「rotating substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

SUBSTRATE HOLDER AND SUBSTRATE ROTATING PROCESSOR例文帳に追加

基板保持装置および基板回転式処理装置 - 特許庁

SUBSTRATE-ROTATING/HOLDING DEVICE AND ROTARY TYPE SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

基板回転保持装置および回転式基板処理装置 - 特許庁

SUBSTRATE ROTATING/HOLDING DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE COMPRISING IT例文帳に追加

基板回転保持装置およびこれを備えた基板処理装置 - 特許庁

SUBSTRATE ROTATING AND HOLDING DEVICE, AND SUBSTRATE TREATMENT EQUIPMENT例文帳に追加

基板回転保持装置および基板処理装置 - 特許庁

SUBSTRATE ROTATING MECHANISM AND SUBSTRATE TREATMENT DEVICE例文帳に追加

基板の回転機構及び基板処理装置 - 特許庁

The device comprises a holding and rotating means for holding and rotating the substrate 2 about an axis A of the substrate.例文帳に追加

装置は、基板２を軸Ａの回りに保持し回転させる保持回転手段を含む。 - 特許庁

A substrate processing apparatus is disclosed which drops liquid onto the substrate and processes the substrate by rotating the substrate.例文帳に追加

基板に薬液を滴下し、基板を回転して基板を処理する基板処理装置が開示される。 - 特許庁

To provide a technique for efficiently cooling a substrate while rotating the substrate.例文帳に追加

基板を回転させながら効率よく冷却することができる技術の実現。 - 特許庁

SUBSTRATE-HOLDING/ROTATING MECHANISM, AND SUBSTRATE TREATMENT DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

基板保持回転機構およびそれを用いた基板処理装置 - 特許庁

HORIZONTALLY ROTATING TYPE SUBSTRATE TRANSFER CARRIER DEVICE IN CARRYING OF DOUBLE ROW SUBSTRATE例文帳に追加

複列基板搬送における水平旋回式基板乗換え搬送装置 - 特許庁

SUBSTRATE ROTATING DEVICE AND SUBSTRATE COATING SYSTEM USING THE SAME例文帳に追加

基板回動装置及びそれを使用した基板の塗工システム - 特許庁

To suppress damage to a substrate by reducing the rotating speed of the substrate necessary for drying.例文帳に追加

乾燥に必要な基板の回転を低速化し、基板の破損を抑制する。 - 特許庁

EQUIPMENT AND METHOD OF PROCESSING SUBSTRATE, AND ROTATING MEMBER FOR HOLDING SUBSTRATE例文帳に追加

基板処理装置および基板処理方法、ならびに基板保持用回転部材 - 特許庁

SUBSTRATE ROTATING DEVICE WITH AIR BLOW FUNCTION例文帳に追加

エアーブロー機能付き基板回転装置 - 特許庁

FILM-FORMING APPARATUS HAVING SUBSTRATE-ROTATING MECHANISM例文帳に追加

基板回転機構を備えた成膜装置 - 特許庁

METHOD AND DEVICE USED TO PROCESS SUBSTRATE WITHIN ROTATING APPARATUS例文帳に追加

回転設備内で基材を処理する方法および装置 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTION OF SUBSTRATE BY USING ROTATING IRRADIATION SOURCE例文帳に追加

回転照射源を用いた基板検査方法及び装置 - 特許庁

A substrate-rotating shaft 20 is arranged over the crucible and the substrate holder 22 is attached to the lower part of the substrate- rotating shaft 20.例文帳に追加

るつぼ１８の上方には、基板回転軸２０が配置され、基板回転軸２０の下部には、基板ホルダ２２が設けられる。 - 特許庁

APPARATUS FOR ROTATING AND HOLDING SUBSTRATE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS EQUIPPED THEREWITH, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD例文帳に追加

基板回転保持装置およびそれを備えた基板処理装置ならびに基板処理方法 - 特許庁

The surface of a substrate to be treated is washed by alternately repeating a low speed rotating treatment of rotating the substrate to be treated having recessed parts at a first rotating speed, and a high speed rotating treatment of rotating the substrate at a second rotating speed higher than the first rotating speed, while feeding the washing liquid to the surface of the substrate.例文帳に追加

凹部を有する被処理基板を第１の回転速度で回転させる低速回転処理と、被処理基板を第１の回転速度よりも大きい第２の回転速度で回転させる高速回転処理とを交互に繰り返し行ないながら、被処理基板の表面に洗浄液を供給することによって被処理基板の表面を洗浄する。 - 特許庁

To provide a substrate edge holding rotating device which does not require a robot hand to retreat to a standby position when a substrate is loaded or unloaded as the substrate rotating device rotates a substrate, supporting the rear edge of a silicon substrate so as to detect the angular position of the substrate.例文帳に追加

基板のエッジホールド式回転装置において、シリコン基板等の端縁裏面を支持して基板を回転し基板の角度位置検出をする際、基板の受け渡し時にロボットハンド等の退避動作を不要とする。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR HEATING LAYER HELD ON A ROTATING SUBSTRATE例文帳に追加

回転基板上に保持された層を加熱する装置及び方法 - 特許庁

AIR CORE HIGH-DENSITY ARMATURE WITHOUT SUBSTRATE AND ROTATING MACHINE USING THE SAME例文帳に追加

基板のない空芯高密度電機子とこれを用いた回転機 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR REMOVING LIQUID FROM SURFACE OF ROTATING SUBSTRATE例文帳に追加

回転基材の表面から液体を除去する方法および装置 - 特許庁

A substrate holding/rotating member 2 includes a disk-shaped spin base 7.例文帳に追加

基板保持回転部材２は、円盤状のスピンベース７を備えている。 - 特許庁

A supporting part 22 supporting a back substrate 4, a supporting part 22 supporting a back substrate 4, an electrostatic chuck 24 attracting and holding a front substrate, and a rotating mechanism 28 rotating the electrostatic chuck on a rotating axis 28 are installed inside the vacuum chamber 21.例文帳に追加

真空チャンバ２１内には、背面基板４を支持する支持部２２、前面基板２を吸着保持する静電チャック２４、および静電チャック２４を回転軸２６の周りで回転させる回転機構２８を有する。 - 特許庁

The rotation of the holding means by a substrate rotating means 13 is transmitted to a substrate rotating means 12 by a power transmission mechanism, and the substrate rotating means is rotated by an interlocking.例文帳に追加

基板旋回手段１３による基板保持手段の旋回が、動力伝達機構によって基板回転手段１２に伝達され、連動して基板回転手段が回転される。 - 特許庁

The contact substrate 21 is supported to be rotated in the centered state at a rotating shaft inside the substrate case 3.例文帳に追加

接点基板２１は、基板ケース３の内側で回動軸を中心に回動するように支持されている。 - 特許庁

A substrate-processing apparatus includes a spin chuck for holding and rotating a substrate.例文帳に追加

基板処理装置は、基板を保持して回転させるスピンチャックを備えている。 - 特許庁

The substrate 12 is dried by a spin- drying method for rotating the substrate 12 at high speeds.例文帳に追加

基板12の乾燥は、基板12を高速回転するスピン乾燥方式を用いる。 - 特許庁

To provide a liquid treatment apparatus for applying a prescribed liquid treatment on a substrate, without rotating the substrate.例文帳に追加

基板を回転させることなく基板に対して所定の液処理を施す液処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate rotation device which contributes to cost reduction in a mechanism for rotating a substrate.例文帳に追加

基板を回転させる機構のコスト低減に寄与する基板回転装置を提供する。 - 特許庁

In this way, the substrate processing is performed without rotating the substrate and the pad.例文帳に追加

これにより、前記基板および前記パッドを回転させることなく前記基板処理を行う。 - 特許庁

For this reason, the fringe of the substrate can be cleaned without rotating the substrate.例文帳に追加

このため基板を回転させずに基板の周縁部を洗浄することができる。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 100 for applying a process liquid to a substrate W has a substrate rotating part 101 for rotating the substrate W, and a shield 103 for shielding the substrate W from atmosphere.例文帳に追加

基板Ｗに処理液を付与する基板処理装置１００は、基板Ｗを回転させる基板回転部１０１と、基板Ｗを雰囲気から遮蔽する遮蔽部１０３とを有する。 - 特許庁

To provide a substrate-holding/rotating mechanism, and a substrate treatment device provided with the substrate-holding/rotating mechanism, capable of holding a substrate without contacting the main surface of the substrate, using a simple structure.例文帳に追加

簡単な構成で、基板の主面に接触することなく基板を保持することができる基板保持回転機構およびそのような基板保持回転機構を備えた基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 10 processes the substrate W while rotating the substrate W so that the plate surface of the substrate W is arranged along a horizontal direction.例文帳に追加

基板処理装置１０は、基板Ｗの板面が水平方向に沿うようにして当該基板を回転させながら処理する装置である。 - 特許庁

To provide a substrate treatment device and a substrate treatment method capable of treating the fringe of a substrate without rotating the substrate, and also to reduce a device height.例文帳に追加

基板を回転させないで当該基板の周縁部を処理することのできる基板処理装置、及び基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate-holding mechanism capable of surely feeding or rotating a substrate, and to provide a substrate-processing apparatus which includes the substrate-holding mechanism.例文帳に追加

基板の搬送や、基板の回転を確実に行うことができる基板保持機構、およびこの基板保持機構を備える基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide: a spin head supporting a substrate and rotating the substrate; an apparatus for treating a substrate having the same; and a method for supporting a substrate.例文帳に追加

基板を支持して基板を回転させるスピンヘッドとこれを有する基板処理装置及び基板支持方法を提供する。 - 特許庁

A substrate processing apparatus 10 is an apparatus which processes a substrate W, while rotating the substrate W so that a plate surface of the substrate W may move along a horizontal direction.例文帳に追加

基板処理装置１０は、基板Ｗの板面が水平方向に沿うようにして当該基板を回転させながら処理する装置である。 - 特許庁

To provide a continuous substrate take-up device capable of rotating two rotating bodies by a single drive source to take up continuous substrate fed through one rotating body by the other rotating body, in which the continuous substrate is taken up at constant tension.例文帳に追加

１つの駆動源で２つの回転体を回転させることにより一方の回転体を経由して供給された連続基材を他方の回転体にて巻き取る連続基材巻き取り装置において、連続基材を一定のテンションで巻き取る。 - 特許庁

Polishing of the substrate preferably includes polishing of the edge of the substrate while the substrate is rotating by a holding device so that any devices other than the polishing tape do not touch the edge while the substrate is rotating.例文帳に追加

基板の研磨は、好ましくは、基板が回転している間に、研磨テープを除いたいずれの装置も縁部に接触しないように、基板が保持デバイスによって回転している間に基板の縁部を研磨することを含む。 - 特許庁

This method includes a substrate rotating process of rotating one substrate held by a spin chuck, a preceding pure water supply process of supplying pure water on the substrate surface rotated by the substrate rotating process, and a chemicals liquid supply process of supplying a chemical liquid on the substrate surface rotated by the substrate rotating process.例文帳に追加

この方法は、スピンチャックで１枚の基板を保持して回転させる基板回転工程と、この基板回転工程によって回転されている基板の表面に純水を供給する前純水供給工程と、基板回転工程によって回転されている基板の表面に薬液を供給する薬液供給工程とを含む。 - 特許庁

A thin film, e.g. a microcrystalline silicon film is formed on a substrate 14 by rotating the rotating electrode SR for film formation while feeding the substrate 14 in a direction opposite to the electrode-rotating direction.例文帳に追加

成膜用回転電極ＳＲを回転させながらその回転周方向と逆方向に基材１４を搬送することにより基材１４上に薄膜、例えば微結晶シリコン膜を形成する。 - 特許庁