「contact microscope method」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

AGGLUTINATION SIMULATOR FOR CONTACT MODE ATOMIC FORCE MICROSCOPE, AGGLUTINATION SIMULATION PROGRAM, RECORDING MEDIUM RECORDED WITH AGGLUTINATION SIMULATION PROGRAM, AND AGGLUTINATION SIMULATION METHOD例文帳に追加

接触モード原子間力顕微鏡の凝着シミュレータ、凝着シミュレーションプログラム、凝着シミュレーションプログラムを記憶した記録媒体及び凝着シミュレーション方法 - 特許庁

To provide a program which enables operation of a new scanning method which is always not associated with the contact of a probe with a sample surface such as that in a non-contact mode or a point contact mode, while maintaining the versatility of a contact mode, in regard to the program for forming an instruction which makes a computer operate the scanning method of a scanning type probe microscope.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡の走査方法をコンピュータに実行させる指示を生成するプログラムにおいて、コンタクトモードの汎用性を維持しつつ、非接触モードやポイントコンタクトモードのように、常時探針と試料表面の接触を伴わない新たな走査方法を実施可能とするプログラムを提供する。 - 特許庁

A method of managing an etching width includes a step of forming contact arrays R1, R2 having different intervals of contacts C1, C2, a step of wet etching an insulating layer with resist patterns corresponding to these contact arrays R1, R2 as masks, and a step of then observing the discoloring of the resist patterns of these contact arrays R1, R2 by a metallurgical microscope.例文帳に追加

コンタクトＣ１、Ｃ２の間隔が互いに異なるコンタクトアレイＲ１、Ｒ２を形成し、これらのコンタクトアレイＲ１、Ｒ２に対応したレジストパターンをマスクとして、絶縁層のウェットエッチングを行った後に、これらのコンタクトアレイＲ１、Ｒ２のレジストパターンの変色を金属顕微鏡にて観察する。 - 特許庁

The method for measuring with a scanning electrostatic capacity microscope comprises the steps of exposing the sections of a silicon substrate 101, a wall region 102 and a diffused region 103, forming an insulating film 105 on the exposed surface, and forming the sample 10 formed with a contact electrode 104 on a rear surface of the substrate.例文帳に追加

シリコン基板101 、ウエル領域102 および拡散領域103 の断面を露呈させ、その露呈表面に絶縁膜105 を形成し、基板裏面にコンタクト電極104 を形成した試料10を作成する。 - 特許庁

In the fault analyzing method of the semiconductor device, the shape defect (existence of disconnection part 13, for example) in the contact part between gate wiring 4A and wiring 8B is detected by irradiating the contact part with light and observing the direction component of reflected light by a polarizing method using a polarized microscope 20.例文帳に追加

本発明の半導体装置の故障解析方法は、偏光顕微鏡２０を用いた偏光法により、ゲート配線４Ａと配線８Ｂ間のコンタクト部における形状不良（例えば、断線箇所１３の存在）を当該コンタクト部に光を照射し、その反射光の方向成分を観察することで、上記コンタクト部における形状不良（例えば、断線箇所１３の存在）を検出することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method in which a probe can approach so as to accurately and softly come into contact with a minute sample only by operating a manipulator while performing microscope observation without requiring special detection means, and to provide a device for executing the same.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、特別な検出手段を要せず顕微鏡観察しながらマニピュレータを操作するだけで微小な試料へプローブが確実に且つソフトに接触するようにアプローチ出来る手法を提示すると共に、それを実行する装置を提供することにある。 - 特許庁

In this lubricant degradation measuring method, a photon image generated in a slide contact point of a disk mounted with a semi-spherical pin and the lubricant is detected through an optical microscope constituted of an ultraviolet ray transmitting lens, and the presence of the generation of triboplasma in the vicinity of a lubricating point of the lubricant is determined based on the presence of a UV image.例文帳に追加

半球ピンと潤滑剤を載せたディスクの摺動接触点で発生する光子像を、紫外線透過レンズで構成された光学顕微鏡を通して検出し、UV像の発生の有無により、トライボプラズマが潤滑剤の潤滑点の近傍に発生しているかどうかを判定することからなる潤滑剤の劣化測定方法。 - 特許庁