イオン消失の英語

ＣＩＤガス導入直後は、多少高いＣＩＤ電圧を印加しても、高濃度に存在するＣＩＤガスとの衝突の影響により、親イオンはすぐにクーリングされ、イオントラップ内から消失する確率は大幅に低減される。例文帳に追加

Immediately after introduction of the CID gas, even if a slightly high CID voltage is applied, because of effect of collision with the CID gas existing in a high concentration, the parent ions are cooled immediately, and probability of disappearance from an interior of the ion trap is greatly reduced. - 特許庁

ガス吸着材、反応触媒、防錆材等として有用な金属イオンを坦持した粉末であり、活性炭のように黒色に限定されず、また水洗等により容易に活性成分である金属イオンが消失しない機能性材料を得る。例文帳に追加

To obtain a functional material which is a metal-ion-carrying powder useful as a gas adsorbent, a reaction catalyst, a rust-preventive material, or the like and, unlike active carbon, is not inevitably black, and barely loses its metal ions as an active component by e.g. washing with water. - 特許庁

シリコン基板（２０）の表面に、シリコンよりもエッチング速度の遅い材料を用いて、２次元配列状にマスク（１０）を設け、マスクが消失するまで反応性イオンエッチングを行う。例文帳に追加

Masks 10 are provided in a two-dimensional array to the surface of a silicon substrate 20 by using a material having an etching rate lower than that of silicon, and reactive ion etching is carried out until the masks disappear. - 特許庁

及び、光照射によって陰イオン交換性基を発生或いは消失する感光性基と架橋性基含有ポリマーを有する複合部材形成用感光性組成物。例文帳に追加

The photosensitive composition for forming the compound member has a photosensitive group which generates or disappears an anion exchangeable group by an irradiation of light, and a polymer having a cross-linking group. - 特許庁

イオン化された空気を微多孔性隔膜（１６）を介してホッパー内の粉体に一様に吹き込むと、粉体の表面電荷が消失し、粉体が除電される。例文帳に追加

The ionized air is evenly blown to the powder in the hopper through the fine porous film 16 to remove electrical charge on the surface of the powder and eliminate static on the powder. - 特許庁

全体に低照射強度の光を照射して金属イオンをコロイド状態で析出させ、次いで高照射強度の光を局所的に所望周期で照射し析出を消失させる。例文帳に追加

The entire part is irradiated with the light of low-irradiation intensity to deposite the metal ions in the colloidal state and is then locally irradiated with the light of high-irradiation intensity at a desired period to eliminate the deposition. - 特許庁

その後に、ＣＦ_4とＯ_2との混合ガスをエッチングガスとして頂角の２等分線と同じ方向からイオンビームを照射する第２のエッチング工程により、レジストが完全に消失して若干オーバエッチングとなるまで基板１０を削る。例文帳に追加

Further, the substrate 10 is etched into a slightly over-etched state wherein the resist is completely removed through a 2nd etching stage of irradiating them with an ion beam in the same direction with the bisector of the vertical angle while using mixed gas of CF_4 and O_2 as etching gas. - 特許庁

本発明の透明導電性膜の表面処理方法は、透明導電性膜にプラズマ中のイオンを照射した後、輝度消失のしきい値エネルギー以上の電子線を選択的に照射することにより、透明導電性膜の電荷注入効率を選択的に変化させ、もって所望の発光パターンを付与することを特徴とする。例文帳に追加

The surface treatment method for the transparent conductive film comprises selectively changing the charge injection efficiency of the transparent conductive film by irradiating the transparent conductive film with ions in a plasma and then selectively irradiating it with electron beams having energy of a threshold value or larger for luminance disappearance, and, in turn, granting the desired luminescent pattern thereto. - 特許庁