うろこの配置の英語

１の絶縁層の上に配線層を形成するのに先立って、当該１の絶縁層の直下の配線層における配線路の配置位置及びビアの配置位置に応じた弱露光部及び強露光部を有するマスクを介して当該１の絶縁層を露光する。例文帳に追加

Before a wiring layer is formed on a first insulating layer, the first insulating layer is exposed through a mask having a weak exposure part and strong exposure part depending on an arrangement position of a wiring path and arrangement position of a via in the wiring layer beneath the first insulating layer. - 特許庁

半導体集積回路を構成する高密度に配置されたパターンを、位相シフタＳを配置することができるように第１のマスクパターンおよび第２のマスクパターン２８Ｂに分割し、それを多重露光することで半導体基板上に所定のパターンを転写するようにした。例文帳に追加

The patterns which constitute semiconductor integrated circuits and are arranged to high density are divided to first mask patterns and second mask patterns 28B in such a manner that phase shifters are arranged and are subjected to multiple exposure, by which the prescribed patterns are transferred onto a semiconductor substrate. - 特許庁

ディジタル面露光を行う露光装置において、３つのＬＥＤ１３ａ、１３ｂ、１３ｃの近傍にヒータ１６ａおよびペルチェ素子１６ｂを配置するとともに、ＬＣＤ１４ａの近傍にヒータ１７ａおよびペルチェ素子１７ｂを配置する。例文帳に追加

A heater 16a and a Peltier element 16b are arranged near three LEDs 13a, 13b and 13c of the exposure device for executing digital surface exposure and a heater 17a and a Peltier element 17b are arranged near an LCD 14a. - 特許庁

露光データ生成方法は、設計規則で定められるパターンサイズ及びパターン間距離を満たすようにパターンをブロックの内部に配置し、該ブロックを搭載したブロックマスク製造用露光データを生成し、該ブロックの該パターンサイズ及び該パターン間距離を満たすパターン配置を半導体集積回路のレイアウトデータから抽出してウエハ製造用露光データを生成する各段階を含む。例文帳に追加

The exposure data forming method comprises steps of arranging patterns inside a block so as to satisfy a pattern size and an inter-pattern distance determined by a design rule, of forming data for manufacturing a block mask mounted with the block, and of extracting a pattern layout satisfying the pattern size and inter-pattern distance of the block from layout data concerning semiconductor integrated circuits to form wafer manufacturing exposure data. - 特許庁

マトリクス状に配置された多数の変調素子を持つ露光ユニットを用いて、パターンデータの画素サイズがどのような大きさのものであってもそのパターンデータに基づいて所定のパターンを適正に多重露光により描画する。例文帳に追加

To adequately form prescribed patterns by multiple exposure in accordance with pattern data even if the pixel sizes of the pattern data are any sizes by using exposure units having a multiplicity of modulating elements arrayed in a matrix form. - 特許庁

露光すべきパターンの配置面を、ブロックパターン露光ショットより小さいメッシュに分割し、メッシュのうちブロックショットで露光強度が不足するものの各々に対して補助露光を行う。例文帳に追加

The plane, on which the pattern to be exposed is arranged, is divided into meshes which are smaller than a block pattern exposure shot, and those among the meshes to which exposure intensities are insufficient applied are respectively conduct supplementary exposure. - 特許庁

複数の気筒が直列に配置される車載用直列エンジンにおいて、特に吸気ポートと排気ポートとの間の壁部に関する冷却効率を高めることが可能なシリンダヘッドの冷却水通路構造を提供する。例文帳に追加

To provide a cooling water passage structure for a cylinder head, capable of improving the cooling efficiency of an on-vehicle engine with a plurality of cylinders arranged in series at a wall portion between a suction port and an exhaust port. - 特許庁

ネガ型レジストの場合には、マスクの透過性が低い領域は、レジストの、大きなパターンの領域を形成するために低露光又は最小露光が意図される領域上に配置される。例文帳に追加

In a negative resist, a region having the low transmissivity of the mask is arranged on the region of the resist aimed at small exposure or the minimal exposure to form a large-pattern region. - 特許庁