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「film- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索


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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > film- thicknessの意味・解説 > film- thicknessに関連した英語例文

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film- thicknessの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 16138



例文

To deposit a film without irregular film thickness on a work having a curvature.例文帳に追加

曲率を有する被成膜物に膜厚むらなく成膜する。 - 特許庁

To efficiently form a coating film having uniform film thickness on a substrate to be treated.例文帳に追加

被処理基板上に膜厚の均一な塗布膜を効率よく形成すること。 - 特許庁

To monitor a film thickness during a film forming improving a measuring accuracy.例文帳に追加

測定精度の向上を図りつつ、成膜中の膜厚を監視する。 - 特許庁

The fluorescent film 9 has a film thickness in the range of 80-800 μm.例文帳に追加

蛍光膜9は80〜800μmの範囲の膜厚を有する。 - 特許庁

例文

The film thickness of the plastic film can be 50 μm or less.例文帳に追加

前記プラスティックフィルムのフィルム厚が50μm以下であってもよい。 - 特許庁


例文

A half mirror 25 is formed by an aluminum thin film having a film thickness of 10 mm.例文帳に追加

ハーフミラー25を、膜厚10nmのアルミニウム薄膜で構成した。 - 特許庁

To form a film so as to obtain a uniform distribution of film thickness with respect to a large substrate.例文帳に追加

大型基板に対して膜厚分布が均一となるように製膜する。 - 特許庁

DETECTION METHOD OF GLASS SUBSTRATE FILM THICKNESS AND METHOD FOR FORMING THIN FILM OF GLASS SUBSTRATE例文帳に追加

ガラス基板膜厚の検知方法及びガラス基板の薄膜化方法 - 特許庁

To produce a film while the difference in film thickness between the back layer and the front layer is suppressed.例文帳に追加

裏面層と表面層との膜厚差を抑えつつ、フィルムを製造する。 - 特許庁

例文

As a result, a thin film whose film thickness uniformity is high can be formed.例文帳に追加

この結果、膜厚均一性の高い薄膜が形成される。 - 特許庁

例文

METHOD FOR CONTROLLING THICKNESS OF THIN FILM IN THIN FILM FORMING PROCESS FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板への薄膜形成工程における薄膜厚さ制御方法 - 特許庁

The coating film 5 and the protective film 6 are approximately 1-100 μm in thickness.例文帳に追加

塗膜5、保護膜6は1〜100μm程度の厚さである。 - 特許庁

Then, the residual film thickness of the covering film is measured at prescribed measurement points.例文帳に追加

そして、所定の測定点における被覆膜の残存膜厚を測定する。 - 特許庁

FILM THICKNESS MEASURING METHOD FOR FIXING FILM FOR MEASURING CHIP, AND MEASUREMENT CHIP THEREFOR例文帳に追加

測定チップの固定化膜の膜厚測定方法および測定チップ - 特許庁

To measure a film thickness of a light diffusing and transmitting film with high accuracy.例文帳に追加

光拡散透過膜の膜厚を高精度で測定できるようにする。 - 特許庁

To improve homogeneity of film thickness of a thin film deposited on a substrate.例文帳に追加

基板上に堆積された薄膜の膜厚の均一性を向上する。 - 特許庁

A film thickness measurement unit is incorporated in a coating and developing device, and the formation of a resist film and the relational data between the number of revolutions for shaking off the substrate and the film thickness (average film thickness) of the resist film are obtained by performing the formation of the resist film and the measurement of the film thickness of the resist film by using a monitor substrate.例文帳に追加

膜厚測定ユニットを塗布現像装置の中に組み込み、予めモニタ基板を用いてレジスト膜の形成及び膜厚測定を行って、前記回転数と膜厚(平均膜厚)との関係データを取っておく。 - 特許庁

To deposit a thin film having excellent film thickness uniformity by an vapor deposition process.例文帳に追加

膜厚均一性に優れた薄膜を蒸着法によって形成可能とする。 - 特許庁

The film thickness t_1 of the Si film 11 and the film thickness t_2 of the silicon nitride film 12 are present within a range X formed by sequentially connecting points A1 to A36 listed in Table 1, in Fig.1 that shows the relationship of the film thickness t_1 of the Si film and the film thickness t_2 of the silicon nitride film.例文帳に追加

Si膜11の膜厚をt_1、窒化ケイ素膜12の膜厚をt_2としたとき、Si膜の膜厚t_1と窒化ケイ素膜の膜厚t_2との関係を表す図1において、(t_1、t_2)が表1で表される点A1〜A36を順次直線で結んで形成される範囲X内にあることを特徴とする。 - 特許庁

The thickness of the second insulating film is smaller than that of the first insulating film.例文帳に追加

第2の絶縁膜の膜厚が、第1の絶縁膜の膜厚よりも薄い。 - 特許庁

To make a film thickness uniform when a thin film is formed.例文帳に追加

薄膜を成膜するときの膜厚の均一性を良好にする。 - 特許庁

METHOD AND INSTRUMENT FOR MEASURING FILM THICKNESS OF PAINT FILM ON CYLINDRICAL BASE例文帳に追加

円筒状基体上の塗膜の膜厚測定方法及び測定装置 - 特許庁

As a result, the failure related to film thickness of the resist film is dissolved.例文帳に追加

これにより,レジスト膜の膜厚に関する不具合が解消される。 - 特許庁

OPTICAL FILM THICKNESS MEASURING DEVICE AND VACUUM FILM FORMING APPARATUS INCLUDING THE SAME例文帳に追加

光学式膜厚測定装置およびこれを備える真空成膜装置 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a substrate having a coating film of an even film thickness.例文帳に追加

均一な膜厚を有する塗膜を備えた基板を製造する。 - 特許庁

FILM THICKNESS MEASUREMENT METHOD FOR SURFACE LAYER OXIDE FILM OF ZINC BASE PLATED SHEET IRON例文帳に追加

亜鉛系めっき鋼板の表層酸化膜の膜厚測定方法 - 特許庁

FILM THICKNESS MEASURING METHOD AND DEVICE OF THIN FILM DEVICE例文帳に追加

薄膜デバイスの膜厚計測方法及び膜厚計測装置 - 特許庁

To form an oxide film whose film thickness can be controlled in a conveyance container.例文帳に追加

搬送容器内で膜厚制御可能に酸化膜を形成する。 - 特許庁

To measure a Seebeck coefficient in a film thickness direction of a conductive thin film material.例文帳に追加

導電性薄膜材料の膜厚方向のゼーベック係数を測定する。 - 特許庁

FILM THICKNESS AND WORKED DEPTH MEASURING INSTRUMENT AND METHOD OF FORMING AND WORKING FILM例文帳に追加

膜厚、加工深さ測定装置及び成膜加工方法 - 特許庁

To stably form a deposition film with uniform film thickness and high quality.例文帳に追加

膜厚および膜質が均一な堆積膜を定常的に形成する。 - 特許庁

MEASURING TECHNIQUE FOR FILM THICKNESS OF ANTIREFLECTIVE LAYER OF ANTIREFLECTIVE FILM例文帳に追加

反射防止フィルムの反射防止層の膜厚を測定する方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING FILM THICKNESS AND FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

膜厚測定方法および膜厚測定装置ならびに成膜装置 - 特許庁

The thickness of a gate oxide film 16 is larger than a gate oxide film 14.例文帳に追加

ゲート酸化膜16の膜厚は、ゲート酸化膜14のそれよりも厚い。 - 特許庁

Then, the film thickness of the thin film 61 is calculated at elevated temperatures.例文帳に追加

次にさらに温度を上げて、薄膜61の膜厚を算出する。 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS FOR DEPOSITING MULTI-LAYERED FILM, AND METHOD OF CONTROLLING THE FILM THICKNESS例文帳に追加

多層膜形成用スパッタリング装置及びその膜厚制御方法 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING THICKNESS OF FILM AND METHOD OF MANUFACTURING FOR FILM USING IT例文帳に追加

フィルムの厚み測定方法並びにこれを用いたフィルムの製造方法 - 特許庁

A film thickness of the first polycrystal thin film 2 is to be 2 μm or less.例文帳に追加

第一の多結晶薄膜2の膜厚を2μm以下とする。 - 特許庁

It is preferable that a film thickness of the solder thin film is 5 to 50 μm.例文帳に追加

なお、半田の薄膜は、膜厚が5〜50μmであることが好ましい。 - 特許庁

FILM THICKNESS MEASURING METHOD AND DEVICE THEREOF, AND THIN FILM PRODUCING SYSTEM例文帳に追加

膜厚計測方法及びその装置ならびに薄膜製造システム - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING FILM THICKNESS OF THIN FILM COATING LAYER例文帳に追加

薄膜コート層膜厚測定方法および膜厚測定装置 - 特許庁

METHOD OF FORMING SILICIDE FILM, FORMING DEVICE THEREFOR AND METHOD OF CONTROLLING FILM THICKNESS例文帳に追加

シリサイド膜の形成方法、その形成装置および膜厚制御方法 - 特許庁

ii. Coating devices that have internal film thickness control functions 例文帳に追加

2 膜厚制御機能を内部に有しているもの - 日本法令外国語訳データベースシステム

2. Plasma spray coating devices with internal film thickness control function 例文帳に追加

(二) 膜厚制御機能を内部に有しているもの - 日本法令外国語訳データベースシステム

POLYIMIDE FILM WITH UNIFORM THICKNESS AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

厚みの均一なポリイミドフィルム及びその製造方法 - 特許庁

The thickness of the nickel film is 1-5 μm.例文帳に追加

また、ニッケル膜の厚さは1〜5μmの範囲にある。 - 特許庁

The nickel film 26 is 5 to 20 μm in thickness.例文帳に追加

ニッケル膜26の膜厚は5μm〜20μmである。 - 特許庁

The coating film 8 has several μm-several ten μm of thickness.例文帳に追加

被膜8は数μm〜数十μmの厚さを有する。 - 特許庁

BALLOON HAVING UNIFORM FILM THICKNESS AND BALLOON CATHETER例文帳に追加

均一膜厚バルーンおよびバルーンカテーテル - 特許庁

例文

The thickness of the multilayer film 3 is 50-300 nm.例文帳に追加

多層膜3の厚さは50〜300nmである。 - 特許庁

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※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。
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