イオンビーム特性の英語

集束イオンビーム装置を用いて比較的容易に超伝導特性が得られる膜超電導膜（超電導体）の成膜を可能にする。例文帳に追加

To deposit a super-conductive film (a super-conductor) for obtaining super-conductive characteristic in a relatively easy manner by using a focused ion beam (FIB) apparatus. - 特許庁

この二つのガスを基板表面に同時に供給しながらイオンビームを走査照射して超伝導特性がえられる超伝導膜を成膜する（ＳＣ，Ｐ）。例文帳に追加

A superconducting film having superconducting characteristic is deposited by scanning ion beams and irradiating the substrate surface with the ion beams while simultaneously feeding these two gases onto the substrate surface. - 特許庁

共通処理チャンバー内に配置された共通線量測定装置は、複数のイオンビームラインのそれぞれの１以上の特性を測定するように動作可能である。例文帳に追加

A common dose measuring apparatus arranged within the common processing chamber can be operated to measure one or more characteristics in each of multiple ion beam lines. - 特許庁

幅の広い磁気ヘッドのギャップ部に収束イオンビーム加工により溝を形成する際に、記録特性を確保しつつ、材料を除去する量を最小化し、加工コストの低減を図る。例文帳に追加

To reduce a process cost by minimizing an quantity of eliminated materials while securing a recording property when a groove is formed at a gap part of a magnetic head having wide width by a convergence ion beam process. - 特許庁

輸送途中のイオンビームの質を調査、評価でき、製品特性の微妙な変化を抑えるイオン注入装置及び半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of an ion implanting device and a semiconductor device in which the quality of ion beam on the way of transportation can be investigated and evaluated and a delicate change of the product property can be suppressed. - 特許庁

バッチ式イオン注入処理において、イオンビームのビーム電流に周期変動が存在する場合にもドーズ量の均一性を向上させ、それを用いて製造される半導体装置の特性を均一化する。例文帳に追加

To improve uniformity of a dose even when a beam current of an ion beam has periodic variation during batch type ion implantation processing, and to make uniform characteristics of a semiconductor device manufactured using the same. - 特許庁

次に、形成した微小構造体を加熱して微小構造体より集束イオンビームのイオンを除去して微小構造体にピエゾ抵抗特性を発現させる（ステップＳ１０２）。例文帳に追加

Then, the formed microstructure is heated to remove ions of the focused ion beams from the microstructure to make the microstructure exhibit the piezoresistance characteristics (step S102). - 特許庁

基板の形状および温度特性に関わらず、硬質の結晶質薄膜を高速で作製でき、膜の表面粗さが制御可能な、イオンビームを用いた新規な硬質薄膜作製法を提供する。例文帳に追加

To provide a hard thin film forming method using ion beam which is capable of forming a hard crystalline thin film at high speed irrespective of the shape and the temperature characteristic of a substrate, and controlling the surface roughness of the film. - 特許庁