意味 | 例文 (17件) |
閾下縁の英語
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英訳・英語 subthreshold fringe; subliminal fringe
「閾下縁」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 17件
制御装置7は、絶縁抵抗センサ6によって検出された絶縁抵抗R1が、低下閾値Rlow以下となった場合に、絶縁抵抗の低下を回復させる回復制御を行う。例文帳に追加
When the insulation resistance R1, detected by the insulation resistance sensor 6, becomes a reduction threshold Rlow or less, a control unit 7 conducts recovery control so as to make the decrease in the insulation resistance recover. - 特許庁
これにより、ゲート絶縁膜の容量が実質的に低下するため、HVトランジスタ10の閾値電圧を高くすることができる。例文帳に追加
Consequently, the capacity of the gate insulating film substantially decreases and then the threshold voltage of the HV transistor 10 is therefore raised. - 特許庁
そして、表面電位演算値と表面電位計により測定された絶縁膜の表面電位測定値との差が閾値以下になるまで表面電荷密度の仮決定値が変更され、上記差が閾値以下となった際の仮決定値が表面電荷密度の値として決定される。例文帳に追加
Thereafter, the preliminarily determined value of the surface charge density is changed until a difference between the surface potential operation value and a surface potential observation value of the insulating film measured by a surface electrometer becomes to a threshold or less, and the preliminarily determined value at the time when the difference becomes to the threshold or less is decided as a value of the surface charge density. - 特許庁
非印加状態の下で、X電極8,9とY電極16,17との間の絶縁抵抗値を検出した上で、検出された絶縁抵抗値に応じた操作有無判定用の検出電圧の閾値を設定すること。例文帳に追加
An insulation resistance value between X electrodes 8, 9 and Y electrodes 16, 17 is detected in a non-application state, and then a threshold value of the detected voltage for operation presence decision according to the detected insulation resistance value is set. - 特許庁
ゲート電極の空乏化と、ゲート電極内の不純物量の減少ないしはバラつきと、イオンがゲート絶縁膜を突き抜けてしまうことに起因したゲート絶縁膜の信頼性低下及び閾値変動を抑制する。例文帳に追加
To suppress degradation in the reliability of a gate insulating film and changes in the threshold, caused by the depletion of a gate electrode, reduction or variations in the amount of impurities in the gate electrode and the penetration of ions into the gate insulating film. - 特許庁
High−k材料の添加量は、炭素の注入による閾値電圧の低下量を、High−k材料をゲート絶縁膜13に添加することによる閾値電圧の上昇量により補うことができる添加量である。例文帳に追加
The additive amount of the high-k material is determined so that the amount of decrease in the threshold voltage due to the carbon injection can be compensated with the amount of increase in the threshold voltage due to addition of the high-k material to the gate insulating film 13. - 特許庁
第2の部分110bと下地絶縁膜105との間には、MISトランジスタの閾値電圧を変更する金属を含有する第1のキャップ膜106が設けられている。例文帳に追加
A first cap film 106, which contains metal that changes the threshold voltage of an MIS transistor, is provided between the second portion 110b and the base insulating film 105. - 特許庁
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「閾下縁」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 17件
電界効果型トランジスタ10yの閾値電圧の調整を行うためのチャネルドープを行う際、下地絶縁層12を介してチャネル領域1xに不純物を導入する。例文帳に追加
In the case of carrying out channel dope for adjusting the threshold voltage of the electric field effect transistor 10y, impurity is introduced through the base insulating layer 12 to a channel region 1x. - 特許庁
連続鋳造で得た金属鋳片の縁部の傾斜を、断面視で水平を基準にして測定し、該測定値を表皮下欠陥の存在を判定する閾値と比較する。例文帳に追加
An inclination of the edge part of the metal cast slab obtained by the continuous casting is measured with a cross sectional view by using the horizontal line as a standard, and the measured value is compared with a threshold value for judging whether the defect exists under the surface skin. - 特許庁
溝分離に用いる絶縁膜が溝端部でえぐれた形状になることに起因する耐圧劣化や閾値電圧の低下、及びコンタクト部でのリークという現象を抑制可能な半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide the production method of a semiconductor device with which a phenomenon such as pressure resistance degradation, threshold voltage reduction and leakage at a concrete part caused by recessing an insulating film to be used for groove separation at a groove end can be suppressed. - 特許庁
また、トランジスタ101のゲート端子とソース端子の電位差が、トランジスタ101の閾値電圧以上であり、且つトランジスタ101の絶縁耐圧以下である。例文帳に追加
A difference of voltage in between the gate terminal and the source terminal of the transistor 101 is not lower than the threshold voltage of the transistor 101, and not higher than the breakdown voltage of the transistor 101. - 特許庁
高誘電率材料からなるゲート絶縁膜、多結晶シリコンからなるゲート電極を備えるPチャネルMOS型トランジスタにおいて、フェルミピニングを解消し、閾値電圧の安定的な低下を提供する技術を提供する。例文帳に追加
To provide a technology for eliminating Fermi pinning and stably decreasing the threshold voltage in a p-channel MOS transistor provided with a gate insulated film consisting or a high dielectric constant material and a gate electrode consisting of polycrystalline silicon. - 特許庁
高誘電率ゲート絶縁膜やメタルゲート電極を採用する場合に、仕事関数の変動を抑えて閾値電圧の変動量を低く抑えることができるようにし、ゲートリーク電流の増大を抑えて、信頼性の低下を招かないようにする。例文帳に追加
To suppress low the amount of variation of threshold voltage by suppressing variation of a work function when adopting a high dielectric gate insulating film and a metal gate electrode, and hence restrain the increase of a gate leak current for preventing reliability from being lowered. - 特許庁
ワイドバンドギャップ半導体を用いた絶縁ゲート型半導体装置において、チャネル抵抗を抑制した上で、高温下における動作時にゲート電極に高電界を印加しても、閾値電圧が経時的に変動しない安定したSiC-MOSFETを提供する。例文帳に追加
To provide a stable SiC-MOSFET having a threshold voltage not being temporally varied even when channel resistance is restrained and thereafter a high electric field is applied to a gate electrode during operation at high temperature, in an insulated gate type semiconductor device using a wideband gap semiconductor. - 特許庁
TFTのゲート絶縁膜の厚さを薄くしてTFTの書き込み特性(オン電流増大及び閾値電圧の低下)を良好となしながらもTFTの静電破壊に対する信頼性を大きくした電気光学装置を提供すること。例文帳に追加
To provide an electrooptical device which is increased in reliability against electrostatic discharge of a TFT though write characteristics (an increase in ON current and a decrease in threshold voltage) of the TFT are improved by reducing the thickness of a gate insulating film of the TFT. - 特許庁
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※この記事は「北里大学医療衛生学部 医療情報学研究室」ホームページ内の「医学用語集」(2001.06.10. 改訂)の情報を転載しております。 | |
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