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機械工学英和和英辞典での「定位系」の英訳

定位系


「定位系」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 108



例文

定位系プラント用サーボ装置例文帳に追加

SERVO DEVICE FOR ASTATIC SYSTEM PLANT - 特許庁

投影面SをXYZ三次元座標の所定位置に配置する。例文帳に追加

The projection surface S is arranged at the predetermined position of an XYZ three-dimensional coordinate system. - 特許庁

定位置(P1)は光学の解像度が所定値よりも大きくなるズームレンズの位置である。例文帳に追加

The prescribed position (P1) is a position of the zoom lens where the resolution of the optical system becomes larger than a specified value. - 特許庁

光学を構成する部品を、ケース内の所定位置を基準として適切に配置する。例文帳に追加

To appropriately dispose a component constituting an optical system based on a predetermined position within a case. - 特許庁

レンズ3に入射された光はフィルム21上の所定位置に集められる。例文帳に追加

The light which is made incident on the lens system 3 is converged to a prescribed position on a film 21. - 特許庁

S3において、CPUは、管理部から自情報を受け取った後、S5において、当該自情報を、リレーの定位接点を介して他のCPUに送信する。例文帳に追加

A CPU receives the system information of its own system from a system management part in a step S3 and then transmits the system information of its own system to a CPU of the other system through a relay static contact in a step S5. - 特許庁

例文

レチクルが設定されるレチクル設定位置と感光性基板が設定される基板設定位置との間の所定位置に、投影に残存する収差を補正する補正部材(G1)を設定する。例文帳に追加

A correcting member G1 for correcting aberration retained in the system is set to a prescribed position between a reticle set position for setting the reticle and the substrate set position for setting the substrate. - 特許庁

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「定位系」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 108



例文

また、監視システムは、重なり合っている画像上の特定位置を指定する特定位置指定手段と、指定された特定位置を各カメラの座標においてカメラ制御に必要な座標位置に変換し、変換された座標位置を記憶装置に保存する特定位置保存手段とを備える。例文帳に追加

The monitoring system is also provided with a specific-position designating means which designates a specific position on the superimposed images, and a specific-position storage means that converts the designated specific position into a coordinate position required for camera control in a coordinate system of each camera so as to store the converted coordinate position in a storage device. - 特許庁

また、サラウンドソースのフロントをステレオ再生する際に、L,RとCの処理を変えてセンタ定位を改善する。例文帳に追加

In stereo reproducing a front system of a surround source, processing of L and R systems and of C are changed to improve the center normal position. - 特許庁

電気統と油圧統とのいずれの故障においても、吸気カムシャフトの安定位置は図7(A)に示した位置に統一されている。例文帳に追加

A stable position of an intake can shaft is unified in a position as shown by a drawing (A) even in any trouble of an electric system and hydraulic system. - 特許庁

竿素材Bの外周面の所定位置にゴム塗料製のゴム塗料塗装層Aを形成してある。例文帳に追加

The fishing rod has the coated layer A of the rubber-based coating material formed at a prescribed position on the outer periphery of a rod material B. - 特許庁

一方の撮影のフォーカスレンズは、合焦位置が無限遠のときに位置すべき第1の所定位置Aから合焦位置が至近距離のときに位置すべき第2の所定位置Bに向けてステップ駆動され、かつ他方の撮影のフォーカスレンズは、第2の所定位置Bから第1の所定位置Aに向けてステップ幅Lでステップ駆動される。例文帳に追加

The focusing lens of one photographing system is stepwise driven toward a second specified position B when the focus position is at a close range from a first specified position A at infinity, and the focusing lens of the other photographing system is driven with a step of width L toward the first specified position A from the second specified position B. - 特許庁

定位置Qにおける全体座標GCSからの外部パラメータを、サンプル点Piの局所座標LCSiの変換済み外部パラメータを使用することによって計算し、所定位置Qにおける計算済み表面法線Nと所定位置Qにおける計算済み外部パラメータを使用して、所定位置Qにおけるシェーディング又は照明を行う。例文帳に追加

The external parameters from the global coordinate system GCS at the given position Q is calculated by using the transformed external parameters of the local coordinate systems LCSi of the sample points Pi, and shading or illumination at the given position Q is then performed by using the calculated surface normal N at the given position Q and the calculated external parameters at the given position Q. - 特許庁

レンズアレイ移動機構が、第1のレンズアレイが所定位置に配置されてレーザビームが入射する第1の状態と、第2のレンズアレイが所定位置に配置されてレーザビームが入射する第2の状態とを切り換える。例文帳に追加

A lens array system moving mechanism switches a first state in which a first lens array system is arranged at a prescribed position for a laser beam to enter, and a second state in which a second lens array system is arranged at a prescribed position for a laser beam to enter. - 特許庁

例文

撮像光学に対応して、固体撮像装置のマイクロレンズのピッチを、中心から周辺の所定位置までの少なくとも一部は減少させ、所定位置を越える周辺部の少なくとも一部は所定位置でのピッチより増加させる、又は略同一とする。例文帳に追加

The pitch of micro lenses of the solid-state imaging apparatus corresponding to the imaging optical system is decreased at least partly from the center to a prescribed position of a peripheral part and the pitch of at least part of the peripheral part in excess of the prescribed position is selected increased more than that at the prescribed position or nearly the same as that at the prescribed position. - 特許庁

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