「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(106ページ目) - Weblio英語例文検索

INSPECTION DEVICE, INSPECTION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加

検査装置及び検査方法並びにそれを用いたパターン基板の製造方法 - 特許庁

PATTERN ARRAY SHEET AND METHOD OF MANUFACTURING SAME, AND ELECTRONIC DEVICE CHIP ,AND METHOD OF MANUFACTURING SAME例文帳に追加

パターン配列シート、その製造方法、電子デバイスチップ及びその製造方法 - 特許庁

To provide a pattern forming material satisfying both of etchability and film strength and capable of forming a high-definition pattern, and a pattern forming apparatus with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

エッチング性と膜強度とを両立し、高精細なパターンを形成することができるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a pattern evaluation method and a pattern evaluation device, capable of matching an objective pattern to a reference pattern with high accuracy in the pattern measurement using an SEM image, even when the pattern of the measurement object includes a relatively large defect.例文帳に追加

ＳＥＭ画像を利用したパターン計測において、計測対象のパターンに比較的大きな欠陥が含まれている場合でも、基準パターンとのマッチングを高精度に実施することができるパターン評価方法及びパターン評価装置。 - 特許庁

To provide a pattern forming material having high sensitivity, excellent in developability and giving a high-resolution and high-definition pattern, and a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material, and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

高感度であり、かつ現像性に優れ、高解像度で高精細なパターンが得られるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a pattern forming material capable of suppressing sensitivity drop of a photosensitive layer and capable of forming a highly fine and precise pattern, a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material, and a pattern forming method utilizing the pattern forming material.例文帳に追加

感光層の感度低下を抑制でき、かつ、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The composition for removing the photoresist pattern improving the removing force of the photoresist pattern and a removal reliability on the photoresist pattern and the method for forming the metallic pattern using the composition for removing the photoresist pattern are disclosed.例文帳に追加

フォトレジストパターンの除去力及びフォトレジストパターンの除去信頼性を向上させたフォトレジストパターン除去用組成物及びこれを利用した金属パターンの形成方法が開示される。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern capable of forming a sufficiently fined thin-film pattern, the method for forming the thin-film pattern and a manufacturing method for a micro-device having a sufficiently increased density.例文帳に追加

本発明は、十分に微細化された薄膜パターンを形成することが可能なレジストパターンの形成方法及び薄膜パターンの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

This linear pattern layout method designs the linear pattern of each pattern area edge such that it is arranged, with a second space, parallel to the linear pattern of an adjacent pattern area edge, and that the linear pattern of each pattern area edge has an expanded overhang at its edge part.例文帳に追加

このライン型パターンのレイアウト方法は各パターン領域エッジのラインパターンは隣り合うパターン領域エッジのラインパターンと第２間隔を置いて平行に配置し、各パターン領域エッジのラインパターンはその端部に拡張されたオーバーハングを有するようにデザインする。 - 特許庁

This method comprises forming only the change portion from the previous pattern vector into a file, paying attention to a test pattern used for a semiconductor test every pattern vector, to compress the test pattern file.例文帳に追加

半導体の試験に使用するテストパターンファイルをパターンベクタ毎に着目し、前のパターンベクタからの変更分のみをファイル化してテストパターンファイルの圧縮を行う。 - 特許庁

The exposure method includes projecting a pattern including a first partial pattern and a second partial pattern onto a plurality of pattern transfer regions of a strip-like substrate along the longitudinal direction of the substrate.例文帳に追加

帯状の基板の長手方向に沿って該基板の複数のパターン転写領域に、第１部分パターン及び第２部分パターンを含むパターンを露光する露光方法である。 - 特許庁

To provide a phase shift mask which improves the NILS value of a pattern of ≤50 nm in mask pattern size when the pattern is exposed and a pattern exposing method using the same.例文帳に追加

マスクパターンサイズが５０ｎｍ以下パターンを露光する場合に、そのＮＩＬＳ値を改善する位相シフトマスクおよび、これを用いたパターン露光方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING FILM PATTERN, METHOD FOR FORMING CONTACT HOLE, METHOD FOR FORMING BUMP AND METHOD FOR MANUFACTURING LIGHT-EMITTING DEVICE例文帳に追加

膜パターン形成方法、コンタクトホールの形成方法、バンプの形成方法及び発光装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING BANK, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE, AND METHOD FOR FORMING WIRING PATTERN例文帳に追加

バンク形成方法、カラーフィルタ基板の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、配線パターンの形成方法 - 特許庁

DEVELOPING METHOD, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR PRODUCING PHOTOMASK USING THESE AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

現像方法、パターン形成方法およびこれらを用いたフォトマスクの製造方法、半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING COATING FILM USING INTAGLIO OFFSET PRINTING METHOD AND METHOD FOR FORMING ELECTRODE PATTERN BY THE METHOD例文帳に追加

凹版オフセット印刷法を用いた塗膜の製造方法及び該方法により電極パターンを形成する方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING CONCAVO-CONVEX PRODUCT, METHOD FOR MANUFACTURING LIGHT-EMITTING ELEMENT, AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT例文帳に追加

パターン形成方法、凹凸製品の製造方法、発光素子の製造方法および光学素子の製造方法 - 特許庁

CLEANING METHOD, PRESERVATION METHOD, PATTERN FORMATION METHOD, DEVICE PRODUCTION METHOD, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

洗浄方法及び保管方法、パターンの形成方法及びデバイスの製造方法、電気光学装置及び電子機器 - 特許庁

METHOD FOR MAKING MASK PATTERN, METHOD FOR MAKING LAYOUT, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, PHOTOMASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクパターン作成方法、レイアウト作成方法、フォトマスクの製造方法、フォトマスク、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

PATTERN EVALUATION METHOD, EXPOSURE MASK, EXPOSURE METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターン評価方法、露光用マスク、露光方法、露光用マスクの製造方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

DEFECT INSPECTION APPARATUS, DEFECT INSPECTION METHOD, PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD, PATTERN TRANSFERRING METHOD AND SEMICONDUCTOR WAFER MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

欠陥検査装置及び方法、フォトマスクの製造方法、パターン転写方法、並びに半導体ウェハの製造方法 - 特許庁

FINE PATTERN FORMING MATERIAL, FINE PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURED BY THE METHOD例文帳に追加

微細パターン形成用材料、微細パターン形成方法、それを用いた電子デバイスの製造方法、およびそれにより製造された電子デバイス - 特許庁

FILM PATTERN, METHOD OF FORMING FILM PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, ELECTRON-EMITTING ELEMENT, ELECTRON SOURCE AND PICTURE DISPLAY UNIT USING THE FORMING METHOD例文帳に追加

膜パターン、膜パターンの製造方法並びにそれを用いた電子デバイス、電子放出素子、電子源及び画像表示装置の製造方法 - 特許庁

FILM PATTERN FORMING METHOD, FILM PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROOPTIC DEVICE, AND ELECTROOPTIC DEVICE例文帳に追加

膜パターンの形成方法、膜パターン、半導体装置の製造方法、半導体装置、電気光学装置の製造方法、及び電気光学装置 - 特許庁

PHOTOMASK PATTERN FORMING DEVICE, PHOTOMASK PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, AND READABLE STORAGE MEDIUM例文帳に追加

フォトマスクパターン形成装置およびフォトマスクパターン形成方法、フォトマスクの製造方法、半導体集積回路の製造方法、可読記憶媒体 - 特許庁

To provide: a negative radiation-sensitive composition capable of forming a cured pattern having a low relative dielectric constant; a cured pattern forming method using the same; and a cured pattern obtained by the cured pattern forming method.例文帳に追加

低比誘電率の硬化パターンを形成できるネガ型感放射線性組成物、それを用いた硬化パターン形成方法および該硬化パターン形成方法により得られる硬化パターンの提供。 - 特許庁

(1) After the resist pattern is formed by using the direct resist plotting method, metal patterns are formed at portions where the resist pattern is not formed by a plating method, and the conductor pattern is formed by peeling and removing the resist pattern.例文帳に追加

（１）レジスト直描方式によりレジストパターンを形成した後、該レジストパターンの無い部分にめっき法により金属パターンを形成し、その後にレジストパターンを剥離除去し、導体パターンを形成する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE WITH METAL PATTERN, SUBSTRATE WITH METAL PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE WITH METAL PATTERN FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY, SUBSTRATE WITH METAL PATTERN FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

金属パターン付き基板の製造方法、金属パターン付き基板、液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法、液晶表示装置用金属パターン付き基板および液晶表示装置 - 特許庁

To provide a resist pattern improving material capable of improving LWR of a resist pattern without varying the size of the resist pattern more than necessary, and a method for forming the resist pattern, and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

レジストパターンサイズを必要以上に変動させることなく、レジストパターンのＬＷＲを改善できるレジストパターン改善化材料、レジストパターンの形成方法、及び半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

The desired calcined pattern, such as a partition wall pattern and a dielectric pattern and an electrode pattern of PDP can be produced in good productivity by the liftoff method or the photolithographic method.例文帳に追加

このような感光性組成物を用いることにより、リフトオフ法やフォトリソグラフィー法により、ＰＤＰの隔壁パターン、誘電体パターン、電極パターンなどの所望の焼成物パターンを生産性良く形成できる。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT OR MULTIPLE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, DEVELOPING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, AND RINSING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるネガ型現像若しくは多重現像用レジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ現像用現像液、及び該パターン形成方法に用いられるネガ型現像用リンス液 - 特許庁

To provide a thin-film-forming apparatus and a thin-film-forming method that can easily and efficiently prepare a superfine pattern, a manufacturing apparatus for a circuit pattern and a manufacturing method for a circuit pattern and electronic equipment, and a manufacturing apparatus of a resist pattern and a manufacturing method of a resist pattern.例文帳に追加

高精細なパターンを容易にかつ効率良く作製可能な薄膜形成装置と薄膜形成方法、回路パターンの製造装置と回路パターンの製造方法と電子機器、及びレジストパターンの製造装置とレジストパターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method independent of the density of a pattern and giving a pattern having good line width accuracy to design value.例文帳に追加

パターンの疎密に依存せず、設計値に対する線幅精度の良好なパターンを得ることが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING THREE-DIMENSIONAL PATTERN ON FABRIC, FIBER-SHRINKING AGENT FOR FORMING THREE-DIMENSIONAL PATTERN AND THE THREE-DIMENSIONAL PATTERN-FORMED ARTICLE例文帳に追加

布帛への立体模様形成方法、その立体模様形成方法に用いる繊維収縮剤およびその立体模様形成物 - 特許庁

To provide a pattern forming method for forming a pattern nearer to design dimensions in the case of forming the pattern on level difference.例文帳に追加

段差上にパターンを形成する場合に、設計寸法により近いパターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a test pattern generation device for automatically generating a test pattern without using a test pattern generation method and device related to an ATPG.例文帳に追加

ＡＴＰＧに係るテストパターン生成方法・装置を用いずに、自動的にテストパターンを生成するテストパターン生成・装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern dimension calculation method with which the dimension of pattern after processing can be accurately estimated regardless of shapes of pattern.例文帳に追加

パターン形状に関わらずパターンの加工後寸法を精度良く予測することができるパターン寸法算出方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a fine pattern in a semiconductor device, which enables the formation of a narrow pattern by preventing the deformation of a photoresist pattern for ArF.例文帳に追加

ArF用フォトレジストパターンの変形を抑え、狭いパターンの形成が可能な半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming thin film pattern by which a time required for forming a thin film pattern can be shortened, and in addition, the thin film pattern can be formed inexpensively.例文帳に追加

薄膜パターン形成に要する時間を短縮し、かつこれを安価に実施する薄膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for preventing deformation of a photoresist pattern and increase in LWR when spacers are formed on side walls of the pattern.例文帳に追加

フォトレジストパターンの側壁にスペーサーを形成する際のパターンの変形やＬＷＲの増大を防ぐことができるパターン形成方法。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING METAL PATTERN AND BASE MATERIAL WITH CONDUCTOR LAYER PATTERN, BASE MATERIAL WITH CONDUCTOR LAYER PATTERN, AND ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING MEMBER USING THE SAME例文帳に追加

金属パターン及び導体層パターン付き基材の製造法、導体層パターン付き基材並びにそれを用いた電磁波遮蔽部材 - 特許庁

To provide a board for drawing a conductive pattern capable of forming the fine conductive pattern in a simple manner and a method for forming the conductive pattern.例文帳に追加

微細な導電パターンを簡易に形成できる導電パターン描画用基板および導電パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern on a surface of a woody material by coloring in a pattern, and a pattern-formed woody material.例文帳に追加

木質材の表面をパターン状に着色して模様を形成する方法及び模様が形成された木質材を提供する。 - 特許庁

To enable to make an electrode of a complex pattern and a highly minute pattern in a master mold and a pattern forming method by an offset process.例文帳に追加

オフセット（offset）工法のマスターモールド（master mold）及びパターン形成方法において、複雑なパターンや高精細パターンの電極形成を可能にする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a fine pattern which prevents the pattern from being deformed or collapsed when a resist pattern is shrunk.例文帳に追加

レジストパターンを縮小化させる際のパターンの変形や倒壊を防止することが可能な微細パターンの作製方法を提供する。 - 特許庁