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うぬまはばちょう7ちょうめの英語
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「うぬまはばちょう7ちょうめ」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 54件
GaN基板10は、波長が380nmの光および波長が1500nmの光に関する吸収係数が7cm^-1以上であり、少なくとも波長が500nm以上780nm以下の光に関する吸収係数が7cm^-1未満であり、比抵抗が0.02Ωcm以下である。例文帳に追加
The GaN substrate 10 has an absorption coefficient not lower than 7 cm^-1 for light having a wavelength of 380 nm and light having a wavelength of 1,500 nm, an absorption coefficient lower than 7 cm^-1 for at least light having a wavelength not shorter than 500 nm and not longer than 780 nm, and specific resistance not higher than 0.02 Ω×cm. - 特許庁
そして、この絶縁膜マスク8の開口部9から露出するn型GaN層7から、III族窒化物半導体からなるn型GaN層3、p型GaN層4およびn型GaN層5が、この順に成長させられてnpn構造からなるメサ状積層部15が形成される。例文帳に追加
Then, an n-type GaN layer 3 made of group III nitride semiconductor, a p-type GaN layer 4 and an n-type GaN layer 5 are grown in this order from the n-type GaN layer 7 exposed from the opening 9 of the insulation film mask 8, forming a mesa lamination part 15 with npn structure. - 特許庁
基板1面上に、n型InPクラッド層3、導波路層4、InPカバー層5からなる導波路メサを形成した後、導波路メサの直上部のみに成長阻止マスク6を形成し、p型InP電流ブロック層7、n型InP電流ブロック層8を形成する(a)。例文帳に追加
In the manufacturing method of a semiconductor laser, a waveguide mesa composed of an n-type InP clad layer 3, a waveguide layer 4, and an InP cover layer 5 is formed on a substrate 1, a growth inhibiting mask 6 is formed only directly above the waveguide mesa, and a n-type InP current block layer 7, and an n-type InP current block layer 8 are formed (a). - 特許庁
窒化物化合物半導体積層構造部2には、断面V字形のトレンチ16が形成されており、このトレンチ16の側壁は、超格子N型層5、P型GaN層6および超格子N型層7に跨る壁面17を形成している。例文帳に追加
A trench 16 having a V-shaped section is formed at the nitride compound semiconductor lamination structure section 2, and the sidewall of the trench 16 forms a wall surface 17 spread over the superlattice n-type layer 5, the p-type GaN layer 6, and the superlattice n-type layer 7. - 特許庁
p型半導体多層膜反射鏡7の最表面は、例えばDMZn(ジメチル亜鉛)をドーパントとして用い、Znを1.0E19cm^-3ドープして成長したGaAs層からなっている。例文帳に追加
An outermost surface of a p-type semiconductor multilayer film reflecting mirror 7 consists of a GaAs layer that grows after doped with Zn by 1.0 E 10 cm^-3 with the use of, for example, DMZn (dimethyl zinc) as a dopant. - 特許庁
人体の頭部または顔面の皮膚にパルス状静電場を印加するための複数の電極3,4,5,6,7と、かつ人体の頭部または顔面の皮膚に中心波長が630nmから700nmの波長範囲の光を照射するための複数のLED9とを備えてなることを特徴としている。例文帳に追加
The device comprises a plurality of electrodes 3, 4, 5, 6 and 7 for applying a pulsed electrostatic field to a skin of a head or a face in a human body, and a plurality of LEDs 9 for emitting a light with a center wavelength of 630 to 700 nm to the skin of the head or the face in the human body. - 特許庁
バリア層7およびハンダ層8、9からなる電極配線部の径が140μm以下の場合、アンダーバリアメタル膜5の表面反射率が波長800nmにおいて30%以上になるようにする。例文帳に追加
When an electrode wiring portion including a barrier layer 7 and solder layers 8 and 9 is 140 μm or less in diameter, a surface reflectance of an under barrier metal film 5 is 30% or more at a wavelength of 800 nm. - 特許庁
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「うぬまはばちょう7ちょうめ」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 54件
温度特性調整機構40により、サファイア基板7の対向面の反応炉壁面を500〜700K(より望ましくは550〜650K)に制御すると基板上流からの距離に対するGaN成長レートの特性が最も線形に近く基板面内均一性を保つことができる。例文帳に追加
When the wall surface of a reactor facing a sapphire substrate 7 is controlled to a temperature of 500-700K (more preferably, 550-650K) by a temperature characteristics adjustment mechanism 40, characteristics of GaN growth rate for the distance from the upstream of a substrate is the closest to linearity, and in-plane uniformity of a substrate can be maintained. - 特許庁
流量調整板7の引き抜き枚数を増減させれば、ホッパ2の排出口2aの開口面積を任意に変更して流量を調整しうるため、搬送対象物をその流動性の良否にかかわらず適正な速度で搬送できる。例文帳に追加
Since the flow rate can be adjusted by arbitrarily changing the opening area of the discharge port 2a of the hopper 2 if the extraction number of the flow rate adjustment plates 7 is controlled, and the objects can be conveyed at an adequate speed irrespective of acceptance/rejection of fluidity thereof. - 特許庁
上記目的を達成するために、本発明のディスプロジウムホウ炭化窒化物は、一般式がDyB_27+XC_6+YN_2+Z(−7<X<7,−4<Y<4,−2<Z<2)で示され、三斜晶系または菱面体系であることを特徴とする構成を採用した。例文帳に追加
A disprosium boron carbonitride whose general formula is shown as DyB_27+XC_6+YN_2+Z (wherein, -7<X<7, -4<Y<4 and -2<Z<2) is constituted of triclinic system or rhombohedron system. - 特許庁
表面安定化膜7は、SiCと同程度の線膨張係数を有するSiO_2−B_2O_3−ZnOからなる亜鉛系ガラスで構成され、例えば1.5μm以上の厚い膜厚を有している。例文帳に追加
The surface stabilizing film 7 is composed of zinc based glass made of SiO_2-B_2O_3-ZnO having a linear expansion factor at the same level as SiC and, for example, has a thick film thickness of ≥ 1.5 μm. - 特許庁
本発明に係る半導体装置は、n型シリコン基板1と、n型シリコン層2と、Beドープシリコンゲルマニウム層3およびi型シリコン層4を積層したシリコン/シリコンゲルマニウム超格子層5と、p型シリコン層6と、p側電極7と、n側電極8とを備える。例文帳に追加
The semiconductor device is provided with an n-type silicon substrate 1, an n-type silicon layer 2, a silicon/germanium superlattice layer 5 where Be doped silicon germanium layers 3 and i-type silicon layers 4 are laminated, a p-type silicon layer 6, a p-side electrode 7, and an n-side electrode 8. - 特許庁
この脚3は調湿ボックスよりなるものであり、直方体形状の箱体4と、この箱体4の1対の側面に設けられた開口5と、該箱体4内に配置された複数枚の板状調湿材6と、開口5に設けられた不織布7とを備えてなる。例文帳に追加
These legs 3 are composed of humidity control boxes, and comprise a rectangular solid-shaped box body 4, openings 5 arranged on a pair of side surfaces of this box body 4, a plurality of plate-shaped humidity control materials 6 arranged in the box body 4, and nonwoven fabrics 7 arranged in the openings 5. - 特許庁
窒化物半導体基板1は、下地層4上に成長し、厚み方向に沿った断面が略三角形状であって、かつ周期的なストライプ状をなし、ストライプの斜面61上に凹凸面62を設けられたGaN系半導体層6と、GaN系半導体層6上に形成されたAlGaN又はInAlGaNからなる埋め込み層7とを備える。例文帳に追加
The nitride semiconductor substrate 1 comprises: a GaN-based semiconductor layer 6 which is grown on a base layer 4, whose cross section along the thickness direction is roughly triangular and forms a cyclic stripe shape, and for which recessed and projected surfaces 62 are provided on striped slopes 61; and an embedded layer 7 formed on the GaN-based semiconductor layer 6 and composed of AlGaN or InAlGaN. - 特許庁
平均長軸長が20〜200nmの範囲内にある針状の酸化鉄粒子からなる粉末であって,BET法による比表面積が30〜100m^2/gで粉体pHが7以下である塗布型磁気記録媒体の下層用粉末である。例文帳に追加
This powder is composed of acicular iron oxide particles, the average long axial length of which is within a range of 20-200 nm, and is powder for a lower layer of a coating type magnetic recording medium, wherein a specific surface area by a BET is 30-100 m^2/g and powder is ≤pH 7. - 特許庁
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