「scheduled removal」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

In the polarizing plate film removal step, a laser beam is irradiated along the scheduled dividing line from the side at which the polarizing plate film has been formed to remove the polarizing plate film on the scheduled dividing line.例文帳に追加

偏光板フィルム除去工程は、偏光板フィルムが形成された側から、分断予定ラインに沿ってレーザ光を照射し、分断予定ライン上の偏光板フィルムを除去する。 - 特許庁

After the patterning, a side wall 305 is formed on the side surface of the core material film so that the side surfaces of the removal scheduled portion and the residual portion are covered by the side wall, and the interval of the predetermined distance between the residual portion and the scheduled portion is blocked by the side wall.例文帳に追加

パターニングの後に芯材膜の側面に側壁305を形成して除去予定部分および残存部分の側面を側壁で覆うとともに残存部分と除去予定部分との間の所定距離の間隙を側壁で閉塞する。 - 特許庁

In such a case, a scheduled access counter ACC(k)(k=0 to N-1) counts the number of scheduled accesses to respective cache areas CA(k)(k=0 to N-1), and when the image data in the cache area has to be removed, cache areas in which the number of scheduled accesses is "one" or more are excluded from an removal target.例文帳に追加

その際、キャッシュエリアＣＡ（ｋ）（ｋ＝０〜Ｎ−１）の各々についてアクセス予定カウンタＡＣＣ（ｋ）（ｋ＝０〜Ｎ−１）によりアクセス予定回数をカウントし、キャッシュエリアの画像データの追い出しが必要な場合に、アクセス予定回数が「１」以上であるキャッシュエリアを追い出し対象から除外する。 - 特許庁

The dividing method is used for dividing a glass substrate along a scheduled dividing line and includes: a preparation step, a polarizing plate film removal step and a dividing step.例文帳に追加

この分断方法は、ガラス基板を分断予定ラインに沿って分断するための方法であって、準備工程と、偏光板フィルム除去工程と、分断工程と、を含んでいる。 - 特許庁

The producing method for this multilayered printed wiring board has a process for forming a dam 14 for preventing resin flow by screen printing or the like corresponding to a notched part 13 for detaching a removal scheduled part.例文帳に追加

この多層プリント配線板の製造方法は除去予定部を取り外すための切り込み部（１３）に対応して樹脂流れを防止するためのダム（１４）をスクリーン印刷等により形成する工程を有する。 - 特許庁

After outputting a removal signal, a CPU 1 outputs a vacuum pressure generation signal for a suction mechanism 9 at a time (ST) of lapse of a scheduled time (Ts) obtained by deducting a vacuum arrival time (TV) for the suction mechanism 9 from a moving time (Tz+Ty) for a grasping mechanism part 7.例文帳に追加

ＣＰＵ１は、取出信号を出力した後、把持機構部７の移動時間（Ｔｚ＋Ｔｙ）から吸着機構９の真空到達時間（Ｔｖ）を減じた予定時間（Ｔｓ）の経過時点（ＳＴ）で前記吸着機構９の真空圧発生信号を出力する。 - 特許庁

A resist 306 is further formed so as to cover the upper surface of the residual portion whose side surface is covered by the side wall, wet etching is executed to remove the removal scheduled portion after the resist is formed, and the resist is removed after the wet etching.例文帳に追加

さらに、側面が側壁で覆われた残存部分の上面を覆うようにレジスト306を形成し、レジストの形成後にウェットエッチングを行うことにより除去予定部分を除去し、ウェットエッチングの後にレジストを除去する。 - 特許庁

Article 49 (1) No person shall, after public notice concerning an aerodrome for public use given under Article 40 (including when applying accordingly to Article 43 paragraph (2)) install, plant, or leave any structures (except the part pertaining to the relevant construction in the structures which are under construction at the time of public notice), plants or any other objects which protrude above the approach surface, transitional surface or horizontal surface (The surface taken shall be the lowest one if overlap of these projected planes occur.) indicated in the said public notice; provided, however, that the same shall not apply where temporary structures and any other objects (except those pertaining to approach surfaces or transitional surfaces) specified by Ordinances of the Ministry of Land, Infrastructure, Transport and Tourism are installed or left under the approval of the aerodrome provider and are planned for removal before the scheduled starting date of services. 例文帳に追加

第四十九条　何人も、公共の用に供する飛行場について第四十条（第四十三条第二項において準用する場合を含む。）の告示があつた後においては、その告示で示された進入表面、転移表面又は水平表面（これらの投影面が一致する部分については、これらのうち最も低い表面とする。）の上に出る高さの建造物（その告示の際現に建造中である建造物の当該建造工事に係る部分を除く。）、植物その他の物件を設置し、植栽し、又は留置してはならない。但し、仮設物その他の国土交通省令で定める物件（進入表面又は転移表面に係るものを除く。）で飛行場の設置者の承認を受けて設置し又は留置するもの及び供用開始の予定期日前に除去される物件については、この限りでない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム