patternを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 50000件
MEASURING METHOD OF FINE PATTERN LINE WIDTH AND ITS SYSTEM例文帳に追加
微細パターン線幅測定方法およびそのシステム - 特許庁
DRIVING DEVICE FOR PATTERN DISPLAY ROTATING DRUM OF GAME MACHINE例文帳に追加
遊技機の図柄表示回転ドラムの駆動装置 - 特許庁
ELECTROCONDUCTIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
導電性樹脂組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
IMAGE FORMATION DEVICE AND TEST PATTERN OUTPUT METHOD例文帳に追加
画像形成装置およびテストパターン出力方法 - 特許庁
To improve reliability in detection of a synchronization pattern.例文帳に追加
同期パターン検出の信頼性を向上させる。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND FORMING METHOD OF CIRCUIT PATTERN例文帳に追加
感光性組成物及び回路パタ—ン形成方法 - 特許庁
FIXED PATTERN NOISE CORRECTING DEVICE AND ITS CORRECTING METHOD例文帳に追加
固定パターンノイズ補正装置及びその補正方法 - 特許庁
PATTERN TRANSFERRING METHOD IN MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
半導体デバイス製造におけるパターン転写方法 - 特許庁
GENERATION OF PATTERN MATRIX USED IN HALF-TONE PROCESSING例文帳に追加
ハーフトーン処理で利用されるパターンマトリクスの生成 - 特許庁
RESIN, RESIST COMPOSITION, AND MANUFACTURING METHOD OF RESIST PATTERN例文帳に追加
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターン製造方法 - 特許庁
A mask coordinate calculation processing part 11 calculates a start position of the mask pattern to maximize the number of bit ON pixels in a pattern in which the mask operation of a source pattern and the mask pattern is performed, and a mask plotting processing part 12 performs the mask operation of the mask pattern deviated to the start position calculated by the mask coordinate calculation processing part 11 and of the source pattern.例文帳に追加
マスク座標計算処理部11はソースパターンとマスクパターンをマスク演算したパターンにおけるビットON画素数が最大になるようなマスクパターンの開始位置を計算し、マスク描画処理部12はマスク座標計算処理部11により計算された開始位置にずらしたマスクパターンとソースパターンとをマスク演算する。 - 特許庁
RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感放射線性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR VERIFYING LAYOUT PATTERN AND BACK ANNOTATION SYSTEM例文帳に追加
レイアウトパターン検証方法およびバックアノテーションシステム - 特許庁
The line pattern structure comprises an extending line adjacent to the first line pattern positioned in an outermost and parallel with the first line pattern; and a second line pattern having at least one projection pattern projecting from the extending line toward the first line patten in a region adjacent to the cut-off part of the first line pattern.例文帳に追加
最外郭に位置する前記第1ラインパターンと隣り合って前記第1ラインパターンと平行した延在ラインと、前記第1ラインパターンの切断部位と隣接する領域で前記第1ラインパターン方向へ向かうように前記延在ラインから突出された少なくとも1つの突出パターンを含む2つの第2ラインパターンを含む。 - 特許庁
The system picturizes pattern light projected images of an object being illuminated by the pattern light to acquire image data of the pattern light-projected images, while picturizing non-pattern light projected images of the object being non-illuminated by the pattern light to acquire image data of the non-pattern light projected images.例文帳に追加
対象物体にパターン光が投光されている状態における対象物体のパターン光投光画像を撮像しパターン光投光画像の画像データを取得し、パターン光が投光されていない状態における対象物体のパターン光非投光画像を撮像しパターン光非投光画像の画像データを取得する。 - 特許庁
RADIATION SENSITIVE MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
放射線感光材料及びパタ—ンの形成方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN例文帳に追加
導電性パターンの形成方法および形成装置 - 特許庁
The pattern forming method includes a pattern forming stage of forming a main pattern in a display region by photolithography and forming a pattern 30 for inspection in a non-display region and an inspection stage of indirectly inspecting the formation state of the main pattern by directly inspecting the pattern 30 for inspection.例文帳に追加
パターン形成方法は、フォトリソグラフィにより、表示領域に主パターンを形成すると共に、非表示領域に検査用パターン30を形成するパターン形成工程と、検査用パターン30を直接に検査することにより、主パターンの形成状態を間接的に検査する検査工程とを含んでいる。 - 特許庁
RESIN, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターン製造方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性樹脂組成物およびパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION例文帳に追加
パターン形成方法および感光性樹脂組成物 - 特許庁
NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
ACCESSORY USING THE SAME PATTERN AND THE SAME FABRIC AS THOSE OF UNDERWEAR例文帳に追加
下着と同じ柄・同じ生地を用いたアクセサリー - 特許庁
HIGH-SPEED PULSE PATTERN GENERATOR AND ITS GENERATING METHOD例文帳に追加
高速パルスパタン発生器およびその発生方法 - 特許庁
A game machine determines an established performance pattern of normal jackpot combination in the case where a variable display pattern shown in variable display pattern command is a normal jackpot exclusive pattern (S541) and determines an established performance pattern of probability oscillation jackpot combination in the case of a probability oscillation jackpot exclusive pattern (S540).例文帳に追加
可変表示パターンコマンドに示された可変表示パターンが通常大当り専用パターンである場合には通常大当り組合せの確定演出図柄を決定し(ステップS541)、確変大当り専用パターンである場合には確変大当り組合せの確定演出図柄を決定する(ステップS540)。 - 特許庁
PHOTOTHERMOGRAPHIC IMAGING MATERIAL FREE OF SCALE PATTERN例文帳に追加
スケイル模様のない光熱写真画像形成材料 - 特許庁
REGISTRATION METHOD OF PALMAR PATTERN IMPRESSION AND ITS DEVICE例文帳に追加
掌紋印象の登録方法およびその装置 - 特許庁
A pattern part of an information recording body 1 having a hidden pattern is illuminated by a light source 24, reflected light is read out by an optical sensor 25 through a check pattern 27 and a lens system 26, a moire pattern is generated, and whether the generated moire pattern is the same as a reference pattern stored in a storage means 29 or not is judged to solve conventional problems.例文帳に追加
隠しパターンを有する情報記録体1のパターン部を光源24で照明し、反射光を確認パターン27およびレンズ系26を介して光センサ25で読み取り、モアレパターンを発生させ、記憶手段29に記憶された標準パターンとの異同の判定を行なうことにより、課題を解決した。 - 特許庁
IMAGE FORMING APPARATUS AND PATTERN FOR MISREGISTRATION CORRECTION例文帳に追加
画像形成装置および位置ずれ調整用パターン - 特許庁
AUXILIARY AGENT FOR FORMING FINE PATTERN AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
微細パターン形成補助剤及びその製造法 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING PANEL WITH PATTERN例文帳に追加
模様付きパネルの製造装置および製造方法 - 特許庁
VOICE CALL DEVICE HAVING DIRECTIONAL PATTERN CHANGEOVER FUNCTION例文帳に追加
指向性切替機能を有する音声呼出装置 - 特許庁
The micro lens is covered by the protection pattern.例文帳に追加
前記マイクロレンズは保護パターンにより覆われている。 - 特許庁
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