and inexpensively at a reverse side of the substrate conveying surface in any process with a simple configuration.例文帳に追加
簡単な構成で基板搬送面の裏側への設置が容易であり、設備費もかからず、どの工程でも設置可能な情報表示用パネルの製造に用いるクリーニング装置を提供する。 - 特許庁
To provide the process cartridge capable of cleaning members, such as an exposure means, periodically, without troubling a user, and to provide an electrophotographic image forming device using the same.例文帳に追加
露光手段等の部材を使用者の手を煩わせることなく定期的に清掃することが可能なプロセスカートリッジ及びこれを用いる電子写真画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To reduce an equipment cost and a running cost necessary for cleaning water produced as a by-product in the production of liquefied hydrocarbons by an FT (Fischer-Tropsch) process thereby making the water as the by-product usable for various applications.例文帳に追加
FT法において液化炭化水素の副産物として生じる副生成水を浄化して各種用途に利用可能な水とする際の設備コスト、ランニングコストの低減を図る。 - 特許庁
In the first cleaning process 3, the treatment liquid W1 is the nitric acid whose temperature is at 70°C or above and 150°C or below and the crushed concrete S1 is immersed in the treatment liquid W1 for 3 for not longer than 30 hours.例文帳に追加
第一の洗浄工程2では、処理液W1は70℃以上150℃以下の硝酸であり、処理液W1に粉砕物S1を3時間以上30時間以下浸す。 - 特許庁
To provide a polymer film formation apparatus with a cleaning apparatus mounted thereon of which ink jet head can reliably be cleaned and which is safe to other apparatus and does not interfere with the film formation process.例文帳に追加
確実にインクジェットヘッドのクリーニングを実施でき、他装置に対して安全であり、かつ成膜プロセスの妨げにならないクリーニング装置を搭載した高分子膜形成装置を提供する。 - 特許庁
To provide an apparatus for processing substrates which can enhance cleaning capability and coating-film removing capability, by increasing the reaction rate of the process and raising the activity of the processing liquid.例文帳に追加
処理の反応速度を高めるとともに処理液の活性度を高めることによって、洗浄能力や被膜除去能力を向上できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁
A process unit 43 is mounted on a body part 5, and a knob part 23 provided to the body part 5 is operated so as to move a body side fitting member 73 provided via the cleaning member.例文帳に追加
プロセスユニット43を本体部5に装着し、本体部5に設けられたツマミ部23を操作することで清掃部材を介して設けられた本体側嵌合部材73を移動させる。 - 特許庁
During the execution of a drying process, bacteria suspended in the air are sterilized by mixing cations and anions with air passed through the dish cleaning chamber 2 and exhausted from the exhaust part 11A to the outside.例文帳に追加
乾燥工程の実行中、食器洗浄室2を通過して排気部11Aから外部へ放出される空気中に正負イオンを混入して、空気中の浮遊細菌を殺菌する。 - 特許庁
To regenerate catalysts by efficiently cleaning away the scale sticking to catalyst surfaces with catalyst wet process oxidation equipment for treating waste water in which metals coexist together with ammonia.例文帳に追加
アンモニアと共に金属が共存する排水を処理する触媒湿式酸化装置において、触媒表面に付着したスケールを効率的に洗浄除去して触媒を再生する。 - 特許庁
To provide a device for modifying pattern which permits automatic exchange of an application needle, shortens exchange time of the application needle, maintains the quality of the application needle and unnecessitates a cleaning process.例文帳に追加
塗布針を自動交換可能にし、塗布針交換時間の短縮および塗布針の品質維持を図るとともに、洗浄工程を不要にするパターン修正装置を提供する。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus more excellent in performance to recover residual toner after transfer than a conventional one by a simultaneous developing-cleaning system by which residual toner after transfer is recovered with a developing device, and to provide a process cartridge.例文帳に追加
転写残トナーを現像器で回収する現像同時クリーニング方式で、従来よりも転写残トナーの回収性の優れた画像形成装置、およびプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁
To reduce adhering of dust by static electricity generated at the time of the cleaning process of a panel surface executed at the time of forming a low reflection coat on the panel surface of a display device.例文帳に追加
ディスプレイデバイスのパネル表面に低反射コートを形成する際に行われるパネル表面の清浄工程時に生ずる静電気による、塵の吸着を減少させる。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus capable of preventing the occurrence of flaws in an image carrier surface even if the apparatus includes a plurality of cleaning brushes, and to provide a process cartridge for the image forming apparatus.例文帳に追加
複数のクリーニングブラシを備えた装置構成の場合でも像担持体表面への傷の発生を防止できる画像形成装置及び、画像形成装置用プロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁
This semiconductor cleaning agent is composed of a water solution containing policarboxylic acid which is used for removing the residual which generates in the process for manufacturing the element using the ferroelectric material.例文帳に追加
強誘電体材料を用いた素子の製造工程で発生する残渣物を除去する際に使用する、ポリカルボン酸を含有する水溶液からなる半導体用洗浄剤。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a capacitor of a semiconductor device which prevents the occurrence of failures and damages of the capacitor by a cleaning operation after PH3 doping, and simplifies the process.例文帳に追加
PH_3ドーピングを行った後の洗浄作業による不良の発生、ならびにキャパシタの破損を防止し、工程が単純化される半導体素子のキャパシタ製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a dust collector for baking molds or the like for making bread which can sanitarily, effectively and continuously perform the cleaning of the inner parts of baking molds to be carried out after finishing the baking process.例文帳に追加
焼成工程終了後に行われる食型内部の清掃を衛生的且つ連続的に効率よく行うことが可能な製パン用食型等の集塵装置を提供する。 - 特許庁
As a supplement operation B1 of the hydrogen peroxide solution is conducted immediately before the cleaning process C1 of the substrate, it is possible to restrict influences due to a natural deterioration of the hydrogen peroxide solution to be minimum.例文帳に追加
過酸化水素水の補充動作B1を基板の洗浄処理C1の直前に行うので、過酸化水素水の自然劣化による影響を最小限にとどめることができる。 - 特許庁
A pad 22 and a cleaning blade 38 to be depressed on a photoreceptor drum 12 are arranged on the downstream side in the process direction (direction of an arrow A) of a transfer position of a toner image of the photoreceptro drum 12.例文帳に追加
感光体ドラム12のトナー像の転写位置のプロセス方向(矢印A方向)下流側には、感光体ドラム12に押圧されるパッド22と、クリーニングブレード38が配置されている。 - 特許庁
To easily automate a process of cutting and cleaning the tube end required when fusing the tube end of a thermoplastic resin tube.例文帳に追加
熱可塑性樹脂管の管端を融着する際に必要な管端を切削したり洗浄する工程を簡単に自動化することのできる熱可塑性樹脂管の管端処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a film forming apparatus and a film forming method capable of utilizing an ALD (Atomic Layer Deposition) process at high productivity without using a high speed switch valve, and capable of cleaning in a chamber.例文帳に追加
高速スイッチングバルブを用いずにかつ高い生産性で、ALD法を利用することができ、チャンバー内クリーニングが可能な成膜装置および成膜方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an apparatus and a method for producing hydrogen by a thermochemical process, in each of which hydrogen can be efficiently produced by cleaning/recovering iodine stuck to the inner wall of a vessel.例文帳に追加
容器の内壁に付着したヨウ素が洗浄され回収されて効率的な水素製造を可能とする熱化学法による水素製造装置及びその装置を提供する。 - 特許庁
To remove an etching product adsorbed onto a semiconductor substrate substantially thoroughly in an interface cleaning process for removing an oxide film on the semiconductor substrate by dry etching.例文帳に追加
ドライエッチング処理により半導体基板上の酸化膜を除去する界面清浄化処理において、半導体基板上に吸着させたエッチング生成物をほぼ確実に除去可能にする。 - 特許庁
To carry out continuous treatment of processing machines independently of cleaning of wastewater treatment facilities and to make introduction of a new processing process easy by utilizing already existing facilities.例文帳に追加
廃液処理設備の清掃等に拘わらず加工機械の連続処理が可能で、しかも新たな加工プロセスを導入した時に、既存の設備を利用して容易にこれに対処できるようにする。 - 特許庁
To provide a low-cost toner which avoids reduction of cleaning efficiency and has good fixability, a production method by which the toner is easily produced, an image-forming apparatus and an image-forming process.例文帳に追加
クリーニング性の低下がなく、かつ、定着性が良好で低コストなトナーと、これを簡便に製造する製造方法、さらには画像形成装置および画像形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a plasma etching device capable of reducing particles generated during etching process in an inductive coupling type plasma etching device, and the cleaning method of the device.例文帳に追加
誘導結合型のプラズマエッチング装置において、エッチング処理中に発生するパーティクルを低減することができるプラズマエッチング装置及び当該装置のクリーニング方法を提供する。 - 特許庁
To obtain a detergent composition for a laundry, exhibiting a sufficient bleaching performance and having a good rinsing property in a cleaning process in a continuous washing machine using hydrogen peroxide.例文帳に追加
過酸化水素を用いる連続洗濯機における洗浄工程において、充分な漂白性能を発現し且つ、すすぎ性も良好なランドリー用洗浄剤組成物の提供。 - 特許庁
To provide a cleaning device which improves cleanability by a simple constitution even if toner having high average circularity is used, a process cartridge, and an image forming apparatus equipped therewith.例文帳に追加
平均円形度の高いトナーを用いても、簡易な構成でクリーニング性を向上させるクリーニング装置、プロセスカートリッジ及びこれらを備える画像形成装置を提供することである。 - 特許庁
To effectively clean substrates without leaving attached particles on the substrates when drying after substrate cleaning, and to reduce cost in a manufacturing process of quartz glass substrates for semiconductor photomasks.例文帳に追加
半導体フォトマスク用石英ガラス基板の製造工程において、基板洗浄後の乾燥時に、基板上に付着粒子を残さず基板を効果的に清浄化すると共に、コスト低減を図る。 - 特許庁
To provide a technique for accurately and easily diagnosing abnormal operation in a process by discontinuously detecting one type of signals to determine abnormal conditions that occur in cleaning treatment.例文帳に追加
クリーニング処理において発生する異常条件を、一種類の信号を非連続的に検出することにより、プロセスの異常を的確にかつ簡便に診断する技術を提供する。 - 特許庁
The cleaning process of the ground water comprises the steps of adding a corn steep liquor to the ground water contaminated with the organic compound and decomposing the organic compound by microorganisms under an anaerobic condition.例文帳に追加
有機化合物で汚染された地下水にコーンスティープリカーを添加し、嫌気性条件下で微生物により有機化合物を分解することを特徴とする地下水の浄化方法。 - 特許庁
To provide a treatment method of wastewater in coal gasification capable of efficiently removing a COD (chemical oxygen demand) causing substance contained in gas cleaning wastewater generated in a coal gasification process.例文帳に追加
石炭ガス化工程において発生するガス洗浄排水中に含まれるCOD起因物質を、効率よく除去することができる石炭ガス化排水の処理方法を提供する。 - 特許庁
The related invention (Claim 2), the cleaning process is to be effected on the ready-mixed concrete transfer hoses and is to maintain the function to transfer the ready-mixed concrete transfer. 例文帳に追加
(請求項2)の洗浄方法は、生コンクリートの輸送ホースの洗浄を行うものであり、特定発明(請求項1)の輸送ホースの生コンクリートを輸送する機能を維持するものである。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus which ensures high transfer efficiency, does not cause image defects due to faulty cleaning, and gives high image quality, a toner for image formation used in the image forming apparatus and a process cartridge.例文帳に追加
転写効率が高く、かつクリーニング不良等による画像不良が生じない高画質の画像形成装置、該画像形成装置で使用する画像形成用トナー及びプロセスカートリッジ。 - 特許庁
To provide a technique for improving removal characteristics of a photo resist film (photosensitive masking layer) while reducing consumption of H_2O_2, in a wafer (substrate) cleaning process using a Caro's acid.例文帳に追加
カロー酸を用いたウエハ(基板)洗浄工程において、H_2O_2の使用量を低減しつつ、フォトレジスト膜(感光性マスキング層)の除去性を向上できる技術を提供する。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus and a process cartridge capable of prolonging the life of a photoreceptor drum and enhancing a cleaning performance while maintaining good image quality by suppressing a ghost.例文帳に追加
ゴーストを抑制して良好な画質を維持しつつ、感光ドラムの長寿命化およびクリーニング性の向上を図ることのできる画像形成装置およびプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁
To solve such a problem that firmly adhered grime cannot be removed by a sponge, and a large amount of a cleaning agent is required, or the material is scratched by a metal rubbing brush, and an additional coating process is required or the like.例文帳に追加
がんこに付着している垢は、スポンジでは落ちずに大量の洗浄剤を必要としたり、金属タワシでは素材にキズをつけ、余分なコーティング加工を必要としたりする。 - 特許庁
The cleaning apparatus 50 so repeats the transcriptional process comprising the contact of the transcriptional material F with the sucking surface 2a and the changeover of the plane portion of the transcriptional material F as to clean enough the sucking surface 2a.例文帳に追加
清浄化装置50は転写工程を転写材Fと吸着面2aへの接触と切り換えを繰り返すことにより吸着面2aを充分に清浄化する。 - 特許庁
To enable a cleaning motion by a resin for skin of the distal end section of a nozzle which is performed in the final stage of a sandwich molding process to be performed regardless of a filling into a die cavity.例文帳に追加
サンドイッチ成形工程の最終段階で行われるノズル先端部のスキン用樹脂によるクリーニング動作を金型キャビティへの充填とは無関係に行うことを可能にする。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus in which downtime can be reduced by early stopping an image carrier for cleaning and adjusting a process section during continuous image formation.例文帳に追加
連続画像形成中に行われるプロセス部の清掃調整処理等のために像担持体を停止させるタイミングを速めてダウンタイムを削減することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁
In draining water in the bleaching process of the dishwasher 1, the cleaning water containing the bleaching component is replenished with water to dilute it down to a level that may not pose any problem and is drained.例文帳に追加
また洗浄水中の漂白成分や漂白成分と汚れの化合物に由来する臭気が排水の時に周囲に漂い出て、使用者に不快感をもたらす問題があった。 - 特許庁
The wiping member 16 cleans the discharging surface 9 of a liquid discharging head 4 by moving while coming into contact with the discharging surface 9 of the liquid discharging head 4 which discharges ink at the time of a discharging surface cleaning process.例文帳に追加
ワイプ部材16は、吐出面清掃処理時に、インクを吐出する液体吐出ヘッド4の吐出面9に接触しながら移動することで吐出面9を清掃する。 - 特許庁
In the first cleaning process 3, the treatment liquid W1 is the nitric acid whose temperature is at 70°C or above and 150°C or below and the crushed concrete S1 is immersed in the treatment liquid W1 for 3 or more and 30 or less hours.例文帳に追加
第一の洗浄工程3では、処理液W1は70℃以上150℃以下の硝酸であり、処理液W1に粉砕物S1を3時間以上30時間以下浸す。 - 特許庁
To provide a conductive roll which is made compact and light in weight, is excellent in durability and sliding performance and is reduced in resistance variation against energization and environment, and to provide a cleaning unit, a process cartridge and an image forming apparatus using the conductive roll.例文帳に追加
小型・軽量化が実現され、耐久性及び摺動性に優れ、通電及び環境に対する抵抗変動が低減される導電性ロールを提供すること。 - 特許庁
To provide a cleaning-less electrophotographic image forming device giving good image quality nearly free from image blurring, black spots and fog, an electrophotographic image forming method using the device and a process cartridge.例文帳に追加
画像ボケ、黒ポチが少なく、且つ、カブリが少ない等、良好な画質をあたえる電子写真画像形成装置、それを用いる電子写真画像形成方法及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁
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