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予備熱処理の英語
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英訳・英語 thermal pretreatment
「予備熱処理」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 99件
加熱処理容器で予備加熱する際、同時に予備脱臭をおこなってもよい。例文帳に追加
In preheating with the heat treatment vessel, preliminary deodorization may be performed simultaneously. - 特許庁
予備熱処理温度は、歪取り熱処理温度と同じか、それより１００℃低い温度までの範囲で行うと良い。例文帳に追加
The preparatory heat treatment temperature is preferably the same to a straightening heat treatment temperature or in a range from it to a temperature of 100°C lower than it. - 特許庁
塗布後、予備成形体３２を熱処理すれば、前記金属の炭化物が形成される。例文帳に追加
When the preform 32 is heat-treated after the coating, a carbide of the metal is formed. - 特許庁
また、帯状電極材２０は、塗布層を予め加熱する予備加熱処理と、予備加熱処理で予め加熱された帯状電極材２０の塗布層を転圧ローラ１３，１４で加熱しつつ加圧する加圧処理とが行われる。例文帳に追加
The belt-like electrode material 20 is subjected to a preliminary heating treatment preheating the coating layer and a pressuring treatment pressuring while heating, by the rolling compaction rollers 13, 14, the coating layer of the belt-like electrode material 20 preheated by the preliminary heating treatment. - 特許庁
アルミニウム合金を鋳造して得られたアルミニウム合金鋳造物に対して所定温度で熱処理する本時効処理を行う前に、この本時効処理の加熱温度よりも低い温度で熱処理する予備時効処理を行う。例文帳に追加
Prior to a main aging for performing thermal treatment at a prescribed temperature for the aluminum alloy casting obtained by casting aluminum alloy, a preliminary aging for performing thermal treatment at a temperature lower than the heating temperature upon the main aging is performed. - 特許庁
保持部２に保持された基板Ｗに向けて、複数のハロゲンランプ３１から光を照射して予備加熱処理を行い、複数のフラッシュランプ４１から閃光を照射してフラッシュ加熱処理を行う。例文帳に追加
Light from a plurality of halogen lamps 31 is radiated toward a substrate W held by a holding part 2 to perform preliminary heating treatment, and flashing light from a plurality of flashing lamps 41 is radiated to perform flash heating treatment. - 特許庁
保持部２に保持された基板Ｗに向けて、第１光照射部３から光を照射して予備加熱処理を行い、第２光照射部４から閃光を照射してフラッシュ加熱処理を行う。例文帳に追加
Toward the substrate W held by a holding section 2, light is radiated from a first photoirradiation section 3 to perform preheating treatment, and a flash is irradiated from a second photoirradiation section 4 to perform flash heating treatment. - 特許庁
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「予備熱処理」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 99件
保持部２に保持された基板Ｗに向けて、ハロゲンランプ３１から光を照射して予備加熱処理を行い、フラッシュランプ４１から閃光を照射してフラッシュ加熱処理を行う。例文帳に追加
Light is radiated to a substrate W held by a holding part 2 from a halogen lamp 31 to perform preliminary heating treatment, and flashing light is radiated from a flash lamp 41 to perform flash heating treatment. - 特許庁
汚染土壌を加熱浄化処理する加熱処理キルン１の排ガス下流に、該加熱処理キルン１から排出される排ガスの保有熱によって浄化前の土壌を加熱する予備加熱キルン１２を備える。例文帳に追加
A preheating kiln 12 which heats the contaminated soil before purification with the heat of exhaust gas discharged from a heat-treating kiln 1 for heating and purifying the contaminated soil is provided on the downstream side of the exhaust gas of the heat-treating kiln 1. - 特許庁
半導体ウエハーＷに対して熱処理を行う際には、半導体ウエハーＷが加熱状態にある熱拡散板７３と接触することにより予備加熱されるとともに、熱処理室６５内が減圧される。例文帳に追加
When the semiconductor wafer W is heat-treated, the semiconductor wader W is made to come into contact with the thermal diffusion plate 73 in a heating state and thus preheated, and pressure inside a heat treatment chamber 65 is reduced. - 特許庁
レトルト殺菌機の加熱処理温度を１２５℃から１４０℃の範囲とし、予備加熱温度から加熱処理温度までの平均昇温速度を６℃／分から１０℃／分とする容器詰コーヒー飲料の製造方法。例文帳に追加
The method for producing a packaged coffee beverage comprises setting a heating temperature of a retort sterilization machine to be at 125-140 °C, and an average warm-up rate ranging from a preheating temperature to the heating temperature to be at 6-10 °C/min. - 特許庁
保持部２に保持された基板Ｗに向けて、第１光照射部３から光を照射して予備加熱処理を行い、第２光照射部４から閃光を照射してフラッシュ加熱処理を行う。例文帳に追加
Light is radiated to a substrate W held by a holding part 2 from a first light irradiating part 3 to perform preliminary heating treatment, and flashing light is radiated from a second light irradiating part 4 to perform flash heating treatment. - 特許庁
保持部２に保持された基板Ｗに向けて、第１光照射部３から光を照射して予備加熱処理を行い、第２光照射部４から閃光を照射してフラッシュ加熱処理を行う。例文帳に追加
A light is directed from a first light irradiation part 3 to a substrate W held onto a holding part 2, so as to apply primary heat treatment, and a flash light is given from a second light irradiation part 4 thereto for flash heating. - 特許庁
予備加熱されたガラス基板Ｗは、キセノンフラッシュランプ８１の閃光照射により熱処理される。例文帳に追加
The preheated glass substrate W is heat- treated by the flash irradiation of a xenon flash lamp 81. - 特許庁
予備加熱されたガラス基板Ｗは、キセノンフラッシュランプ６９の閃光照射により熱処理される。例文帳に追加
The preheated glass substrate W is heat-treated with the radiation of the flash of a xenon flash lamp 69. - 特許庁
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