「Basic (film)」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The conductive film carrier is fabricated by forming a conductive film 23 on the conductive oxide film 25 in the basic material 22.例文帳に追加

このような基材２２における導電性酸化物膜２５上に、導体膜２３を形成することによって、導体膜キャリア２１を実現する。 - 特許庁

MANUFACTURE OF DUAL-DAMASCENE WIRING OF FINE ELECTRONIC ELEMENT USING BASIC MATERIAL DIFFUSION BARRIER FILM例文帳に追加

塩基性物質拡散障壁膜を使用する微細電子素子のデュアルダマシン配線の製造方法 - 特許庁

In this case, the laser light has harmonics matched with a basic wave, thereby highly efficiently crystallizing the semiconductor film.例文帳に追加

なお、レーザ光は基本波と高調波を合わせることで効率よく半導体膜を結晶化できる。 - 特許庁

A pattern forming method forms a resist film 102 containing the quencher of a basic compound, on a substrate 101.例文帳に追加

基板１０１の上に、塩基性化合物であるクェンチャーを含むレジスト膜１０２を形成する。 - 特許庁

A tile basic member 7 is laminated on a rear surface of the base film 1 through an adhesive layer 6.例文帳に追加

ベースフィルム１裏面に接着剤層６を介してタイル基材７を積層する。 - 特許庁

The optical multilayered film filter 20 is produced by forming a basic multilayered film 22 having basic spectral transmittance characteristics which are identical characteristics for different requirements and a controlling multilayered film 23 deposited on a face different from the basic multilayered film 22 and compensating the basic spectral transmittance characteristics to obtain desired spectral transmittance characteristics suitable for each requirement.例文帳に追加

異なる要望に対しても同じ特性である基本分光透過率特性を有する基本多層膜２２と、基本多層膜２２とは異なる面に成膜され基本分光透過率特性を補正して各々の要望毎に適した所望分光透過率特性を得るための調整多層膜２３が形成されてなる光学多層膜フィルタ２０を形成する。 - 特許庁

After a mask insulation film 5 and a basic insulation film 4 having an opening 11 for forming element separation on a semiconductor layer 3 are formed, the basic insulation film 4a is retreated from the end of the mask insulation film 5 by etching to form a recess part 12 downward of the end of the mask insulation film 5.例文帳に追加

半導体層３上に素子分離を形成するための開口部１１を有するマスク絶縁膜５と下地絶縁膜４を形成した後、エッチングにより下地絶縁膜４ａをマスク絶縁膜５の端部から後退させてマスク絶縁膜５の端部下にくぼみ部１２を形成する。 - 特許庁

The photo-processing device is provided with a division processing part 211 for dividing a photographic film into groups of a predetermine number of frames, a basic exposure data calculation part 212 for calculating a basic exposure data of each piece of film, and a frame image correction part 213 for correcting each frame image based on the basic exposure data.例文帳に追加

写真フィルムを所定コマ数毎のグループに区分けする区分処理部２１１と、各グループに含まれるコマ画像を基に、ピースフィルム毎の基本露光データを算出する基本露光データ算出部２１２と、基本露光データを基に各コマ画像を補正するコマ画像補正部２１３とを備える。 - 特許庁

To form a resist pattern with high accuracy even on an underlayer film including a basic substance by controlling an oxygen deficiency/activity phenomenon at the interface between the underlayer film including a basic substance and a chemically amplified resist formed thereon.例文帳に追加

塩基性物質を含む下地膜とその上に形成される化学増幅型レジストとの界面における酸失活現象を抑制し、塩基性物質を含む下地膜上でも精度の高いレジストパターンを形成する。 - 特許庁

The master information carrier comprises a basic body 10, a ferromagnetic thin film 11 placed on the basic body 10 to form an arrangement pattern corresponding to a magnetization pattern, wherein the ferromagnetic thin film 11 has substantially flat surface.例文帳に追加

基体１０と、磁化パターンに対応する配列パターンを形成するように基体１０上に配置された強磁性薄膜１１とを備え、強磁性薄膜１１の表面が略平坦であることを特徴とする。 - 特許庁

Subsequently, a barrier film 103 containing a basic compound such as dicyclohexylamine is formed on the formed resist film 102.例文帳に追加

続いて、形成したレジスト膜１０２の上に、塩基性化合物である例えばジシクロヘキシルアミンを含むバリア膜１０３を形成する。 - 特許庁

After that, the shrink film 4 is shrunk to cut away the shrink film sticking out in an end part of the plastic-made cylindrical basic part 2.例文帳に追加

その後、シュリンクフィルム４をシュリンクさせて、プラスチック製円筒状基部２の端部にはみだしたシュリンクフィルムを切り取る。 - 特許庁

The fullerene derivative forms a bimolecular film structure and has this bimolecular film structure as a nano structural basic skeleton.例文帳に追加

フラーレン誘導体は二分子膜構造を形成しており、二分子膜構造をナノ組織基礎骨格とする。 - 特許庁

The crystal structure of the film is changed by bringing the formed film into contact with acidic or basic gas or performing aging processing.例文帳に追加

成膜された膜を酸または塩基のガスと接触させる、或いは、エージング処理することにより膜の結晶構造を変化させる。 - 特許庁

This surface protecting film (A) has basic laminar composition of a release layer (3), a base film layer (1) and a pressure-sensitive adhesive layer (2).例文帳に追加

「剥離層（３） ／基材フィルム層（１） ／粘着剤層（２） 」の基本の層構成を有する表面保護フィルム（Ａ） である。 - 特許庁

To realize the prevention of a water permeation from an inorganic film to a basic material and the high adhesive properties of the inorganic film, and as a result to display excellent durability.例文帳に追加

無機塗膜から基材への透水の防止と無機塗膜の高い密着性とを実現し、ひいては優れた耐久性を発揮することができる。 - 特許庁

A resin wax coated film 4 is applied to the surface of the flooring 1 having a cured coated film 3 of a photo-cured coating composition on a floor basic material 2.例文帳に追加

床基材２の上に光硬化された被覆組成物の硬化塗膜３を設けた床材１の表面に樹脂ワックス塗膜４を設ける。 - 特許庁

The film having proton conductivity, formed of a main acidic polymer for forming the electrolytic film is dried with a hot air (S12) and immerged in a basic polymer solution for impregnating the film with the basic polymer (S14) to form the solid high polymer electrolytic film.例文帳に追加

プロトン伝導性を有し電解質膜を形成する酸性の主ポリマーにより形成された膜を熱風乾燥し（Ｓ１２）、これを塩基性ポリマーの溶液に浸漬することにより膜に塩基性ポリマーを含浸させて（Ｓ１４）、固体高分子電解質膜とする。 - 特許庁

In the grain-oriented silicon steel sheet having a ceramic film, in order to perfectly remove a Cl component from the basic iron surface layer part of this silicon steel sheet, interface between a basic iron and the ceramic film, and in the ceramic film, the ceramic film is made of TiN, TiC or Ti(CN).例文帳に追加

セラミック被膜を有する一方向性珪素鋼板において、該珪素鋼板の地鉄表層部、地鉄とセラミック被膜の界面およびセラミック被膜中からCl成分を完全に除去するため、セラミック被膜をＴｉＮ，ＴｉＣまたはＴｉ（ＣＮ）とする。 - 特許庁

The photoresist coater comprises a turntable 12 being turned by a rotary driver 11 while mounting a disc-like basic body 13, and a nozzle for dripping photoresist solution onto the disc-like basic body and forms a photoresist film on the disc-like basic body.例文帳に追加

このフォトレジスト塗布装置は、回転駆動装置１１により回転し円形状基体１３を載置するターンテーブル１２と、円形状基体の上にフォトレジスト溶液を滴下するノズルとを有し、円形状基体にフォトレジスト膜を形成する。 - 特許庁

The thickness (for example, 2 μm) of the DLC film formed on the surface of the basic material 20 of the needle bar 11 may be larger than a surface roughness (that is a difference between concave and convex parts of the basic material 20, and is 1 μm, for example) of the basic material 20.例文帳に追加

ここで、針棒１１の基材２０の表面に形成されたＤＬＣ被膜２１の膜厚（例えば、２μｍ）が、その基材２０の表面粗（つまり、基材２０の凹凸段差であり、例えば、１μｍ）よりも大きくなるように構成してもよい。 - 特許庁

The antenna circuit constituent body comprises a resin film basic material, a circuit pattern layer 100 including a metal foil formed on the surface of the resin film basic material according to a pattern in order to carry out a specified function, and dummy pattern layers 151, 152 and 153 including a metal foil formed on the surface of the resin film basic material.例文帳に追加

アンテナ回路構成体は、樹脂フィルム基材と、所定の機能を果たすようにパターンにしたがって樹脂フィルム基材の表面の上に形成され、金属箔を含む回路パターン層１００と、樹脂フィルム基材の表面の上に形成された、金属箔を含むダミーパターン層１５１と１５２と１５３とを備える。 - 特許庁

The protective film 6 being formed on a basic body contains at least parylene N and parylene C wherein the compositional ratio (C/N) of parylene C to parylene N is higher on the surface side of the basic body than on the interface side.例文帳に追加

基体に設けられる少なくともパリレンＮとパリレンＣを含む保護膜６であり、パリレンＮに対するパリレンＣの組成比（Ｃ／Ｎ）が、基体の界面側よりも表面側の方が高い。 - 特許庁

The galvanized steel sheet or the alloyed galvanized steel sheet is used as the basic material, and chemical conversion coating is formed on the surface of the basic material through the phosphate film and interface reaction layer.例文帳に追加

亜鉛めっき鋼板又は亜鉛合金めっき鋼板を基材とし、リン酸塩皮膜，界面反応層を介して化成処理皮膜が基材表面に形成されている。 - 特許庁

This basic gas or acid gas detection paint includes a paint film forming resin, a white inorganic pigment, a dispersant, and a coloring agent capable of color change (color development) by being reacted with a basic gas (alkali gas) or an acid gas.例文帳に追加

塗膜形成樹脂と白色無機顔料と分散剤と塩基性ガス（アルカリガス）又は酸性ガスと反応して変色（発色）可能な発色剤とを含有する塩基性ガス又は酸性ガス検知塗料。 - 特許庁

A water-impermeable synthetic resin film 4 is stuck extending front surface, edge surface and rear surface sides of basic materials 2 to the basic materials having facing by a sliced veneer 3 on which a joint 31 is formed.例文帳に追加

目地３１の形成された突き板３による化粧面を有する基材２に、その表面、端面及び裏面側にわたって非透水性合成樹脂フィルム４を貼着させる。 - 特許庁

The solid polymer electrolyte film 20 is constituted of powder of a basic polymer such as polybenzimidazole, strong acid such phosphoric acid impregnated in a basic polymer, and a binder such as fluororesin.例文帳に追加

固体高分子電解質膜２０は、ポリベンズイミダゾールなどの塩基性ポリマーの粉体と、塩基性ポリマーに含浸されたリン酸などの強酸と、フッ素系樹脂などの結着材により構成される。 - 特許庁

Subsequently, the film 21 of elastic body is bonded to the sintered basic body on the side opposite to the heat resistant substrate which is then removed from the sintered basic body by cutting, or the like.例文帳に追加

次に、この焼結基体における耐熱性基板とは反対側の表面に弾性体膜２１を接着し、切断等によって耐熱性基板を焼結基体から排除する。 - 特許庁

The stencil mask comprises a basic body and a parent material of mask supported by the basic body wherein the parent material of mask comprises a thin film principally comprising carbon and having a through hole pattern passing a charged particle beam.例文帳に追加

基体と、この基体により支持されたマスク母体とを具備し、前記マスク母体は、荷電粒子線が透過する透過孔パターンを有する、炭素を主成分とする薄膜からなることを特徴とする。 - 特許庁

To constitute a structure in a semiconductor IC free from bringing a lately formed dielectrics (capacitor insulating film) in contact with a basic plug, even when a capacitor lower electrode is formed on the condition that some displacement in reference to the basic plug exists in the capacitor lower electrode.例文帳に追加

キャパシタ下部電極が下地プラグに対して合わせズレが生じる状態で形成されても、後に形成する誘電体（キャパシタ絶縁膜）が下地プラグに接触しない構造とする。 - 特許庁

The stencil mask comprises a basic body and a parent material of mask supported by the basic body wherein the parent material of mask comprises a silicon compound thin film having a through hole pattern passing a charged particle beam.例文帳に追加

基体と、この基体により支持されたマスク母体とを具備し、前記マスク母体は、荷電粒子線が透過する透過孔パターンを有するシリコン化合物薄膜からなることを特徴とする。 - 特許庁

An exposure unit 13 with a simple photographing mechanism assembled in the central part is arranged on the main body basic part with a strobe unit 14 installed, and a film roll chamber 20 and a cartridge chamber 21 are formed at both end parts of the main body basic part.例文帳に追加

ストロボユニット１４が設けられた本体基部１７は、その中央部に簡単な撮影機構が組み込まれた露光ユニット１３が設けられ、その両端部にフイルムロール室２０とパトローネ室２１とが形成されている。 - 特許庁

The stencil mask comprises a basic body and a parent material of mask supported by the basic body wherein the parent material of mask comprises a non-single crystal silicon based thin film having a through hole pattern passing a charged particle beam.例文帳に追加

基体と、この基体により支持されたマスク母体とを具備し、前記マスク母体は、荷電粒子線が透過する透過孔パターンを有する非単結晶シリコン系薄膜からなることを特徴とする。 - 特許庁

The surface roughness of a basic material 2 is set to 0.15-0.30 μm, resulting in reduction in surface roughness of the coating film 5 formed on the surface of the basic material 2.例文帳に追加

基材２の表面粗さを０．１５μｍ以上かつ０．３０μｍ以下とするので、基材２の表面に形成されたコーティング膜５の表面粗さを小さくすることが可能となる。 - 特許庁

Furthermore, in comparison with the case in which the carry carton as a whole is formed, while using a thick resin film for the basic material, cost can be reduced by using the paper basic material similar to the carry carton exclusive paper.例文帳に追加

しかも、厚手の樹脂フィルムを基材に用いてキャリーカートン全体を形成する場合に比べると、キャリーカートン専用紙に類する紙基材を使用することでコストを低減することができる。 - 特許庁

The optical multi-layer thin film 4 includes one resin layer 3 or more formed on an optical face 2a of an optical basic material 2 and the outermost layer 5 formed on an outer side of the resin layer 3 and having smaller refractive index than that of the optical basic material 2.例文帳に追加

光学多層薄膜４は、光学基材２の光学面２ａに形成可能な１層以上の樹脂層３と、樹脂層３の外側に形成され、光学基材２より小さい屈折率を有する最外層５とを備えている。 - 特許庁

Since the window part 11a of the basic paper material closed by the film basic material 13 is located on the side face of the beverage can, the kind of the beverage can stored in the carry carton can be checked from the external appearance.例文帳に追加

フィルム基材１３で塞がれた紙基材の窓部１１ａが飲料缶の側面に位置しているので、中の飲料缶の種類を外観から確認することができる。 - 特許庁

Each of the tapes 7 has an adhesive layer 7b on both surfaces of a basic material 7a made of a polyethylene terephthalate film.例文帳に追加

両面テープ７は、ポリエチレンテレフタレート製フィルムの基材７ａの両面に粘着剤層７ｂをそれぞれ有している。 - 特許庁

A resist film 102, containing a basic compound, an aliphatic diol compound and an aromatic diol compound, is formed on a substrate.例文帳に追加

基板の上に、塩基性化合物と脂肪族ジオール化合物と芳香族ジオール化合物とを含むレジスト膜１０２を形成する。 - 特許庁

A basic water solution 73 is brought into contact with the flow casting film 62 having the solvent content reaching 10 wt.% for saponifying the cellulose acylate.例文帳に追加

溶媒含有率が１０重量％に達した流延膜６２に塩基性水溶液７３を接触させてセルロースアシレートをけん化する。 - 特許庁

The gas-barrier film is obtained using a gas-barrier resin composition comprising a polyalcohol-based resin, glyoxal, a basic substance and a metal compound or silane compound.例文帳に追加

ポリアルコール系樹脂、グリオキサール、塩基性物質、及び金属化合物又はシラン化合物を含有するガスバリア性樹脂組成物を用いる。 - 特許庁

Leakage of the electrolytic solution in the basic cell 2A into the flexible film is prevented by non-liquid permeability of the filter 10.例文帳に追加

基本セル２Ａ内の電解液のフレキシブルフィルム中への漏出は、フィルター１０の非液体透過性により阻止される。 - 特許庁

An oxygen blocking film having: a water soluble resin; and a basic compound bonded to hydrogen chloride to form a water soluble compound is used.例文帳に追加

水溶性樹脂及び塩化水素と結合して水溶性化合物を形成する塩基性化合物とを備える酸素遮断膜を用いる。 - 特許庁

A first insulating film 20 is formed on a semiconductor basic body 12 on which a Hall element region 14 is formed.例文帳に追加

ホール素子領域１４が形成された半導体基体１２上に、第１の絶縁膜２０を形成する。 - 特許庁

The film particle basic pattern 86 has (64×64) pixels, an area with (16×16) pixels in it is segmented and supplied to a multiplier 84.例文帳に追加

フィルム粒子基本パターン８６は、（６４×６４）画素であり、その中の（１６×１６）画素の領域が切り出されて乗算器８４に供給される。 - 特許庁