「cleaning process」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

As another example, it is constituted of a process adding a third process to carry out acid cleaning on the surface between the second process and the third process of the first example.例文帳に追加

別の例として、第１の例の第２工程と第３工程の間に表面を酸洗いする第３工程を追加した工程からなる。 - 特許庁

To remove a film formed at dry etching process by cleaning in every dry etching process.例文帳に追加

ドライエッチング処理毎にクリーニング処理を実施して、ドライエッチング処理時に形成された膜を除去する。 - 特許庁

CLEANING APPARATUS, IMAGE FORMING APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND PROCESS CARTRIDGE INCLUDING THE SAME例文帳に追加

クリーニング装置、これを備えた画像形成装置、及びプロセスカートリッジ - 特許庁

A process of cleaning and drying a substrate is carried out as follows.例文帳に追加

基板の洗浄処理および乾燥処理を以下の手順で行う。 - 特許庁

CLEANING BLADE, IMAGE FORMING APPARATUS, PROCESS CARTRIDGE, AND IMAGE FORMING METHOD例文帳に追加

クリーニングブレード、画像形成装置、プロセスカートリッジ及び画像形成方法 - 特許庁

CLEANING DEVICE, IMAGE FORMING APPARATUS PROVIDED WITH SAME, AND PROCESS CARTRIDGE例文帳に追加

クリーニング装置とこれを備えた画像形成装置及びプロセスカートリッジ - 特許庁

CLEANING DEVICE AND PROCESS CARTRIDGE PROVIDED THEREWITH AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

クリーニング装置とそれを備えたプロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁

SCREEN PROCESS PRINTING, METHOD AND APPARATUS FOR CLEANING PLATE, AND SCREEN PLATE例文帳に追加

スクリーン印刷と版のクリーニングの方法および装置とスクリーン版 - 特許庁

To provide a method for cleaning an automatic process device.例文帳に追加

本発明は、自動処理装置をクリーニングするための方法に関する。 - 特許庁

IMAGE FORMING APPARATUS AND CLEANING CAPABILITY RECOVERY PROCESS CONTROL METHOD例文帳に追加

画像形成装置およびクリーニング能力回復処理制御方法 - 特許庁

CLEANING ROLL FOR ELECTRIFYING ROLL, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

帯電ロール用のクリーニングロール、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 - 特許庁

CLEANING DEVICE AND PROCESS CARTRIDGE USING THE SAME AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

クリーニング装置及びこれを用いるプロセスカートリッジ、画像形成装置 - 特許庁

CLEANING BLADE, IMAGE FORMING APPARATUS, PROCESS CARTRIDGE, AND IMAGE FORMING METHOD例文帳に追加

クリーニングブレード、画像形成装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成方法 - 特許庁

BLADE, CLEANING DEVICE, APPLICATOR, PROCESS CARTRIDGE, AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

ブレード、クリーニング装置、塗布装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁

In addition, the cleaning means can also be constituted as a process cartridge.例文帳に追加

また、上記クリーニング手段をプロセスカートリッジとして構成しても良い。 - 特許庁

LOW-FOAMING, ACIDIC AND LOW-TEMPERATURE CLEANER AND PROCESS FOR CLEANING SURFACES例文帳に追加

低発泡性酸性低温洗浄剤および表面洗浄法 - 特許庁

ROLLER CLEANING DEVICE, CHARGER, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

ローラクリーニング装置、帯電装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁

The wafer cleaning equipment has an auxiliary water tank 11 at the process starting part of the equipment and a transfer cleaning tank 71 at the process finishing part of the equipment.例文帳に追加

洗浄装置の始端部には予備水槽１１が配設されるとともに、終端部には搬送洗浄槽７１が配設されている。 - 特許庁

SOLID LUBRICANT, CLEANING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE, AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

固形潤滑剤、クリーニング装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁

LUBRICANT APPLYING AND CLEANING UNIT, PROCESS CARTRIDGE, AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

潤滑剤塗布・クリーニングユニット、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 - 特許庁

The polishing pad cleaning process is performed before polishing the semiconductor substrate.例文帳に追加

研磨パッド洗浄プロセスは、半導体基板の研磨前に実施する。 - 特許庁

TONER CONVEYING DEVICE, CLEANING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE, AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

トナー搬送装置、クリーニング装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置 - 特許庁

CLEANING FLUID CONTAINING CORROSION INHIBITOR USED IN SEMICONDUCTOR PROCESS例文帳に追加

半導体工程で使用される腐食防止剤を含む洗浄液 - 特許庁

The manufacturing method of an optical information recording medium includes: a substrate manufacturing process; a recording layer forming process; an edge cleaning process; a reflecting film forming process; and an adhesion process.例文帳に追加

光情報記録媒体の製造方法は、基板作製工程と、記録層形成工程と、エッジ洗浄工程と、反射膜形成工程と、接着工程とを有する。 - 特許庁

The non-stretching swelling process (A1), stretching swelling process (A2), dyeing process (C), crosslinking process (D) and cleaning process (E) are performed in this order, and the stretching process (B) is performed simultaneously with the dyeing process (C) or crosslinking process (D).例文帳に追加

無延伸膨潤工程（Ａ１）、延伸膨潤工程（Ａ２）、染色工程（Ｃ）、架橋工程（Ｄ）、および洗浄工程（Ｅ）をこの順序で行い、延伸工程（Ｂ）は、染色工程（Ｃ）または架橋工程（Ｄ）と同時に行う。 - 特許庁

Since a transfer process is not included between the cleaning process and the applying process, and one device performs the cleaning and applying processes, the processes and the facility are simplified.例文帳に追加

また、洗浄工程と塗布工程の間に搬送工程を含まず、一つの装置で洗浄塗布工程が行えるため、工程及び設備の簡易化が可能である。 - 特許庁

To provide a method for producing ink-removed pulp capable of maintaining the low pulp concentration in its cleaning process by enabling the dehydration in a good efficiency in a dehydration and concentration process after the cleaning process.例文帳に追加

精選工程後の脱水濃縮工程において、効率のよい脱水を可能とすることで、前記精選工程でパルプ濃度を低く維持できるようにする。 - 特許庁

The cleaning method comprises the first cleaning process in which a material to be cleaned is washed with a cleaning agent (A) containing at least tetrahydrodicyclopentadiene and the second cleaning process in which the material having the cleaning agent (A) attached on it through the first cleaning process is washed with a cleaning agent (B) containing at least a fluorinated hydrocarbon.例文帳に追加

少なくともテトラヒドロジシクロペンタジエンを含有する洗浄剤（Ａ）を用いて被洗浄物を洗浄する第１洗浄工程と、該第１洗浄工程を経て前記洗浄剤（Ａ）が付着した被洗浄物を、少なくともフッ素化炭化水素化合物を含有する洗浄剤（Ｂ）を用いて洗浄する第２洗浄工程とを有する洗浄方法。 - 特許庁

To provide a new dry cleaning process for cleaning of an oxidized surface layer in an integrated circuit.例文帳に追加

集積回路における酸化表面層の洗浄を行うための新しいドライクリーニングプロセスの提供。 - 特許庁

IMAGE FORMING APPARATUS, PROCESS CARTRIDGE USED FOR THE IMAGE FORMING APPARATUS, CLEANING DEVICE AND CLEANING BLADE例文帳に追加

画像形成装置、前記画像形成装置に用いられるプロセスカ−トリッジ、クリ−ニング装置及びクリーニングブレード - 特許庁

Subsequently, a cleaning process, such as ultrasonic cleaning, is applied to a compound semiconductor substrate in this state.例文帳に追加

そして、この状態で化合物半導体基板に超音波洗浄等の洗浄工程が施される。 - 特許庁

DEVELOPING BLADE AND CLEANING BLADE, DEVELOPING DEVICE, CLEANING DEVICE, IMAGE FORMING APPARATUS USING SAME, AND PROCESS CARTRIDGE例文帳に追加

現像ブレード、クリーニングブレード及びこれを用いた現像装置、クリーニング装置、画像形成装置、プロセスカートリッジ - 特許庁

DEVELOPING DEVICE USING DEVELOPING BLADE, CLEANING DEVICE USING CLEANING BLADE, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

現像ブレードを用いた現像装置、クリーニングブレードを用いたクリーニング装置、プロセスカートリッジ、画像形成装置 - 特許庁

Alternatively, cleaning liquid of organic solvent, or the like, substantially containing no moisture, is employed in the cleaning process.例文帳に追加

または、該洗浄工程において、実質的に水分を含まない有機溶剤等の洗浄液を用いる。 - 特許庁

When a high boiling point solvent is used as the cleaning liquid 23, cleaning process can be carried out in safety.例文帳に追加

また、クリーニング液２３に高沸点溶剤を用いれば、安全にクリーニング工程を行うことができる。 - 特許庁

To provide cleaning equipment and a cleaning method where polishing slurry and microscratches are not left, in a cleaning process after chemical- mechanism polishing.例文帳に追加

化学機械研磨後の洗浄工程において、研磨スラリーやマイクロスクラッチが残留しない洗浄装置と洗浄方法を提供する。 - 特許庁

This cleaning method of membrane module subjecting the water to be treated to flocculation treatment and then membrane filtration is constituted with a first process of performing acid cleaning, a second process of performing alkali cleaning and a third process of performing acid cleaning.例文帳に追加

被処理水を凝集処理して膜濾過する膜モジュールの洗浄方法において、酸洗浄する第１工程と、アルカリ洗浄する第２工程と、酸洗浄する第３工程とを有することを特徴とする膜モジュールの洗浄方法。 - 特許庁

To provide an inkjet head cleaning device which performs a cleaning work suitable to the direction of a head in an inkjet head cleaning process, and an inkjet head cleaning method.例文帳に追加

インクジェットヘッドの洗浄工程において、ヘッドの向きに適した洗浄方法を行うインクジェトヘッド洗浄装置及びインクジェットヘッド洗浄方法を提供すること。 - 特許庁

This scale preventing method for the kraft pulp cleaning and breaching process step is characterized in that seed crystals of scale materials are added to the process water of the cleaning and breaching process step of the kraft pulp manufacturing process step.例文帳に追加

クラフトパルプ製造工程の洗浄漂白工程において、スケール物質の種晶を該工程の工程水に添加することを特徴とするクラフトパルプ洗浄漂白工程のスケール防止方法。 - 特許庁

To provide a semiconductor power module manufactured by a soldering process without cleaning processes using cleaning liquids, a wire-bonding process, or a process of sealing with an epoxy-based resin, after the wire-bonding process.例文帳に追加

洗浄液を用いる洗浄工程なしで半田付け工程にワイヤボンド工程、あるいはワイヤボンド工程後のエポキシ系樹脂封止する工程によって製造した半導体パワーモジュールの提供。 - 特許庁

To provide a cleaning device using electromagnetic waves, which is capable of performing stable cleaning while eliminating the need of performing maintenance work such as comfirmatory check work or replacement work of an ultrasonic vibrator and without causing any reduction in cleaning effect, and also to provide a cleaning process using the cleaning device.例文帳に追加

超音波振動子の確認、交換作業などのメンテナンスが不要で洗浄効果の低下がなく、安定した洗浄を行うことが可能な装置及び方法を提供すること。 - 特許庁

In a cleaning process being performed later than a process for forming a ferroelectric thin film 110 becoming a part of a ferroelectric thin film capacitor, dry cleaning, e.g. ashing, Ar aerosol cleaning, CO_2 cleaning, cleaning with CO_2 in a supercritical state, or UV cleaning, is employed.例文帳に追加

強誘電体薄膜キャパシタの一部となる強誘電体薄膜１１０を形成する工程よりも後に行なわれる洗浄工程において、アッシング、Ａｒエアロゾル洗浄、ＣＯ_2 洗浄、超臨界状態のＣＯ_2 による洗浄又はＵＶ洗浄等のドライ洗浄を用いる。 - 特許庁

In a cleaning process being performed later than a process for forming a ferroelectric thin film 110 becoming a part of a ferroelectric thin film capacitor, dry cleaning, e.g. ashing, Ar aerosol cleaning, CO_2 cleaning, cleaning with CO_2 in supercritical state, or UV cleaning, is employed.例文帳に追加

強誘電体薄膜キャパシタの一部となる強誘電体薄膜１１０を形成する工程よりも後に行なわれる洗浄工程において、アッシング、Ａｒエアロゾル洗浄、ＣＯ_2 洗浄、超臨界状態のＣＯ_2 による洗浄又はＵＶ洗浄等のドライ洗浄を用いる。 - 特許庁

CLEANING DEVICE OF CHARGING ROLLER, PROCESS CARTRIDGE, AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

帯電ローラのクリーニング装置及びプロセスカートリッジ並びに画像形成装置 - 特許庁

CLEANING DEVICE, AND PROCESS UNIT AND IMAGE FORMING APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加

クリーニング装置、並びにこれを用いたプロセスユニット及び画像形成装置 - 特許庁