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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 英和専門語辞典 > 許容マークの英語・英訳 

許容マークの英語

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英訳・英語 admissible mark


クロスランゲージ 37分野専門語辞書での「許容マーク」の英訳

許容マーク


「許容マーク」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 32



例文

プリント配線板に於けるソルダーレジスト及び/又はシンボルマークのズレ許容値に対する良否判定の精度向上。例文帳に追加

To improve precision of quality judgement to the deviation allowable value of solder resist and/or a symbol mark in a printed wiring board. - 特許庁

レジずれ検知用マーク58Aと用紙サイズ領域60との距離X1はレジずれを許容できる幅以下に設定されている。例文帳に追加

A distance X1 between the mark 58A and the area 60 is set to be equal to or under the width to which the misregistration can be allowed. - 特許庁

マークのついた線/面が、干渉計算の許容誤差よりも大きな誤差を含む場合に誤差が許容誤差以下になるように補正を行い、あるいは干渉の候補となる箇所に存在する線/面の長さまたは面積が許容誤差よりも小さい場合にその線/面を除去する(ステップS5)。例文帳に追加

When the marked line or plane has an error larger than the permissible error of interference calculation, the error is corrected to be below the permissible error or when the length or area of a line or plane present at a place as the candidate for interference is smaller than a permissible error, the line or plane is removed (S5). - 特許庁

許容される面取り量の上限を示す上限仮想線(a−a’)と許容される面取り量の下限を示す下限仮想線(b−b’)との間の基板2上の領域には、矩形状の上限マーク23が設けられている。例文帳に追加

The regions on the substrate 2 between an upper limit virtual line (a-a') indicating the upper limit of the permitted chamfering quantity and a lower limit virtual line (b-b') indicating the lower limit of the permitted chamfering quantity are provided with upper limit marks 23 of a rectangular shape. - 特許庁

マークは、ケーブルの長手方向に直線に施され、このマークの形状記憶プラスチックには、許容張力以下の張力メモリーで非直線形状例えば波模様を記憶させると良い。例文帳に追加

The mark is linearly put in the longitudinal direction of the cable, and a nonlinear shape, for example, a wavy pattern is preferably stored in the shape-memory plastic for the mark by means of tension memory equal to or below an allowable tension. - 特許庁

また、ランドマーク32は許容公差を平価するために平面光導波路素子30内に配列され、ランドマーク32の区別のために、数、または記号を表示することを特徴とする。例文帳に追加

Further, the landmarks 32 are arrayed in the planar optical waveguide element 30 so as to evaluate the permissible tolerance and numbers or symbols are displayed so as to distinguish the landmarks 32. - 特許庁

例文

本番パターンと重ね合わせ検査マークのパターンとが段差を有して形成される場合にも、許容測定誤差内で重ね合わせ測定が行える重ね合わせ検査マークを有する半導体装置を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device, equipped with an overlap inspection mark for operating overlap measurement within an allowable measurement error, even when a production pattern and an overlap inspection mark pattern are formed with differences in level. - 特許庁

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「許容マーク」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 32



例文

被写体ブレ量が閾値よりも大きく、かつ設定中のシャッタースピードが被写体ブレ量に応じた許容範囲を超えていれば、ブレ注意マークと共に許容範囲内の下限値のシャッタースピードを表示する(SA9〜SA11)。例文帳に追加

When the subject blurring amount is larger than a threshold and a shutter speed in setting exceeds tolerance corresponding to the subject blurring amount, a shutter speed of a lower limit value in the tolerance is displayed together with a blurring notice mark (SA9 to SA11). - 特許庁

また、載置部11上の1次側伝送コイル3に相当する位置に、該1次側伝送コイル3の中心に対応する許容範囲マーク16を含む鏡面部15を設けると共に、携帯電話機2の2次側伝送コイル6の中心に相当する位置に中心位置マーク20を設ける。例文帳に追加

At a position on the mounting portion 11 corresponding to a primary transmission coil 3, a mirror face portion 15 including a tolerance mark 16 corresponding to the center of the primary transmission coil 3 is provided, and a central position mark 20 is provided at a position corresponding to the center of the secondary transmission coil 6 of the portable telephone 2. - 特許庁

第1アライメントマーク11と第2アライメントマーク12とを、インターポーザ基板4aの上記対向面に対して垂直方向からみると、互いが、液晶ドライバ3とインターポーザ基板4aを貼り合せる際の貼り合わせ位置として許容できる範囲の距離ほど離間されている。例文帳に追加

The first alignment mark 11 and the second alignment mark 12 viewed from a direction vertical to the facing surface of the interposer substrate 4a are mutually separated at an allowable distance as a laminated position when the LCD driver 3 and the interposer substrate 4a are laminated. - 特許庁

変形成分及びショットオフセット成分を除外した基板のアライメントマークの位置を求め(ステップ306)、求めた位置が位置合わせ後のマスクのアライメントマークの位置から許容範囲内にあるか確認する(ステップ307)。例文帳に追加

The position of the alignment mark on the substrate excluding the deformation component and the shot offset component is obtained (step 306) to check whether or not the obtained position is within an allowable range from the position of the alignment mark on the mask after alignment (step 307). - 特許庁

第1アライメントマーク11と第2アライメントマーク12とを、インターポーザ基板4aの上記対向面に対して垂直方向からみると、互いが、液晶ドライバ3とインターポーザ基板4aを貼り合せる際の貼り合わせ位置として許容できる範囲の距離ほど離間されている。例文帳に追加

When viewing the first and second alignment marks 11 and 12 from a direction perpendicular to the opposed face of the interposer substrate 4a, each is separated by a distance which is within an allowable range as a lamination position when laminating the liquid crystal driver 3 and interposer substrate 4a. - 特許庁

前記トレイは、前記チャックピンのXYZθ方向への移動を許容する3以上のピン穴と、前記ウエハの位置決め用のアライメントマークと、前記トレイ自体を位置合わせするアライメント部とを備えた。例文帳に追加

The tray includes three or more pin holes for allowing movement of the chuck pin in the XYZθ directions, an alignment mark for positioning the wafer, and an alignment unit for positioning the tray itself. - 特許庁

設定ライン4aが延びる方向に対して略直交する方向における前記少なくとも2つのマーク6a,6d間の距離d1は前記スクライブラインの許容ずれ量と略等しい。例文帳に追加

The distance d1 between at least two marks 6a, 6d in the direction approximately orthogonal to the extended direction of the setting line 4a is approximately equal to the permissible deviation amount of the scribe line. - 特許庁

例文

許容できる初期整合を達成するとより高い整合精度が得られる、より狭い間隔で配置されてより分布が密な第2整合マーク(標準山形ターゲット34等)を像形成する。例文帳に追加

A second register mark (a standard angular target 34 or the like) by which higher registration accuracy can be obtained when allowable initial registration is attained and which is arranged at a narrower space and has denser distribution, is image-formed. - 特許庁

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「許容マーク」の英訳に関連した単語・英語表現
1
admissible mark 英和専門語辞典

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