「film- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The film thickness D2 of the second insulation film 240 which covers the end (e) of the first insulation film 220 is thinner than a film thickness D3 of the other portion.例文帳に追加

ここで、第１絶縁膜２２０の端部ｅを覆う第２絶縁膜２４０の膜厚Ｄ２は、他の部分の膜厚Ｄ３に較べて薄い。 - 特許庁

An optional pixel is configured with two characteristic pixel groups (A, B), and each film thickness of the pixel groups (A, B) is a combination of film thicknesses, where one film thickness is thinner and the other film thickness is larger than the film thickness of an apex whose convex shape is provided by intensity change of light emission luminance, with respect to film thickness change of the pixels.例文帳に追加

任意の画素が２特性の画素群（Ａ，Ｂ）で構成され、画素群（Ａ，Ｂ）の各膜厚は、画素の膜厚変化に対する発光輝度の強度変化が凸形状を与える頂点の膜厚よりも、一方が薄く他方が厚い膜厚の組み合わせである。 - 特許庁

FILM THICKNESS MEASURING METHOD, FILM THICKNESS MEASURING SYSTEM, MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE AND CONTROL PROGRAM FOR THE THICKNESS MEASURING SYSTEM例文帳に追加

膜厚測定方法、膜厚測定システム、半導体装置の製造方法及び膜厚測定システム制御プログラム - 特許庁

The protective coating film is formed greater than a predetermined thickness, and then, the thickness of the protective coating film is adjusted to the predetermined thickness by polishing at least the rear face of the semiconductor substrate.例文帳に追加

また、保護膜は所定厚みより厚く形成し、その後、半導体基板の少なくとも裏面を研磨して保護膜を所定厚みとする。 - 特許庁

The film thickness of the polyethylene film is 5 to 20 μm.例文帳に追加

ポリエチレンフィルムのフィルム厚は５μｍ〜２０μｍである。 - 特許庁

To uniformize a film thickness distribution of a coating film formed by a scan coating method.例文帳に追加

スキャン塗布法で形成された塗布膜の膜厚分布を均一にする。 - 特許庁

The film thickness of the formed cobalt oxide film is 500 nm or more.例文帳に追加

この形成したコバルト酸化物膜の膜厚が、５００ｎｍ以上である。 - 特許庁

A film thickness of the demodulation film 30 is one-fourth or less of a wavelength of the sonic wave.例文帳に追加

復調膜３０の膜厚が、音波の波長の１／４以下である。 - 特許庁

To manufacture an optical scale having a diffraction grating film which is uniform in film thickness.例文帳に追加

膜厚が均一な回折格子膜を有する光学スケールを製造する。 - 特許庁

VACUUM ULTRAVIOLET OPTICAL FILM THICKNESS MONITOR AND VACUUM FILM FORMING APPARATUS PROVIDED THEREWITH例文帳に追加

真空紫外線光学膜厚モニタおよびこれを備える真空成膜装置 - 特許庁

To exactly analyze the film thickness of an electrodeposition coating film within a closed structure section.例文帳に追加

袋構造部の内部の電着塗膜の膜厚を正確に解析する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING FILM THICKNESS, AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL MULTILAYER FILM例文帳に追加

膜厚制御方法及び装置、並びに光学多層膜の製造方法 - 特許庁

MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE WITH GATE INSULATING FILM HAVING DIFFERENT FILM THICKNESS例文帳に追加

膜厚が異なるゲート絶縁膜を有する半導体装置の製造方法 - 特許庁

To measure etching depth during etching or film thickness during film formation.例文帳に追加

成膜中の膜厚またはエッチング中のエッチング深さを測定する。 - 特許庁

The width dimension B corresponds to the film thickness of the optical waveguide film 1.例文帳に追加

幅寸法Ｂは、光導波路フィルム１のフィルム厚みに該当する。 - 特許庁

To accurately measure the film thickness of a paint film at low cost, in a noncontact manner.例文帳に追加

塗膜の膜厚を、低コストで、非接触で正確に計測する。 - 特許庁

FILM GROWTH METHOD, FILM THICKNESS MEASUREMENT METHOD AND EPITAXIAL SUBSTRATE例文帳に追加

膜成長方法、膜厚測定方法及びエピタキシャル基板 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING FILM THICKNESS DISTRIBUTION IN THIN FILM MANUFACTURING APPARATUS例文帳に追加

薄膜製造装置に於ける膜厚分布制御方法及びその装置 - 特許庁

To deposit a titanium oxide thin film uniform in film thickness and high in adhesive strength.例文帳に追加

膜厚が均一で付着強度の高い酸化チタン薄膜を形成する。 - 特許庁

METHOD OF DESIGNING FILM THICKNESS OF COATING FILM AND SEMICONDUCTOR OPTICAL DEVICE例文帳に追加

コーティング膜の膜厚設計方法及び半導体光装置 - 特許庁

To stably form a thin film having an excellent film thickness distribution on a flexible substrate.例文帳に追加

可撓性基板上に膜厚分布の良い薄膜を安定して形成する。 - 特許庁

In that case, the charge voltage is varied according to the film thickness of the insulating film.例文帳に追加

その際、上記絶縁膜の膜厚に応じてチャージ電圧を変化させる。 - 特許庁

FILM THICKNESS CONTROL METHOD IN FILM THINNING AND SYSTEM FOR EXECUTING THE METHOD例文帳に追加

薄膜加工における膜厚制御方法とそれを実行するシステム - 特許庁

To easily form a flat thin film having uniform film thickness.例文帳に追加

平坦で均一な膜厚を有する薄膜を容易に形成する。 - 特許庁

To accurately measure the film thickness of a thin film formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成された薄膜の膜厚を正確に測定する。 - 特許庁

After that, the reduction amount of the film thickness of the resist film is measured.例文帳に追加

その後，そのレジスト膜の膜厚の減少量を測定する。 - 特許庁

The oxide film 13 is specified to have 5-30×10-10 m film thickness.例文帳に追加

また、酸化物膜１３の膜厚を５−３０×１０^-10ｍとする。 - 特許庁

Since film thickness of a flattened film 2 is not made thick, transmittance is not lowered.例文帳に追加

平坦化膜２の膜厚を厚くしないので、透過率が下がることもない。 - 特許庁

FILM THICKNESS DETECTION METHOD AND APPARATUS AND FILM DEPOSITION METHOD AND APPARATUS例文帳に追加

膜厚検出方法，成膜方法および膜厚検出装置，成膜装置 - 特許庁

The film thickness of the CrN film is preferably controlled to 1 to 10 μm.例文帳に追加

前記ＣｒＮ被膜の膜厚が、１〜１０μｍであるとよい。 - 特許庁

The film thickness of the diamond film 4 is 1-30 μm.例文帳に追加

前記ダイヤモンド膜４の膜厚は１μｍ以上３０μｍ以下とする。 - 特許庁

To form a thin film having desired film thickness distribution on a disk substrate.例文帳に追加

ディスク基板上に、所望の膜厚分布の薄膜を形成する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING FILM THICKNESS CHANGING THIN FILM AND OPTICAL WAVEGUIDE USING THE SAME例文帳に追加

膜厚変化薄膜の製造方法及びこれを用いた光導波路 - 特許庁

The film thickness of the film is desirably controlled within the range of 1 to 70 μm.例文帳に追加

前記膜の膜厚は、１〜７０μｍの範囲内であることが望ましい。 - 特許庁

A film thickness of the coating film 3 is to be in the range of 0.1 μm to 2 μm.例文帳に追加

被膜３の膜厚は、０．１μｍから２μｍの範囲とする。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING FILM THICKNESS DISTRIBUTION IN OPTICAL THIN FILM MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

光学薄膜製造装置に於ける膜厚分布制御方法及びその装置 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus capable of easily forming a film of uniform thickness and uniform composition.例文帳に追加

厚みと組成の均一な膜を形成しやすい成膜装置を提供する。 - 特許庁

To deposit a reflection-preventive film without any irregularity in the film thickness of a concave lens.例文帳に追加

凹面レンズに膜厚ムラの無い反射防止膜を成膜する。 - 特許庁

To improve uniformity of a film thickness when a thin film is formed.例文帳に追加

薄膜を成膜するときの膜厚の均一性を良好にする。 - 特許庁

It is preferable that the film thickness of the aluminum oxide film 14 is ≤2 nm.例文帳に追加

アルミニウム酸化膜１４の膜厚は２ｎｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING FILM THICKNESS AND DENSITY OF THIN FILM例文帳に追加

薄膜の膜圧及び密度の測定方法並びに測定装置 - 特許庁

DEVICE FOR MEASURING THICKNESS OF TRANSMISSIVE FILM AND FILM PRODUCING APPARATUS EMPLOYING THE SAME例文帳に追加

透過膜厚計測装置及びそれを備えた製膜装置 - 特許庁

To provide a method for depositing a silicon film uniform in the distribution of film thickness.例文帳に追加

膜厚分布の均一なシリコン製膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

The film thickness 30 of the protective film layer 19 is set at about 10 μm.例文帳に追加

この保護膜層１９の膜厚３０は、約１０μｍ前後とする。 - 特許庁

To efficiently produce a film while avoiding the unevenness of film thickness.例文帳に追加

厚さムラ故障を回避しつつ、効率よくフィルムを製造する。 - 特許庁