Basic (film)とは 意味・読み方・使い方

In this case, the laser light has harmonics matched with a basic wave, thereby highly efficiently crystallizing the semiconductor film.例文帳に追加

なお、レーザ光は基本波と高調波を合わせることで効率よく半導体膜を結晶化できる。 - 特許庁

A pattern forming method forms a resist film 102 containing the quencher of a basic compound, on a substrate 101.例文帳に追加

基板１０１の上に、塩基性化合物であるクェンチャーを含むレジスト膜１０２を形成する。 - 特許庁

A tile basic member 7 is laminated on a rear surface of the base film 1 through an adhesive layer 6.例文帳に追加

ベースフィルム１裏面に接着剤層６を介してタイル基材７を積層する。 - 特許庁

The optical multilayered film filter 20 is produced by forming a basic multilayered film 22 having basic spectral transmittance characteristics which are identical characteristics for different requirements and a controlling multilayered film 23 deposited on a face different from the basic multilayered film 22 and compensating the basic spectral transmittance characteristics to obtain desired spectral transmittance characteristics suitable for each requirement.例文帳に追加

異なる要望に対しても同じ特性である基本分光透過率特性を有する基本多層膜２２と、基本多層膜２２とは異なる面に成膜され基本分光透過率特性を補正して各々の要望毎に適した所望分光透過率特性を得るための調整多層膜２３が形成されてなる光学多層膜フィルタ２０を形成する。 - 特許庁

After a mask insulation film 5 and a basic insulation film 4 having an opening 11 for forming element separation on a semiconductor layer 3 are formed, the basic insulation film 4a is retreated from the end of the mask insulation film 5 by etching to form a recess part 12 downward of the end of the mask insulation film 5.例文帳に追加

半導体層３上に素子分離を形成するための開口部１１を有するマスク絶縁膜５と下地絶縁膜４を形成した後、エッチングにより下地絶縁膜４ａをマスク絶縁膜５の端部から後退させてマスク絶縁膜５の端部下にくぼみ部１２を形成する。 - 特許庁

The photo-processing device is provided with a division processing part 211 for dividing a photographic film into groups of a predetermine number of frames, a basic exposure data calculation part 212 for calculating a basic exposure data of each piece of film, and a frame image correction part 213 for correcting each frame image based on the basic exposure data.例文帳に追加

写真フィルムを所定コマ数毎のグループに区分けする区分処理部２１１と、各グループに含まれるコマ画像を基に、ピースフィルム毎の基本露光データを算出する基本露光データ算出部２１２と、基本露光データを基に各コマ画像を補正するコマ画像補正部２１３とを備える。 - 特許庁

To form a resist pattern with high accuracy even on an underlayer film including a basic substance by controlling an oxygen deficiency/activity phenomenon at the interface between the underlayer film including a basic substance and a chemically amplified resist formed thereon.例文帳に追加

塩基性物質を含む下地膜とその上に形成される化学増幅型レジストとの界面における酸失活現象を抑制し、塩基性物質を含む下地膜上でも精度の高いレジストパターンを形成する。 - 特許庁

The master information carrier comprises a basic body 10, a ferromagnetic thin film 11 placed on the basic body 10 to form an arrangement pattern corresponding to a magnetization pattern, wherein the ferromagnetic thin film 11 has substantially flat surface.例文帳に追加

基体１０と、磁化パターンに対応する配列パターンを形成するように基体１０上に配置された強磁性薄膜１１とを備え、強磁性薄膜１１の表面が略平坦であることを特徴とする。 - 特許庁