「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(107ページ目) - Weblio英語例文検索

NEAR-FIELD EXPOSURE MASK, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, DEVICE MANUFACTURING METHOD, NEAR-FIELD EXPOSURE METHOD, PATTERN FORMATION METHOD, NEAR-FIELD LIGHT LITHOGRAPHY MEMBER, AND NEAR-FIELD NANOIMPRINT METHOD例文帳に追加

近接場露光用マスク、レジストパターン形成方法、デバイスの製造方法、近接場露光方法、パターン形成方法、近接場光リソグラフィ部材、および近接場ナノインプリント方法 - 特許庁

To provide a recessed/projecting pattern forming method capable of surely processing a desired recessed/projecting pattern on a resin layer even if wide recessed parts are included in the recessed/projecting pattern, and an information recording medium manufacturing method using the recessed/projecting pattern forming method.例文帳に追加

凹凸パターンに幅が広い凹部が含まれる場合であっても所望の凹凸パターンに樹脂層を確実に加工できる凹凸パターン形成方法及びこれを用いた情報記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a metal pattern forming method that forms a metal pattern by electroless plating technique, the method forming a pattern excellent in adhesion to a substrate and excellent in a fine line drawing property, and to provided the metal pattern formed by using the method.例文帳に追加

無電解めっき技術で金属パターンを形成する方法において基板との密着性が優れ、且つ細線描画性の優れた金属パターン形成方法とそれを用いて形成された金属パターンを提供することである。 - 特許庁

To provide a method for coating a foaming pattern with which a coating agent can uniformly and equally be applied on the foaming pattern used for a lost foam pattern casting method.例文帳に追加

消失模型鋳造法に使用される発泡模型に塗型剤を均一に、かつ一様に塗布することができる発泡模型の塗型方法を提供する。 - 特許庁

In contrast with a pattern-based method which uses the correspondences between image points and pattern points, the pattern-free calibration method is based on the correspondence between image points from different views.例文帳に追加

画像点とパターン点との対応を用いるパターンベースの方法とは対照的に、パターンなし較正方法は、様々なビューからの画像点間の対応に基づく。 - 特許庁

AIRFLOW CONTROL PATTERN CREATING DEVICE, AIRFLOW CONTROL DEVICE, METHOD OF CREATING AIRFLOW CONTROL PATTERN, AIRFLOW CONTROL PATTERN CREATING PROGRAM, METHOD OF CONTROLLING AIRFLOW, AND AIR VOLUME CONTROL SYSTEM例文帳に追加

送風制御パターン作成装置、送風制御装置、送風制御パターン作成方法、送風制御パターン作成プログラム、送風制御方法、および風量制御システム - 特許庁

PATTERN RECOGNITION LEARNING DEVICE AND IDENTIFICATION DEVICE, PATTERN RECOGNITION LEARNING PROCESSING METHOD, IDENTIFICATION PROCESSING METHOD, PATTERN RECOGNITION PROGRAM AND RECODING MEDIUM WITH ITS PROGRAM RECORDED例文帳に追加

パターン認識学習装置と識別装置、パターン認識学習処理方法と識別処理方法及びパターン認識プログラム並びにそのプログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

TIRE PERFORMANCE ANALYSIS SYSTEM, TREAD PATTERN PERFORMANCE ANALYSIS SYSTEM, TIRE PERFORMANCE ANALYSIS METHOD, TREAD PATTERN PERFORMANCE ANALYSIS METHOD, TIRE PERFORMANCE ANALYSIS PROGRAM, AND TREAD PATTERN PERFORMANCE ANALYSIS PROGRAM例文帳に追加

タイヤ性能解析システム、トレッドパターン性能解析システム、タイヤ性能解析方法、トレッドパターン性能解析方法、タイヤ性能解析プログラム及びトレッドパターン性能解析プログラム - 特許庁

To provide a new resist pattern forming method by which reduction in film thickness of a resist pattern is suppressed, and a negative resist composition used in the resist pattern forming method.例文帳に追加

レジストパターンの膜減りが低減された新規なレジストパターン形成方法、および当該レジストパターン形成方法に用いられるネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a three-dimensional micro pattern or a multi-step pattern using a nano imprint process, and to provide a method of manufacturing a mold for forming such a pattern.例文帳に追加

ナノインプリント工程を用いて３次元微細パターンや多段パターンを成形する方法とこのようなパターンを成形するためのモールドの製作方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask pattern correcting method capable of accurately and rapidly correcting a photomask pattern for forming a photoresist pattern and to provide a photomask corrected by the correcting method.例文帳に追加

フォトレジストのパターンを形成するためのフォトマスクのパターンを高精度かつ高速に補正できるフォトマスクのパターン補正方法およびそれにより補正されたフォトマスクを提供する。 - 特許庁

FORMING METHOD FOR POLYSILICON PATTERN, DIODE INCLUDING POLYSILICON PATTERN, MULTI-LAYER CROSS POINT RESISTIVE MEMORY ELEMENT INCLUDING POLYSILICON PATTERN, AND MANUFACTURING METHOD FOR DIODE AND MEMORY ELEMENT例文帳に追加

ポリシリコンパターンの形成方法、該ポリシリコンパターンを含むダイオード、ポリシリコンパターンを含む多層交差点抵抗性メモリ素子及び、前記ダイオードと前記メモリ素子との製造方法 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern, with which the pattern is formed in a desired region at a low cost with high precision, and an electronic component using the method of forming the pattern.例文帳に追加

低コストで所望領域にパターンを高精度に形成することができるパターンの形成方法、及びこのパターンの形成方法を使用した電子部品を得る。 - 特許庁

To enlarge a depth of focus by considering a method for disposing an auxiliary pattern according to the pattern possession density, relating to an exposure mask, a mask pattern correction method and a semiconductor device.例文帳に追加

露光用マスク、マスクパターン補正方法、及び、半導体装置に関し、パターンの占有密度等に応じて補助パターン配置方法を考慮し、焦点深度を拡大する。 - 特許庁

STRATIFIED ORIENTED PATTERN IN PARALLEL TO SURFACE AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

表面に平行な層状配向パターンとその製造方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND, AND ACID GENERATING AGENT例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤 - 特許庁

PHOTOPOLYMERIZABLE BLACK COMPOSITION AND BLACK PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

光重合性黒色組成物及び黒色パターンの形成方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR FORMING WETTABLE PATTERN例文帳に追加

濡れ性パターンの形成方法、および濡れ性パターンの形成装置 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, DROPLET JETTING APPARATUS AND ELECTRO-OPTICAL APPARATUS例文帳に追加

パターン形成方法、液滴吐出装置、及び電気光学装置 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN THEREWITH例文帳に追加

ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

FINE PATTERN FORMING DEVICE, ITS MANUFACTURE, AND METHOD OF FORMING THE SAME例文帳に追加

微細パターン形成装置、その製造方法、および形成方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING PATTERN-FORMED BODY, AND ELECTROMAGNETIC BEAM MACHINING DEVICE例文帳に追加

パターン形成体の製造方法および電磁ビーム加工装置 - 特許庁

POLISHING METHOD FOR SHEET PLATE WITH OPENING PATTERN AND MAGNETIC POLISHING DEVICE例文帳に追加

開口パターン付き薄板の研磨方法及び磁気研磨装置 - 特許庁

CONDUCTIVE PATTERN SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

導電性パターン基板の製造方法及び導電性パターン基板 - 特許庁

To provide a method for forming a fine pattern of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体素子の微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

IMAGE FORMING APPARATUS, PATTERN POSITION DETERMINING METHOD, AND IMAGE FORMING SYSTEM例文帳に追加

画像形成装置、パターン位置決定方法、画像形成システム - 特許庁

IMAGE FORMING APPARATUS, PATTERN POSITION DETECTING METHOD, AND IMAGE FORMING SYSTEM例文帳に追加

画像形成装置、パターン位置検出方法、画像形成システム - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN AND PRESSURE SENSITIVE ADHESIVE SHEET FOR METAL FILM PATTERNING例文帳に追加

パターン形成方法および金属膜パターニング用粘着シート - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR EXTRACTING CHARACTER STRING PATTERN FROM COLOR PICTURE例文帳に追加

カラー画像から文字列パターンを抽出する装置および方法 - 特許庁

EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD FOR PATTERN IN DIFFERENT TYPE BY USING THE APPARATUS例文帳に追加

露光装置及びそれを用いた異種パターンの露光方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE POLYAMIC ACID COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感光性ポリアミド酸組成物およびパタ−ン形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ホトレジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, RESIST-PROTECTING MEMBRANE MATERIAL, AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

高分子化合物、レジスト保護膜材料、及びパターン形成方法 - 特許庁

DEVELOPING SOLUTION COMPOSITION FOR RESIST AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

レジスト用現像液組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

METAL FOIL PATTERN LAMINATE AND DIE PUNCHING METHOD OF METAL FOIL例文帳に追加

金属箔パターン積層体および金属箔の型抜き方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND LAMINATE例文帳に追加

レジストパターン形成方法、ポジ型レジスト組成物及び積層体 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMERIC COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND POSITIVE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物およびポジ型パターン形成方法 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

METHOD FOR WRITING SERVO PATTERN ON RECORDING SURFACE AND DATA STORAGE DEVICE例文帳に追加

記録面にサーボ・パターンを書き込む方法及びデータ記憶装置 - 特許庁

CIRCUIT PATTERN TRANSFER METHOD IN MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE OR THE LIKE例文帳に追加

半導体デバイス等の製造における回路パターン転写方法 - 特許庁