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patternを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 50000



例文

METHOD OF PROJECTION-ALIGNING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT PATTERN例文帳に追加

半導体集積回路パターンの投影露光方法 - 特許庁

SALT, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加

塩、フォトレジスト組成物及レジストパターンの製造方法 - 特許庁

PRODUCT HAVING SCALE PATTERN AND MANUFACTURE THEREOF例文帳に追加

鱗模様を有する物品およびその製造方法 - 特許庁

METHOD AND PROGRAM FOR CREATING PATTERN DATA例文帳に追加

パターンデータ作成方法およびパターンデータ作成プログラム - 特許庁

例文

DRAWING METHOD OF CONDUCTIVE WIRE PATTERN BY LASER SCANNING例文帳に追加

レーザ走査による導電線パターンの描画方法 - 特許庁


例文

LIQUID FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

液浸露光用の液体及びパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN STRUCTURE FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体素子用パターン構造物の形成方法 - 特許庁

MOLDING APPARATUS FOR SAND MOLD WITH FLASK, AND PATTERN CARRIER例文帳に追加

枠付砂鋳型の造型装置及びパタ−ンキャリア - 特許庁

KNITTING METHOD FOR BORDER PATTERN AND KNITTED PRODUCT HAVING THE SAME例文帳に追加

ボーダー柄の編成方法及びそのニット製品 - 特許庁

例文

PATTERN-LIKE FINE PARTICLE FILM AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

パターン状の微粒子膜およびその製造方法。 - 特許庁

例文

ILLUMINATION DEVICE, ILLUMINATION METHOD AND PATTERN INSPECTION METHOD例文帳に追加

照明装置、照明方法及びパターン検査装置 - 特許庁

OPTICAL PATTERNING MATERIAL AND OPTICAL PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

光パターニング材料および光パターン形成方法 - 特許庁

IMAGE FORMING APPARATUS AND PATTERN GENERATION CONTROL METHOD例文帳に追加

画像形成装置及びパターン生成制御方法 - 特許庁

PROJECTOR, AND TEST PATTERN FOR CONTROLLING ATTITUDE OF PROJECTOR例文帳に追加

プロジェクタ、及び、プロジェクタの姿勢制御用テストパターン - 特許庁

SYSTEM AND PROGRAM FOR AUTOMATIC PATTERN MATCHING例文帳に追加

自動柄合わせ装置および自動柄合わせ用プログラム - 特許庁

To sort a novel time series pattern.例文帳に追加

新たな時系列パターンを分類できるようにする。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感光性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING BONDING PATTERN AND EQUIPMENT THEREFOR例文帳に追加

接合パターン形成方法およびそのための装置 - 特許庁

OFFSET PRINTING METHOD OF PATTERN THROUGH WETTING MEDIUM例文帳に追加

湿し媒体を介するパターンのオフセット印刷方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE PASTE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性ペースト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

READING DEVICE, CORRECTION PATTERN CHART, AND READ PROCESSING PROGRAM例文帳に追加

読取装置、補正用パターンチャート、読取処理プログラム - 特許庁

To provide an improved fingerprint pattern detection technique.例文帳に追加

改良した指紋パターン検知技術を提供する。 - 特許庁

PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

光硬化性樹脂組成物及びパターン形成法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY PROXIMITY EXPOSURE例文帳に追加

近接場露光によるレジストパターンの形成方法 - 特許庁

PATTERN EVALUATION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加

パターンを評価する方法及びデバイス製造方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR EVALUATING EVALUATION PATTERN例文帳に追加

半導体装置及び評価パターンの評価方法 - 特許庁

To provide a pattern forming material which is excellent in operability and follow-up feature for unevenness of a base material surface, can prevent the sensitivity of a photosensitive layer from lowering, and can form a high precision pattern, and to provide a pattern forming device provided with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

操作性、及び基体表面の凹凸追従性に優れ、かつ、感光層の感度低下を抑制可能であると共に、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

DEVICE FOR EDITING MASTER PATTERN OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT例文帳に追加

半導体集積回路のマスクパターン編集装置 - 特許庁

PATTERN ANTENNA AND RADIO COMMUNICATION EQUIPMENT USING THE SAME例文帳に追加

パターンアンテナ及びそれを備えた無線通信装置 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE AND ARRANGEMENT METHOD OF DUMMY PATTERN THEREOF例文帳に追加

半導体装置及びそのダミーパターンの配置方法 - 特許庁

FORMATION OF COATING FILM HAVING SOLID STYLE PATTERN例文帳に追加

立体調模様を有する塗膜の形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型フォトレジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOMASK AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

フォトマスク及びフォトマスクを用いたパターン形成方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR STAMPER HAVING FINE STRUCTURE PATTERN例文帳に追加

微細構造パターンを有するスタンパーの製作方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法 - 特許庁

A pattern on the mask MA, however, is out of focus.例文帳に追加

しかし、マスクMA上のパターンは焦点がずれる。 - 特許庁

The sealing pattern is formed by curing a sealant.例文帳に追加

封止パターンは、封止剤が硬化したものである。 - 特許庁

The pattern forming method comprises steps of forming one mask pattern with low wettability on the film, then forming a second mask pattern by applying or discharging a highly wettable material on the film via the first mask pattern, removing the first mask pattern and then removing a part of the first film using the second mask pattern as a mask.例文帳に追加

本発明の一は、膜上にぬれ性の低い1のマスクパターンを形成した後、第1のマスクパターンを介して、膜上にぬれ性の高い材料を塗布又は吐出して第2のマスクパターンを形成し、第1のマスクパターンを除去して、第2のマスクパターンをマスクとして第1の膜の一部を除去する。 - 特許庁

A photomask 11 is provided with: a transfer pattern 12 that is to be transferred onto a photoresist film; a first assist pattern 13 disposed in a periphery of the transfer pattern 12 and improving the resolution of the transfer pattern; and a second assist pattern 14 configured to be not transferred onto the photoresist film and giving no influence to the resolution of the transfer pattern.例文帳に追加

フォトレジスト膜に転写される転写パターン12と、転写パターン12の周囲に配置され、転写パターンの解像度を向上させる第一のアシストパターン13と、 前記フォトレジスト膜に転写されないように構成され、前記転写用パターンの解像度には影響しない第二のアシストパターン14とをフォトマスク11に設ける。 - 特許庁

The output section 22d outputs the appearance pattern.例文帳に追加

出力部22dは、出現パターンを出力する。 - 特許庁

In the second pattern switching table, a calling condition for selecting the set pattern is set, and the pattern set in the second pattern switching table is selected instead of the pattern selected in the first pattern switching table when a calculated traveling time accords with the calling condition.例文帳に追加

第二パタン切替テーブルでは、設定したパタンを選択するための呼出条件が設定されており、算出された旅行時間が当該呼出条件に合致する場合には、第一パタン切替テーブルで選択されたパタンに代えて当該第二パタン切替テーブルに設定されたパタンを選択するようにした。 - 特許庁

RESIST LOWER LAYER FILM MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

レジスト下層膜材料およびパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

The pattern storage means stores abnormal image patterns.例文帳に追加

パターン記憶手段は、異常画像パターンを記憶する。 - 特許庁

PATTERN DISPLAY DEVICE AND GAME MACHINE EQUIPPED THEREWITH例文帳に追加

図柄表示装置及びそれを搭載する遊技機 - 特許庁

SPECIAL PATTERN VARYING DISPLAY METHOD OF PACHINKO GAME MACHINE例文帳に追加

パチンコ遊技機の特別図柄変動表示方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING GATE ELECTRODE PATTERN OF SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

半導体素子のゲート電極パターン形成方法 - 特許庁

WIRING PATTERN DETERMINING METHOD AND ITS COMPUTER PROGRAM例文帳に追加

配線パターン決定方法およびそのコンピュータプログラム - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

例文

METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN AND ELECTRONIC SUBSTRATE例文帳に追加

導電性パターンの形成方法および電子基板 - 特許庁




  
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