「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(156ページ目) - Weblio英語例文検索

A magnetic substance for efficiently receiving electromagnetic energy is located outside a circuit pattern or a circuit pattern having a coil pattern on a substrate.例文帳に追加

電磁エネルギーを効率よく受信するための磁性体を、基板上であって、回路パターン、又はコイルパターンを有する回路パターンの外側に配置した。 - 特許庁

To diminish toner dust at the periphery of a circuit pattern and to sharply form a circuit pattern, when a circuit pattern is formed on a board by electrophotographic system.例文帳に追加

電子写真方式により基板の上に回路パターンを形成する際、回路パターン周辺へのトナー塵が少なく、かつ鮮明に回路パターンを形成する。 - 特許庁

The susceptor 4 is provided with a pattern 4b giving desired temperature inclination to the substrate 1 and a pattern storage 4a storing the pattern 4b.例文帳に追加

上記サセプタ４は、基板１に所望の温度勾配を付与するパターン部４ｂと、同パターン部４ｂを収納するパターン収納部４ａとを備える。 - 特許庁

In an electron beam lithographic device, the primary pattern is drawn on beam conditions under which a normal pattern is formed, and the secondary pattern is drawn by defocusing the beam to a prescribed amount.例文帳に追加

電子線描画装置では、一次パターンを通常のパターン形成時のビーム条件で描画し、二次パターンを所定量デフォーカスさせて描画する。 - 特許庁

A signal pattern comparison unit 64 compares the signal pattern of the pilot signal with the signal pattern of the baseband signal determined by the H/L determination unit 61.例文帳に追加

信号パターン比較部６４は、パイロット信号の信号パターンと、Ｈ／Ｌ判定部６１によって判定されたベースバンド信号の信号パターンとを比較する。 - 特許庁

To provide a photomask capable of performing similar pattern formation processing again, even after pattern formation, and to provide a pattern transfer method which uses the photomask.例文帳に追加

パターン形成後であっても再度同様のパターン形成処理を行うことが可能であるフォトマスク及びそれを用いたパターン転写方法を提供すること。 - 特許庁

Alignment is conducted to attain matching between the reference coordinates of alignment for alignment pattern and the center coordinates of the target pattern (S16), to thereby detect the target pattern (S17).例文帳に追加

そのアライメント・パターンのアライメント基準座標と、ターゲット・パターンの中心座標とが一致するように位置合わせし（S16）、ターゲット・パターンを検出する（S17）。 - 特許庁

The optical sheet applied for the display optical filter includes a transparent substrate, including a plurality of pattern grooves and a light shielding pattern filled in the plurality of pattern grooves.例文帳に追加

ディスプレイ光学フィルタに適用される光学シートは、複数のパターン溝を含む透明基材と、パターン溝に充填される遮光パターンとを含む。 - 特許庁

The layer first performed with the pattern formation is a metal electrode pattern layer having an alignment mark to the layer performed with the second and succeeding pattern formation.例文帳に追加

また、前記最初にパターン形成される層が、２番目以降にパターン形成される層に対する位置合わせマークを有する金属電極パターン層である。 - 特許庁

When the magnification of the tested optical system is β, the pattern period of the first diffraction grating pattern is equal to 3β times that of the second diffraction grating pattern.例文帳に追加

被検光学系の倍率をβとするとき、第１回折格子パターンのパターン周期が第２回折格子パターンのパターン周期の３β倍である。 - 特許庁

A moire pattern reflecting the shape of the nail appears by the optical interference of the grating pattern on the nail and the grating pattern of the mask in the video images of the image pickup device.例文帳に追加

撮像装置の映像には爪の上の格子パターンとマスクの格子パターンの光学的な干渉により爪の形状を反映したモアレパターンが現われる。 - 特許庁

A difference image Fourier conversion part 5 calculates the multilevel hologram pattern of the difference image, and a hologram pattern correction part 6 corrects the multilevel hologram pattern of the difference image.例文帳に追加

差分画像フーリエ変換部５は差分画像の多値ホログラムパターンを算出し、ホログラムパターン修正部６は差分画像の多値ホログラムパターンを修正する。 - 特許庁

The electrodeposition resist pattern 171 is so formed to cover a metallic pattern region formed while facing the metallic pattern 141 on the back face side of the mirror part 131.例文帳に追加

電着レジストパターン１７１は、ミラー部１３１の裏面側の金属パターン１４１に対向して形成する金属パターンの領域を被覆するように形成する。 - 特許庁

It matches the PCRE pattern "/R/" against the STAT column of ps and executes the specified string on the shell if any running processes have been found.-- watch name="running" pattern match="stat"/R//pattern condition type="presence" 例文帳に追加

ps の STAT カラムに対して正規表現 "/R/" でマッチングを行い、実行中のプロセスが見つかった場合に、指定した文字列がシェルで実行されます。 - PEAR

To provide a composition for microfabrication of a resist pattern which is used for miniaturizing the line width of a resist pattern in a step of forming a resist pattern in a semiconductor process.例文帳に追加

半導体プロセスにおけるレジストパターンの形成段階でレジストパターンの線幅微細化に使用されるレジストパターン微細化組成物を提供すること。 - 特許庁

An encoding unit 206 encodes the generated image pattern dictionary and a position where the image pattern contained in the relevant image pattern dictionary appears in the input image.例文帳に追加

符号化部２０６は、生成された画像パターン辞書と、当該画像パターン辞書に含まれる画像パターンが入力画像に現れる位置とを符号化する。 - 特許庁

Complement by a pattern complementing means 56 is conducted to prevent pressing missing of the push switch E by the recessed and protruding pattern of the lever 1 in another detecting pattern which occurs as a side effect.例文帳に追加

この副作用で他の検知パターンでのレバー１の凹凸パターンによるプッシュスイッチＥの押圧漏れが生じないように、パターン補完手段５６で補完する。 - 特許庁

To easily form not only a grain pattern but also a novel pattern such as a yarn-like or spidery pattern in a short time by a small amt. of a material.例文帳に追加

石目柄はもちろん、糸状、蜘蛛の巣状等の新しいパターンを、短時間に且つ少量の材料で容易に形成する方法を提供する。 - 特許庁

A first reference relating to a first pattern, which is used to determine a relative layout of the first pattern and a second pattern, is set in accordance with a user's specification.例文帳に追加

第一模様と第二模様の相対的な配置を決定するための、第一模様に関する第一基準が、ユーザの指定により設定される。 - 特許庁

In a pattern correcting process, a mask pattern to be processed is divided into unit areas (ST21), and the characteristic value of the mask pattern is calculated at every unit area (ST22).例文帳に追加

パターン補正処理では、処理対象となるマスクパターンを単位領域に分割し（ＳＴ２１）、単位領域毎にマスクパターンの特性値を算出する（ＳＴ２２）。 - 特許庁

As the result of decision, when the pattern data are already present, the event data corresponding to the pattern data are read from the pattern corresponding event table 50, and stored in an event table 40.例文帳に追加

判定の結果、パターンデータが既に存在する場合にはそこからパターンデータに対応したイベントデータを読み出してイベントテーブル４０に格納する。 - 特許庁

A pattern laminated body 20 obtained by arranging a resistor pattern 13 and a conductive pattern 17 on the both faces of a pressure sensitive resistance film 15 is provided on a substrate 10.例文帳に追加

感圧抵抗膜１５の両面に抵抗体パターン１３と導電パターン１７とを配置してなるパターン積層体２０を基板１０上に設ける。 - 特許庁

A pattern creation part 7 arrays the reduced images of different attributes obtained by a reduction part 6, with the pattern set by the pattern setting part 4.例文帳に追加

パターン作成部７において縮小部６において得られた属性の異なる縮小画像がパターン設定部４において設定されたパターンで配列される。 - 特許庁

A base pattern image is generated by a concentration parameter used for generating one base pattern image patch within the plurality of base pattern image patches arranged in the test printing image.例文帳に追加

試し刷り画像に配置された複数の地紋画像パッチのうち、一つの地紋画像パッチの生成に用いられた濃度パラメータで地紋画像を生成する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, AND PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMATION METHOD, PATTERN FILM, LOW REFRACTIVE INDEX FILM, OPTICAL DEVICE AND SOLID IMAGING ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加

感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 - 特許庁

The surface of the glass is subjected to masking so as to make a pattern corresponding to a cutting pattern, and thereafter, a groove corresponding to the cutting pattern is formed by subjecting the glass to chemical treatment.例文帳に追加

ガラス表面に切断分離パターンに対応したマスキングを施した後、ケミカル処理を行って切断分離パターンに対応した溝を形成する。 - 特許庁

As a result, it is possible to set a background pattern optimum for each kind of paper on which the printing of the background pattern is to be carried out, thereby improving the representing accuracy of the background pattern.例文帳に追加

よって、地紋印刷を実施する紙種に最適な地紋パターンを設定することが可能となり、地紋の再現精度を向上することができる。 - 特許庁

To enable starting drawing in a short time with stable execution, in regard to pattern drawing on a drawing object while making a drawing pattern coincident with an underlying pattern.例文帳に追加

描画パターンを下地パターンに一致させながら描画対象物に描画するパターン描画を短時間で開始することができ、しかも安定して実行する。 - 特許庁

The second picture pattern F2 is made visible by irradiating the second picture pattern F2 by the illuminating member to perform a play using the second picture pattern F2.例文帳に追加

照明部材により第２の図柄Ｆ２を照射することにより、第２の図柄Ｆ２を視認可能として、第２の図柄Ｆ２を用いた遊技を行わせる。 - 特許庁

To improve dimensional stability of a picture pattern by forming an uneven pattern on the surface of a transparent substrate sheet and the picture pattern of the underside with good registration accuracy.例文帳に追加

透明基材シートの表面の凹凸模様と裏面の絵柄模様とを、見当精度良く形成し、絵柄模様の寸法安定性を良くする。 - 特許庁

A second pattern determination means 140 refers to a second variation pattern table and determines the variation pattern of second special patterns showing the result of the second lottery.例文帳に追加

第２図柄決定手段１４０は第２変動パターンテーブルを参照し、第２抽選の結果を示す第２特別図柄の変動パターンを決定する。 - 特許庁

To provide a technology for performing tuning with a capacity pattern by forming the relevant capacity pattern on a non-contact data carrier device composed of a surface pattern only.例文帳に追加

表面パターンのみからなる非接触式データキャリア装置に容量パターンを形成して、当該容量パターンによりチューニングを行う技術を提供する。 - 特許庁

To provide an illuminator for pattern inspection which can obtain reflected light having sufficient luminance even at a fine pattern section when a pattern is inspected for propriety.例文帳に追加

パターンの良否検査の際にファインパターン部においても、十分な輝度を有する反射光を得ることができるパターン検査用照明装置を提供すること。 - 特許庁

After then, in case of trying to stop '5' as the third pattern (right pattern), after the pattern is varied to become '5', this '5' is displayed continuously for three frames.例文帳に追加

その後、第３図柄（右図柄）として「５」を停止させようとする場合、図柄が変動していき「５」に至った後は、この「５」を３コマ分連続して表示させる。 - 特許庁

A pattern 401 and a pattern 402 being the same gray scale pattern are arranged on a space 400 so as to be point-symmetrical to a central point 403 on the space.例文帳に追加

紙面４００上に同一の階調パターンであるパターン４０１とパターン４０２を紙面の中心点４０３に対して点対称に配置する。 - 特許庁

To provide a pattern generator capable of shortening a time for loading a pattern data into a storing part by reducing the circuit scale of the storing part by reducing the pattern data.例文帳に追加

パターンデータを削減することで記憶部の回路規模を縮小し、記憶部にロードする時間を短縮することが可能なパターン発生器を実現する。 - 特許庁

At the time of performing complementary division on a device pattern, the total extensions of the X- and Y-direction pattern edges of the whole pattern are calculated first.例文帳に追加

デバイスパターンのコンプリメンタリー分割を行う際には、まず全てのパターンについてＸ方向とＹ方向のパターンエッジの総延長を算出する。 - 特許庁

A memory 12 stores a vibration pattern of a vibration unit 10, a light-emitting pattern of a light emitting part 7, and a pronunciation pattern of an electronic sound, corresponding to the distance difference.例文帳に追加

メモリ１２には、この距離の差に応じた、バイブレーションユニット１０の振動パターン、発光部７の発光パターン、及び電子音の発音パターンが記憶されている。 - 特許庁

To provide a pattern inspection apparatus and pattern inspection method for detecting with high sensitivity line width defect that generates error of line width in pattern transferred on a wafer.例文帳に追加

ウエハに転写されたパターンに線幅の誤差が発生する線幅欠陥を高感度に検出するパターン検査装置及びパターン検査方法を提供する。 - 特許庁

An alignment device uses a pattern formed prior to a preceding a step of aligning the pattern of a current step in the exposure step of the pattern.例文帳に追加

位置合わせ装置は、パターンの露光工程における現行工程のパターンの位置合わせを直前工程よりも前に形成されたパターンを用いて行う。 - 特許庁

An evaluating pattern 11 for evaluating the insulation reliability between through holes is formed on the wiring board 10 and part 14 of the pattern of the real circuit is formed around the pattern 11.例文帳に追加

配線板１０にスルーホール間絶縁信頼性評価パターン１１と、該評価パターン１１の周りに実回路のパターンの一部１４とを形成する。 - 特許庁

Heat generated in the heat generating component 2 is transmitted through the wiring pattern 11a, the wiring pattern 12a, the wiring pattern 11b and the screw 31 to the case body 32.例文帳に追加

発熱部品２で発生した熱は、配線パターン１１ａ、配線パターン１２ａ、配線パターン１１ｂ、ネジ３１を介して筐体３２に伝達される。 - 特許庁

A patch antenna includes: a thin plate like ground pattern 20 and a thin plate like patch pattern 10 supported so as to have a predetermined space from the ground pattern 20.例文帳に追加

パッチアンテナは、薄板状のグランドパターン２０と、グランドパターン２０に対して所定の間隔をもって支持された薄板状のパッチパターン１０とを備える。 - 特許庁

To provide a pattern model generating device capable of easily generating a new pattern model improving recognition probability of a signal causing recognition probability of a pattern model to decrease, a pattern model evaluating device suitably used to evaluate the recognition probability of the signal causing the recognition probability of the pattern model to decrease, and a pattern recognizing device which performs pattern recognition by using the pattern model improving the recognition probability.例文帳に追加

パターンモデルの認識確率を低下させる要因となる信号の認識確率を向上する新規のパターンモデルを容易に生成可能なパターンモデル生成装置、パターンモデルの認識確率を低下させる要因となる信号の認識確率を評価するのに好適なパターンモデル評価装置、および前記認識確率を向上するパターンモデルを用いてパターン認識を行うパターン認識装置を提供する。 - 特許庁

IMAGE FORMING DEVICE AND RECOGNITION PATTERN COMPOSITING METHOD例文帳に追加

画像形成装置及び認識パターン合成方法 - 特許庁