impurityを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 7273件
To remove an impurity contained in L-carnitine by a simple operation.例文帳に追加
L−カルニチンに含まれる不純物を簡便な操作で除去すること。 - 特許庁
A first impurity is introduced into a semiconductor substrate from its back side.例文帳に追加
半導体基板内に裏面側から第1不純物を導入する。 - 特許庁
A dielectric film is disposed on the first impurity diffusion region.例文帳に追加
第1の不純物拡散領域の上に誘電体膜が配置される。 - 特許庁
After the impurity diffusion layer is formed, the second silicon oxide film is removed.例文帳に追加
不純物拡散層を形成した後、第2シリコン酸化膜を除去する。 - 特許庁
To form a first impurity region, provided by introducing first impurities and second impurities, and a second impurity region, provided by introducing only the second impurities, in a self-alignment manner, and to form the first impurity region and the second impurity region adjacently at a high accuracy.例文帳に追加
第1不純物と第2不純物とを導入してなる第1不純物領域と、第2不純物のみを導入してなる第2不純物領域とを自己整合的に形成し、第1不純物領域と第2不純物領域とを高精度に隣接して形成する。 - 特許庁
Then, when a high-concentration impurity region 15 to serve as a lower electrode of the high-precision capacitor is formed by ion implantation of an impurity in the semiconductor substrate 10, the impurity is additionally implanted in the lower electrode 13b of the high-breakdown-voltage capacitor to increase an impurity concentration of the lower electrode 13b.例文帳に追加
その後、半導体基板10に不純物をイオン注入して高精度キャパシタの下部電極となる高濃度不純物領域15を形成する際に、高耐圧キャパシタの下部電極13bに不純物を追加注入し、下部電極13bの不純物濃度を向上させる。 - 特許庁
The lead parts 55 and 60 have a higher impurity concentration than the indirect heat resistance 12.例文帳に追加
リード部55、60は傍熱抵抗12よりも不純物濃度が高い。 - 特許庁
By selecting an impurity concentration of the second selective impurity introduction region 18, the first conductivity type in the region expanded by a lateral impurity diffusion from the first selective impurity introduction region 17 is cancelled to suppress a practical expansion of the element isolation region 16 in a lateral direction.例文帳に追加
第2の選択的不純物導入領域18の不純物濃度の選定によって第1の選択的不純物導入領域17からの不純物の横方向拡散による広がり領域における第1導電型の打消しを行って、素子分離領域16の横方向の実質的広がりを抑制する。 - 特許庁
To suppress any impurity from being stuck to a semiconductor light emitting element.例文帳に追加
半導体発光素子への不純物の付着を抑制することを課題とする。 - 特許庁
The impurity concentration in the second layer 40 is higher than that in the first layer 30.例文帳に追加
第2層40の不純物濃度は第1層30より高い。 - 特許庁
To accurately form an n-type high-concentration impurity region doped with only n-type impurities and an n-type low-concentration impurity region doped with n-type impurities and p-type impurities, by self-alignment when forming the n-type high-concentration impurity region and the p-type low-concentration impurity region on a semiconductor substrate adjacently to each other.例文帳に追加
半導体基板にn型不純物のみを導入したn型高濃度不純物領域と型不純物とp型不純物とを導入したn型低濃度不純物領域と隣接して形成する際、セルフアライメントにより高精度に形成する。 - 特許庁
IMPURITY PROCESSING DEVICE AND CLEANING METHOD THEREOF例文帳に追加
不純物処理装置及び不純物処理装置のクリーニング方法 - 特許庁
IMPURITY CONCENTRATION MEASURING METHOD, STM MEASURING METHOD, AND STS MEASURING METHOD例文帳に追加
不純物濃度測定方法、STM測定方法及びSTS測定方法 - 特許庁
METHOD OF EVALUATING SURFACE METAL IMPURITY OF PASTED SOI WAFER例文帳に追加
貼り合わせSOIウェーハ表面金属不純物の評価方法 - 特許庁
The second impurity diffusion region 5 reaches the surface of the underlying substrate.例文帳に追加
第2の不純物拡散領域5は、下地基板の表面まで達する。 - 特許庁
METHOD FOR REMOVING IMPURITY IN FUEL OIL AND TREATMENT AGENT FOR FUEL OIL例文帳に追加
燃料油中の不純物除去方法および燃料油処理剤 - 特許庁
Subsequently, crystallization annealing is executed for the impurity-doped PZT film 24.例文帳に追加
次いで、不純物添加PZT膜24に対する結晶化アニールを行う。 - 特許庁
To improve the activation rate of an impurity layer formed in an Si substrate.例文帳に追加
Si基板に形成される不純物層の活性化率を向上させる。 - 特許庁
METHOD AND SYSTEM FOR REMOVING IMPURITY FROM HEAVY FUEL例文帳に追加
重質燃料から不純物を除去する方法及びシステム - 特許庁
METHOD FOR ANALYZING RHODIUM AND/OR INDIUM-CONTAINING MATERIAL FOR IMPURITY ELEMENT例文帳に追加
ロジウムやイリジウム含有物中の不純物元素分析方法 - 特許庁
Thus, the impurity 46 included in the fuel 40 is collected.例文帳に追加
このようにして、燃料40に含まれている不純物46は収集される。 - 特許庁
To provide a refining method for producing silicon free from impurity contamination.例文帳に追加
不純物汚染のないシリコン精錬方法を提供する。 - 特許庁
The first layer 8 has an impurity concentration uniform in the first direction.例文帳に追加
第1層8は、不純物濃度が第1方向に均一である。 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR REMOVING IMPURITY IN FLOW SOLDERING EQUIPMENT例文帳に追加
フロー式はんだ付け装置の不純物除去方法および装置 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR REMOVING IMPURITY IN FLOW SOLDERING EQUIPMENT例文帳に追加
フロー式ハンダ付け装置の不純物除去方法および装置 - 特許庁
To form three or more different impurity diffusion regions on an identical substrate.例文帳に追加
3以上の異なる不純物拡散領域を同一基板上に形成する。 - 特許庁
Then, an impurity diffusion region 109 integrated together by thermal diffusion is formed.例文帳に追加
熱拡散処理で一体化した不純物拡散領域109を形成する。 - 特許庁
To obtain an impurity diffusion processing method in a semiconductor element manufacturing process which forms a uniform impurity diffusion layer and can carry on an impurity diffusion process high in performance and a yield, an impurity diffusing device for use in the same method, and a semiconductor element containing a solar cell, etc., high in a yield.例文帳に追加
均一な不純物拡散層を形成し、性能や歩留まりの高い不純物拡散処理が可能な半導体素子製造工程における不純物拡散処理方法および同方法に用いる不純物拡散装置、並びに、歩留まりの高い太陽電池等を含む半導体素子を得ること。 - 特許庁
The third well 24 contains a first-conductivity first impurity diffusing layer 22.例文帳に追加
第3ウエル24は、第1導電型の第1不純物拡散層22を含む。 - 特許庁
The second well 14 contains a first-conductivity second impurity diffusing layer 26.例文帳に追加
第2ウエル14は、第1導電型の第2不純物拡散層26を含む。 - 特許庁
A base region (P impurity layer 4) is formed on a surface of an epitaxial layer 2, an emitter region (N+ impurity layer 5) is formed on a surface of the P impurity layer 4, and a collector region comprising the epitaxial layer 2 and an N+ impurity layer 6 is formed.例文帳に追加
エピタキシャル層2の表面にベース領域(P不純物層4)が形成され、P不純物層4の表面にエミッタ領域(N+不純物層5)が形成され、エピタキシャル層2とN+不純物層6とから成るコレクタ領域が構成されている。 - 特許庁
EARTH AND SAND IMPURITY SEPARATING BUCKET AND SEPARATING METHOD例文帳に追加
土砂夾雑物分離バケット及び土砂夾雑物分離方法 - 特許庁
METHOD OF MEASURING ELECTRONIC STATE OF IMPURITY AND DEFECT IN SEMICONDUCTOR例文帳に追加
半導体内不純物および欠陥の電子状態測定方法 - 特許庁
To suppress the contamination of a magnet formed body caused by impurity gas.例文帳に追加
不純物ガスによる磁石成形体の汚染を抑制する。 - 特許庁
A second impurity region is formed on the opposite sides of the gate structure.例文帳に追加
第2不純物領域がゲート構造物の両側に形成される。 - 特許庁
IMPURITY REMOVAL METHOD OF SWASH PLATE TYPE FLUID MACHINE AND ITS DEVICE例文帳に追加
斜板式流体機械の不純物除去方法及びその装置 - 特許庁
Each source region or each drain region includes each of low-concentration impurity regions 5a-5f which adjoins to each of the channel regions, and includes each of high-concentration impurity regions 3a-3e and each of high-concentration impurity regions 4a-4f which are opposed to each of the channel regions with each of the low-concentration impurity regions in between.例文帳に追加
ソースおよびドレイン領域は、チャネル領域に隣接する低濃度不純物領域5a〜5fと、低濃度不純物領域から見てチャネル領域とは反対側に位置する高濃度不純物領域3a〜3e、4a〜4fとを含む。 - 特許庁
Furthermore, no impurity derived from animal components is mixed.例文帳に追加
さらに、これらには動物成分由来の不純物の混入の問題がない。 - 特許庁
An impurity diffusion layer 122 is formed in the substrate 120.例文帳に追加
半導体基板120において、不純物拡散層122が設けられている。 - 特許庁
METHOD OF PRODUCING CONDUCTIVE IMPURITY-DOPED GaAs SEMICONDUCTIVE SINGLE CRYSTAL例文帳に追加
導電性不純物をドープしたGaAs半導体単結晶製造方法 - 特許庁
The metallic floor 52 is formed so that the entire face of the impurity region 8 is covered.例文帳に追加
金属床52は、不純物領域8を全面に覆うように形成する。 - 特許庁
To provide a new technology for activating a p-type impurity.例文帳に追加
p型不純物を活性化するための新規の技術を提供する。 - 特許庁
COMPOSITION FOR CLEANING HAIR AND REMOVING IMPURITY FROM HAIR AND METHOD FOR USING THE COMPOSITION例文帳に追加
頭髪から不純物を洗浄および除去する組成物および方法 - 特許庁
ALUMINUM MATERIAL OF HARDLY ELUTING IMPURITY AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加
低不純物溶出アルミニウム材料およびその製造方法 - 特許庁
To obtain impurity diffusion of high mass productivity at a low cost.例文帳に追加
低コストで量産性の高い不純物拡散を実現する。 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR MEASURING CONCENTRATION OF IMPURITY IN CVD MEMBRANE例文帳に追加
CVD膜の不純物濃度測定方法及び測定装置 - 特許庁
The source area 30a and the drain area 30b are respectively provided with first impurity areas 5b and 5c formed right under the gate electrode 12 of the n-type TFT 30, and second impurity areas 5f and 5g whose impurity concentration is higher than that of the first impurity areas 5b and 5c.例文帳に追加
ソース領域30aおよびドレイン領域30bの各々は、n型TFT30のゲート電極12の真下に形成された第1不純物領域5b,5cと、第1不純物領域5b,5cの不純物濃度よりも高い不純物濃度を有する第2不純物領域5f,5gとを有している。 - 特許庁
DIFFUSION AGENT COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING IMPURITY DIFFUSION LAYER例文帳に追加
拡散剤組成物および不純物拡散層の形成方法 - 特許庁
EXHAUST SYSTEM STRUCTURE OF FILM FORMING DEVICE AND METHOD OF REMOVING IMPURITY GAS例文帳に追加
成膜装置の排気系構造及び不純物ガスの除去方法 - 特許庁
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