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second bathの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 115件
A refrigeration cycle system 5 is constituted by connecting a compressor 1, a condenser 2 for heat-exchange with water circulated through a heat storage tank 14, the first heat exchanger 3 for heat-exchange with the bath tub water, the second heat exchanger 4 connected in parallel to the first heat exchanger 3 for heat-exchange with outside air, and contraction means 7a, 7b, by piping.例文帳に追加
圧縮機１と、蓄熱タンク１４を循環する水と熱交換する凝縮器２と、浴槽水と熱交換する第１熱交換器３と、第１熱交換器３と並列に接続され外気と熱交換する第２熱交換器４と、絞り手段７ａ，７ｂとを配管で接続して冷凍サイクル装置５を構成する。 - 特許庁
This two bath type agent for permanent waves is characterized in that the first agent composition and/or the second agent composition contain an alkyl acrylate copolymer, especially preferably Acculin 33 (trade name), preferably in an amount of 0.05 to 5.0 wt.%, and further preferably dimethyldiallylammonium chloride-acrylic acid copolymer or the like.例文帳に追加
二浴式パーマネントウェーブ用剤における第１剤組成物及び／又は第２剤組成物に、アクリル酸アルキル共重合体、特に好ましくは商品名アキュリン３３を、好ましくは０．０５〜５．０重量パーセント含有させ、更に好ましくは塩化ジメチルジアリルアンモニウム・アクリル酸共重合体等を含有させた二浴式パーマネントウェーブ用剤。 - 特許庁
The second container 3 is provided with a material coater 10 which applies flux 11 for transportation pawl to the transportation pawls 9 of the conveyor 8, a preheater 21, a solder bath 22 storing the solder used for soldering the circuit board 4, and a cooling fan 23 used for cooling the board 4.例文帳に追加
第２の容器３には、回路基板４が移動する順に、搬送コンベア８の搬送爪９に搬送爪用のフラックス１１を塗布するための材料塗布装置１０と、プリヒータ２１と、回路基板４を半田付するための半田が蓄えられている半田槽２２と、回路基板４を冷却する冷却ファン２３とが備えられている。 - 特許庁
Furthermore, all or some of the etching bath 11, etching liquid exhaust pipe 12, first-order reaction settling tank 14, and second-order reaction settling tank 16 are provided with the spraying means 32 through 35 which spray the impurities removal fluid 31 to the etching liquid 1 or etching drain 2, thereby triggering the settling reaction of the impurities 3.例文帳に追加
そして、エッチング槽１１、エッチング液排出管１２、一次反応沈澱槽１４、および二次反応沈澱槽１６の全部または一部に噴射手段３２〜３５を設け、不純物除去流体３１をエッチング液１またはエッチング排液２に噴射して、これらから不純物３が沈殿する反応を誘起する。 - 特許庁
And the film has been regulated so that the degree of longitudinal hot-water thermal shrinkage through 10 seconds immersion in 80°C water, and the degree of machine direction thermal shrinkage and degree of longitudinal thermal shrinkage through 10-second immersion in a 140°C glycerol bath are respectively in given ranges.例文帳に追加
そして、８０℃の温水中で１０秒間処理した場合における長手方向の湯温熱収縮率、１４０℃のグリセリン浴中で１０秒間処理した場合における長手方向の熱収縮率および幅方向の熱収縮率が、それぞれ、所定の範囲となるように調整されている。 - 特許庁
In electrolytic refining in a sulfamic acid bath using a high impurity anode having 5-30 mass% Bi grade, the electrolytic process of lead includes: carrying out electrolysis at ≤50 A/m^2 current density for ≥2 hours as a first stage and then, carrying out electrolysis at ≤100 A/m^2 current density as a second stage; and recovering the high purity lead.例文帳に追加
Bi品位5から30 mass％の高不純物アノードを用いた、スルファミン酸浴での電解精製において、１段階目の電流密度を50A/m2以下で電気分解を2時間以上行った後、2段階目として100A/m2以下で電気分解を行うことで高純度の鉛を回収する鉛の電解方法。 - 特許庁
In the sewage purification tank having an anaerobic treatment tank and an aerobic treatment tank installed at the downstream of the anaerobic treatment tank, the anaerobic treatment tank is provided with a first inflow port for being made to flow feces and urine therein, and the aerobic treatment tank is provided with a second inflow port for being made to flow the bath drainage therein.例文帳に追加
本発明は、嫌気処理槽と、この嫌気処理槽の下流に設置される好気処理槽とを備えた汚水浄化槽であって、上記嫌気処理槽に屎尿を流入させる第１の流入口を設け、上記好気処理槽に浴槽排水を流入させる第２の流入口を設けた汚水浄化槽である。 - 特許庁
A pressure tight pump 20 to be used as a conveyance means is provided in a first circulation circuit 19 circulating hot water, a first double tube heat exchanger 23 to be used as a forced convection type heat exchanger for space heating is provided in an upstream side, and a second double tube heat exchanger 24 to be used as a forced convection type heat exchanger for bath reheating is provided in a downstream side.例文帳に追加
温水を循環する第一の循環回路１９に搬送手段としての耐圧ポンプ２０を設け、暖房用の強制対流型熱交換器としての第一の二重管熱交換器２３を上流側に設け、風呂追い焚き用の強制対流型熱交換器としての第二の二重管熱交換器２４を下流側に設けている。 - 特許庁
The method for uptake dyeing of cellulose-based fiber material is characterized by comprising a first process for dyeing the cellulose-based fiber material in a dye bath at 60-100°C and at pH 7.5-10 and a second process for dyeing the cellulose-based fiber material treated by the first process at 30-95°C and a pH higher than that of the first process.例文帳に追加
第一工程：セルロース系繊維材料を、温度が６０〜１００℃の範囲、且つｐＨが７．５〜１０の範囲の染浴中で染色処理する工程、 第二工程：第一工程で処理されたセルロース系繊維材料を、温度が３０〜９５℃の範囲、且つｐＨが第一工程の値よりも高い染浴中で、更に染色処理する工程 - 特許庁
A pressure-resisting pump 20 as a conveying means is mounted on a first circulation circuit 19 for circulating the hot water, a first double pipe heat exchanger 23 as a forcible convection type heat exchanger for room heating is mounted on an upstream side, and a second double pipe heat exchanger 24 as a forcible convection type heat exchanger for reheating the bath is mounted on a downstream side.例文帳に追加
温水を循環する第一の循環回路１９に搬送手段としての耐圧ポンプ２０を設け、暖房用の強制対流型熱交換器としての第一の二重管熱交換器２３を上流側に設け、風呂追い焚き用の強制対流型熱交換器としての第二の二重管熱交換器２４を下流側に設けている。 - 特許庁
A pressure pump 20 as a conveying means is provided in the first circulation circuit 19 for circulating hot water, the first double tube heat-exchanger 23 is provided as a forced convection type heat exchanger for the heating, in an upstream, and the second double tube heat-exchanger 24 is provided as a forced convection type heat exchanger for the reheating for the bath, in a downstream.例文帳に追加
温水を循環する第一の循環回路１９に搬送手段としての耐圧ポンプ２０を設け、暖房用の強制対流型熱交換器としての第一の二重管熱交換器２３を上流側に設け、風呂追い焚き用の強制対流型熱交換器としての第二の二重管熱交換器２４を下流側に設けている。 - 特許庁
A texture etching device (etching device) 100 for etching a silicon substrate 8 containing a p- or n-type dopant by immersing the silicon substrate in an etching liquid 9 comprises: an etching bath 1 which stores the etching liquid 9; and a first cation removal device 4A and a second cation removal device 4B which adsorb and collect the cations which are eluted into the etching liquid 9.例文帳に追加
テクスチャエッチング装置（エッチング装置）１００は、ｐ型又はｎ型のドーパントを含むシリコン基板８をエッチング液９中に浸漬してエッチングするエッチング装置であり、エッチング液９を貯留するエッチング槽１と、エッチング液９中に溶出した陽イオンを吸着して収集する第一および第二の陽イオン除去装置４Ａ，４Ｂとを備えている。 - 特許庁
The trivalent chromium plating bath contains a trivalent chromium salt (chromium chloride), a first organic compound-based complexing agent (potassium formate), a second organic compound-based complexing agent (lactic acid), a buffer agent (boric acid), an electroconductive salt (potassium chloride), a corrosion inhibitor (potassium bromide), a surface controlling agent (polyethylene glycol 400) and a hardener (strontium chloride).例文帳に追加
めっき浴中に、３価クロム塩（塩化クロム）と、有機化合物系の第１錯化剤（ギ酸カリウム）と、有機化合物系の第２錯化剤（乳酸）と、緩衝剤（ほう酸）と、電導塩（塩化カリウム）と、腐食抑制剤（臭化カリウム）と、表面調整剤（ポリエチレングリコール４００）と、硬化剤（塩化ストロンチウム）とを含有する３価クロムめっき浴によって、上記の課題が解決される。 - 特許庁
The first plating solution and the second plating solution have the same composition except a metallic material and an acidic solvent to dissolve the metallic material, hence a water washing bath is not needed, and a plating method is realized wherein the concentration control of the plating solution is facilitated.例文帳に追加
導電部材２１を第１メッキ液、第２メッキ液と順次浸漬して異なる金属材料の２層のメッキ膜２２、２３を施すメッキ方法において、第１メッキ液および第２メッキ液は、金属材料およびそれを溶かす酸性溶剤を除いて同一の液構成にすることにより、水洗用浴槽を不要にし且つメッキ液の濃度管理を容易にしたメッキ方法を実現する。 - 特許庁
A process in which copper metallic layers are formed by depositing copper metals to recessed sections 4 formed in broad widths towards the opening direction to insulating layers 3 formed to the surface of the conductive base material 2 under a first current density and the copper metal is deposited on a copper surface in a black or a brown under a second current density larger than the first current density is conducted in one copper-sulfate plating bath.例文帳に追加
導電性基材２の表面に形成された絶縁層３に開口方向に向かって幅広に形成された凹部４に第１電流密度の下に銅金属を析出させて銅金属層を形成し、第１の電流密度よりも大きい第２の電流密度の下に銅表面に黒色乃至茶褐色になるように銅金属を析出させる工程を、一つの硫酸銅めっき浴中にて行う。 - 特許庁
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