PSGとは 意味・読み方・使い方

The thermal diffusion of phosphor is applied on the surface of a silicon substrate 1 to form a PSG (phosphorous silicate glass) layer 3 and a phosphor diffusion layer 2, and thereafter, the PSG layer 3 is removed by acid treatment whereby metallic impurities contained in the PSG layer 3 are removed.例文帳に追加

シリコン基板１表面にリンの熱拡散を実施してＰＳＧ（リンシリケイトガラス）層３およびリン拡散層２を形成した後、酸処理によりＰＳＧ層３を除去することによりＰＳＧ層３に含まれる金属不純物を除去する。 - 特許庁

An SiN film (a first material layer) 102 is formed on a surface of each of the element substrate 1 and PSG film 101.例文帳に追加

そして、素子基板1およびＰＳＧ膜101の表面にＳｉＮ膜（第１の材料層）102を形成する。 - 特許庁

To provide a device and a method for forming an insulating layer such as PSG.例文帳に追加

ＰＳＧのような絶縁層を形成するための装置および方法を提供する。 - 特許庁

Then, a PSG film 112 is formed in the chip and scribe regions 121 and 124.例文帳に追加

次いで、チップ領域１２１及びスクライブ領域１２４にＰＳＧ膜１１２を形成する。 - 特許庁

Then, a PSG film 35 is stacked and formed on the surfaces of an oxide film 22 and the electrode 34 at a predetermined second temperature T2 for stacking, and annealing the PSG film 35.例文帳に追加

次にＰＳＧ膜３５がアニーリングされかつ堆積される予め定める第２の温度Ｔ２において、酸化膜２２の表面と電極部３４の表面とにＰＳＧ膜３５を堆積して形成する。 - 特許庁

Since the PSG film and the BSG film are higher in etching rate than the surface and the rear insulating films of the front and the rear surfaces, the films of PSG and BSG can be removed by only wet etching without using a further photoetching process, and contact holes for electrodes can be formed.例文帳に追加

ＰＳＧ，ＢＳＧ膜は，表面，裏面絶縁膜よりエッチング速度が速いので，更なる写真エッチング工程を用いずに，湿式エッチングのみで，ＰＳＧ，ＢＳＧ膜部を除去でき，電極用の接触孔を形成できる。 - 特許庁

Silicon nitride and PSG films 22a and 22b are successively laminated as the cover insulating film 22, and the TiNiAg film 23 is formed on the source electrode 20 via the opening of the silicon nitride and PSG films 22a and 22b.例文帳に追加

カバー絶縁膜２２として、シリコン窒化膜２２ａとＰＳＧ膜２２ｂが順に積層され、シリコン窒化膜２２ａおよびＰＳＧ膜２２ｂの開口を介してソース電極２０上にＴｉＮｉＡｇ膜２３が形成されている。 - 特許庁