repetitive manufacturingとは 意味・読み方・使い方

To provide a thinly-built stacked chip package, in which required semiconductor chips can be stacked, and for which repetitive processes in manufacturing can be minimized and failures in the manufacturing process can be reduced.例文帳に追加

所望する半導体チップを積層することができ、反復工程を最小化し、製造工程における不良を低減し、且つ薄型化した積層チップパッケージを提供することにある。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an electrophotographic photoreceptor having satisfactory properties in repetitive use, to provide the electrophotographic photoreceptor manufactured by the manufacturing method and to provide a process cartridge and an electrophotographic device having the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

繰り返し使用において良好な特性をもつ電子写真感光体の製造方法、該製造方法により製造された電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。 - 特許庁

To provide a negative electrode for a lithium secondary battery having large capacity and a superior repetitive characteristic, and to provide a lithium secondary using it and their manufacturing method.例文帳に追加

本発明の課題は、大きな容量を持ち、優れた繰り返し特性を有するリチウム２次電池用の負極とこれを用いたリチウム２次電池、及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To bury trenches formed in a semiconductor layer in manufacturing a semiconductor element having a repetitive p-n junction structure with epitaxial layers having no void nor crystal defect, but having uniform impurity concentration profiles in the depthwise direction.例文帳に追加

繰り返しｐｎ接合構造を有する半導体素子を製造する際に、半導体層に形成したトレンチを、空隙や結晶欠陥がなく、深さ方向に均一な不純物濃度プロファイルを有するエピタキシャル層で埋めること。 - 特許庁

To provide an easy-to-handle magnetostrictive member and its manufacturing method which is capable of restraining a crack from occurring by repetitive torque and gaining good magnetostrictive characteristics.例文帳に追加

繰返しトルクによる割れを抑制でき、良好な磁歪特性を得ることができ、かつ取扱いも容易な磁歪部材およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electric double-layer capacitor of high capacity that can suppress electrode expansion during usage and has decay resistance against repetitive charging and discharging and its manufacturing method.例文帳に追加

高容量であって、使用時の電極の膨張を抑制可能ならしめ、このため繰り返しの充放電に対する耐久性に優れた電気二重層キャパシタ及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a photomask with which fine repetitive patterns and a thick pattern can precisely be both formed and a manufacturing method of the electronic device using the same, and an electronic device.例文帳に追加

微細な繰り返しパターンと太いパターンとの双方を精度良く形成することができるフォトマスクおよびそれを用いた電子デバイスの製造方法、ならびに電子デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a negative electrode material for lithium secondary battery and its manufacturing method, assuring a small initial irreversible capacity, a large charge and discharge capacity, and excellent in the repetitive cyclic characteristics.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、初期不可逆容量が小さく、且つ充放電容量が大きく、また繰り返しサイクル特性に優れた、リチウム二次電池用負極材、及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁