ふぉんたんしゅじゅつの英語

高分子量多量体の割合が高いＶＷＦを含有する血漿タンパク質濃縮物の使用は、出血性素質を抑制し、ならびに、外科的処置、特に体外循環、を必要としている、後天性フォン・ウィルブランド症候群、好ましくは心血管系疾患、における、手術前、手術中および手術後の失血を減少する。例文帳に追加

The use of the plasma protein concentrate containing VWF having the high ratio of the high-molecular-weight polymer controls a hemorrhagic character and reduces loss of blood before, during and after operation in acquired Von Willebrand syndrome (VWS), preferably cardiovascular system disease, in surgical procedure, especially requiring extracorporeal circulation. - 特許庁

ユビキタス環境に種々の形式で埋め込まれたサプライ側メタデータとユーザ側メタデータとを簡単な操作で編集統合し、オープンプラットフォームにおける種々のトランザクションを実現する。例文帳に追加

To achieve various transactions in an open platform by compiling and integrating, by a simple operation, supply side meta data with user side meta data embedded in an ubiquitous environment in various formats. - 特許庁

多数のファイルやフォルダが階層的に管理されている場合において、ファイルを探索する作業の経過を記録しておき、後にファイル探索を行うときにこれを利用して種々の作業を効率化する。例文帳に追加

To make various operations efficient by recording the processes of an operation for searching a file and subsequently utilizing the processes in the case of performing file search in the case where many files and folders are managed hierarchically. - 特許庁

フォトレジスト残渣等を低温でかつ短時間で容易に剥離でき、且つ、種々の材料の無機質基体を全く腐食せずに微細加工が可能であり、高精度の回路配線を製造できるフォトレジスト剥離剤組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a photoresist remover composition capable of easily removing photoresist residue, etc., at a low temperature in a short time, capable of microfabrication without corroding inorganic substrates of various materials and capable of producing high-precision circuit wiring. - 特許庁

残存するフォトレジスト残査物等を低温でかつ短時間で容易に剥離でき、その際種々の材料を全く腐食せずに微細加工が可能であり、高精度の回路配線を製造できるアミン化合物を提供すること。例文帳に追加

To obtain an amine compound which makes left photoresist residues, and the like, be easily peeled at a low temperature and in a short time, can finely fabricate various materials without corroding the materials, and can produce highly accurate circuit wirings. - 特許庁

基板上に塗布されたフォトレジスト膜、または基板に塗布されたフォトレジスト膜をエッチング後に残存するフォトレジスト層、あるいはフォトレジスト層をエッチング後にアッシングを行い残存するフォトレジスト残査物等を短時間で容易に剥離でき、その際種々の材料を腐食せず、特にシリコンを腐蝕しにくい高精度の回路配線を製造できるフォトレジスト剥離液組成物を提供することである。例文帳に追加

To provide a photoresist release liquid composition for easily releasing a photoresist film applied on a substrate, a photoresist layer remaining after etching the photoresist film applied to the substrate, a photoresist residue remaining after ashing subsequent to the etching of the photoresist layer or the like in a short period of time, not corroding various materials, in particular scarcely corroding silicon and manufacturing highly accurate circuit wiring. - 特許庁

基板上に塗布されたフォトレジスト膜、または基板上に塗布されたフォトレジスト膜をエッチング後に残存するフォトレジスト層、あるいはフォトレジスト層をエッチング後にアッシングを行い残存するフォトレジスト残査物等を低温でかつ短時間で容易に剥離でき、その際種々の材料を全く腐食せずに微細加工が可能であり、高精度の回路配線を製造できるフォトレジスト剥離剤を提供すること。例文帳に追加

To provide a resist stripper which can rapidly and easily strip a photoresist membrane applied on a substrate, a photoresist layer remaining after etching of the photoresist membrane applied on the substrate or the photoresist residues etc., remaining by performing ashing after etching of the photoresist film at a low temperature, permits microfabrication of various kinds of the materials and permits manufacturing of circuit wiring of high accuracy. - 特許庁

基板上に塗布されたフォトレジスト膜、または基板上に塗布されたフォトレジスト膜をエッチング後に残存するフォトレジスト層、あるいはフォトレジスト層をエッチング後にアッシングを行い残存するフォトレジスト残査物等を低温でかつ短時間で容易に剥離でき、その際種々の材料を全く腐食せずに微細加工が可能であり、高精度の回路配線を製造できるフォトレジスト剥離剤を提供すること。例文帳に追加

To provide a removing agent for photoresist with which a photoresist film applied on a substrate, a photoresist layer remaining after etching the photoresist film applied on a substrate, or a photoresist residue remaining after etching and ashing the photoresist layer can be easily removed at a low temperature in a short time while various kinds of materials can be microprocessed without corroding at all, and a circuit wiring pattern with high accuracy can be manufactured. - 特許庁