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研削割れの英語
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英訳・英語 grinding crack
「研削割れ」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 67件
研削面にムシレ及び割れを生じることなく硬質脆性材料を所望の厚みに研削可能な研削ホイールを提供することである。例文帳に追加
To provide a grinding wheel capable of grinding a hard and fragile material to a desired thickness without causing any gouging or cracking on the grinding surface. - 特許庁
研削面にムシレ及び割れを生じることなく硬質脆性材料を所望の厚みに研削可能な研削ホイールを提供することである。例文帳に追加
To provide a grinding wheel capable of grinding a hard brittle material into desired thickness without generating surface tearing-off and cracks on a grinding surface. - 特許庁
これにより、裏面研削でウェハが割れるのを防ぐことができる。例文帳に追加
Consequently, the wafer is prevented from cracking due to the rear-surface grinding. - 特許庁
半導体基板の裏面研削に際して、半導体基板の割れを招き易い研削刃の目詰りを容易に除去することができ、かつ生産性を向上させる裏面研削方法および裏面研削装置を提供すること。例文帳に追加
To provide a reverse side-grinding method for easily removing silting in a grinding blade that can easily crack a semiconductor substrate, and for improving productivity, when the reverse side of the semiconductor substrate is to be ground, and to provide a reverse side-grinding apparatus. - 特許庁
砒化ガリウム基板Wcを第1回転テーブル12にセットして研削回転体16の研削刃14で裏面研削し、研削刃14の目詰りが基板割れを招かない150枚を裏面研削した後に、研削回転体16を第2回転テーブル22へ移動させて、セットされているシリコンブロックSを例えば10秒間程度研削する。例文帳に追加
A gallium arsenide substrate Wc is set to a first rotary table 12 for reverse side grinding by the grinding blade 14 of a grinding rotor 16, and 150 substrates where substrate cracks, which are not caused by the silting in the grinding blade 14, are subjected to reverse side grinding. - 特許庁
したがって、ひびや割れあるいは研削歪などの欠陥を発生させることなく半導体ウエーハを研削して薄型化することができる。例文帳に追加
Therefore the semiconductor wafer can be ground and made thinner without producing defects like flaws and cracks or grinding distortion. - 特許庁
小さなフェライト材の研削において割れ欠けを抑制することができるセンタレス研削装置を提供する。例文帳に追加
To provide a centerless grinding device, capable of suppressing chipping in grinding of a small ferrite material. - 特許庁
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「研削割れ」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 67件
これにより、研削逃げ溝3fの底部も硬化されているので、アキシアル荷重を受けたときに研削逃げ溝3fから割れが発生しにくくなる。例文帳に追加
Whereby a bottom part of the grinding clearance groove 3f is hardened, and the cracking from the grinding clearance groove 3f is hardly generated when it receives the axial load. - 特許庁
砥石割れを生じることなく、加工部位へ確実に研削液を供給して、0.5ミリ程度以下の細溝研削を可能にし、砥石軸の剛性を確保することのできる研削装置を実現する。例文帳に追加
To provide a grinding device capable of grinding a small groove below 0.5 millimeter by supplying processing liquid to a portion to be machined without causing grinding wheel breaking, and securing the rigidity of a grinding wheel shaft. - 特許庁
片面研削装置で仕上研削を行う際に、仕上研削後にウェーハに残る条痕の向きを揃えることによって、チップが割れやすくなるような条痕をチップに残さないようにする。例文帳に追加
To leave no such streaks as to cause a chip to break easily, on the chip by uniforming the direction of streaks left on a wafer after finish-grinding when finish-grinding by a one-side grinding device. - 特許庁
片面研削装置で仕上研削を行う際に、仕上研削後にウェーハに形成される条痕やすじの向きを揃えることによって、割れやすい抗折強度の弱いチップをウェーハから作らないようにする。例文帳に追加
To avoid providing a chip which is fragile but has smaller bending- resistance from a wafer by aligning the direction of streaks left on the wafer after finishing at finishing with a single-surface cutting device. - 特許庁
ワーク研削時のワークの割れの発生を大幅に低減することができ、かつ、研削ホイールの着脱作業を簡便・能率的に行える半導体基板の研削装置を、簡単な構成で提供する。例文帳に追加
To provide a grinding device for a semiconductor substrate capable of reducing the occurrence of a crack of a workpiece greatly when grinding the workpiece and mounting and dismounting a grinding wheel simply and efficiently and having a simple configuration. - 特許庁
テープのり残査やウェハストレスを解消し、かつ裏面研削でウェハが割れるのを防ぐ。例文帳に追加
To eliminate tape paste residue and wafer stress and to prevent a wafer from cracking due to rear-surface grinding. - 特許庁
液晶パネル基板の欠け、割れ、および配向ムラを防止することが可能な研削装置を提供する。例文帳に追加
To provide a grinding device which preventing chipping, breaking and orientation nonuniformity of a liquid crystal panel substrate. - 特許庁
0.8mm以下の板厚の薄い冷延鋼帯の如き金属帯を研削した後であっても、次の冷間圧延工程において金属帯の幅方向端部の割れ、破断を防止可能な金属帯の研削装置及び研削方法を提供する。例文帳に追加
To provide a device and a method for grinding a metallic belt capable of preventing a crack and a rupture of an end part in the direction of width of the metallic belt in the next cold rolling process even after the metallic belt like a thin cold rolled steel belt having a thickness of 0.8 mm or less is ground. - 特許庁
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