「Basic (film)」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a treatment method of cooling water system which can form an anticorrosion film having a high anticorrosion effect by means of a basic treatment process.例文帳に追加

基礎処理工程によって防食効果の高い防食皮膜を形成することができる冷却水系の処理方法を提供する。 - 特許庁

By using the envelope curve, the thickness of the transparent film formed on the basic material of the objective material 11 is operated and outputted.例文帳に追加

そして、包絡線法を使用して、被測定物１１の基底材の上に形成された透明フィルムの厚さを演算して出力する。 - 特許庁

To provide steel for a cold working die, which has superior basic properties (including hardness and toughness) and can adequately cope with various hard-film treatments.例文帳に追加

優れた基本特性（硬さや靱性など）を示し、且つ多様な硬質皮膜処理に良好に対応できる冷間金型用鋼を提供する。 - 特許庁

To provide a device capable of measuring the thickness of transparent film formed on a basic material.例文帳に追加

基底材の上に形成されたフィルムの厚さを測定することが可能な透明フィルムの厚さ測定装置を提供する。 - 特許庁

Pulverulent bodies on which the photocatalyst is carried are scattered on a coated surface in the basic material, and the pulverulent bodies are fixed onto a coated film.例文帳に追加

基材の塗装を施した表面に、光触媒を担持させた粉体を散布し、塗装した塗膜に粉体を固着させる。 - 特許庁

To assure reliable embedment of a wire in an interlayer insulating film made of a material containing inpurity of a basic compound.例文帳に追加

塩基性化合物を不純物に含む材料からなる層間絶縁膜に埋め込み配線を確実に形成できるようにする。 - 特許庁

The film-shaped preparation contains the basic pharmaceutical effective component and an oxide component, and is improved in the solubility of the pharmaceutical effective component.例文帳に追加

塩基性の医薬有効成分及び酸性化合物を含有し、該医薬有効成分の溶出性を向上させたことを特徴とするフィルム状製剤。 - 特許庁

To eliminate mixing of bubbles at the time of laminating a metal foil and a transparent basic material film, and to eliminate prolongation of evacuating time period at mesh machining.例文帳に追加

金属箔と透明基材フィルムとを積層する際に気泡が混入するのを解消することを課題とするものである。 - 特許庁

To obtain a process for producing a nozzle plate in which shape machining precision of a basic material and a water repellent film is enhanced.例文帳に追加

本発明はノズルプレートの製造において、基材および撥水膜の加工形状精度の向上を図ることを目的とする。 - 特許庁

The intermediate transfer ribbon 28 has a transfer layer 28b being printed with an image at a print section on a basic material film 28a.例文帳に追加

中間転写リボン１８は、基材フィルム２８ａ上に、印刷部で画像が印刷される転写層２８ｂを有する。 - 特許庁

To improve the adhesion of the rubber plug of a medical container to a plastic film without impairing the basic characteristic of the rubber plug.例文帳に追加

医療用容器のゴム栓の基本特性を低下させることなくプラスチックフィルムとの密着性および接着性の改善を図る。 - 特許庁

Subsequently, the transfer layer 28b is stopped on the upstream side of a stripping shaft 33 and cooled sufficiently before being stripped from the basic material film 28a.例文帳に追加

転写後、転写層２８０は、剥離シャフト３３の上流側で停止され、充分に冷却された後、基材フィルム２８ａから剥離される。 - 特許庁

A halogen-containing gas and a basic gas are supplied onto a substrate W to form a condensation layer 105 in which the silicon oxide film is made to chemically react with the halogen-containing gas and the basic gas, and the silicon oxide film 104 is etched.例文帳に追加

ハロゲン元素を含むガス、及び塩基性ガスを基板Ｗ上に供給し、シリコン酸化膜にハロゲン元素を含むガス及び塩基性ガスを化学反応させた凝縮層１０５を生成して、シリコン酸化膜１０４をエッチングする。 - 特許庁

The basic organic compound has at least one acidic group and at least one basic group in the molecule and so the volatility is suppressed when heated in baking of the coating film and, thereby, migration into the upper layer coating film is suppressed.例文帳に追加

この塩基性有機化合物は、分子内に少なくとも一つの酸性基と少なくとも一つの塩基性基とを備えることにより、塗膜の焼き付け時の加熱による揮発性が抑制され、このため上層塗膜への移行が抑制されている。 - 特許庁

Then, when a state where infrared light is applied from a normal direction to the center of the film 30 is set to a basic state, the retention state of the film 30 is changed from the basic state by a retention state change section 13.例文帳に追加

そして、上記フィルム３０の中央部に対して法線方向から赤外光が照射される状態を基本状態とした場合に、保持状態変化部１３によって、フィルム３０の保持状態を上記基本状態から変化させる。 - 特許庁

Compounds characterized by having a basic structure represented by chemical formula 3 or 4, an organic antireflection polymer having the structure represented by chemical formula 1 applying the basic structure and a method for producing the same, a composition for the antireflection film containing the antireflection polymer and a method for producing the antireflection film using the composition are provided.例文帳に追加

以下の化学式の基本構造を有することを特徴とする化合物、これを利用した下記化学式１の構造を有する有機反射防止重合体及びその合成方法、前記有機反射防止重合体を含む反射防止膜の組成物、これを利用した反射防止膜の製造方法である。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a flexible color filter formed on a film basic material 101 easily without increasing the number of processes and scale of facilities when manufacturing the color filter by a photolithography method on the film basic material 101 supplied from a winding roll.例文帳に追加

巻き取りロールから供給されたフィルム基材１０１上にフォトリソ法によりカラーフィルターを製造する方法において、工程数、設備の増加を伴わず容易にフィルム基材１０１上に形成したフレキシブルカラフィルターの製造方法を提供する。 - 特許庁

The main medicine particle in which a basic or acidic main medicine particle is covered with a water-insoluble coating film characterized in that an acidic substance for the basic main medicine or a basic substance for the acidic main medicine is contained in the water-insoluble coating film, and the intraoral disintegrable tablet uses the same.例文帳に追加

塩基性又は酸性の主薬粒子が水不溶性のコーティング膜で被覆されてなる主薬粒子であって、水不溶性のコーティング膜内部に、塩基性の主薬に対して酸性物質が、酸性の主薬に対して塩基性物質が含有されてなる主薬粒子及びこれを用いた口腔内崩壊錠。 - 特許庁

Then, a basic film of the second silicon nitride film pattern 11 is removed by wet etching to form a hollow portion between the second silicon nitride film pattern 11 and a silicon substrate 1.例文帳に追加

そして、第２のシリコン窒化膜パターン１１の下地膜をウェットエッチングによって除去し、第２のシリコン窒化膜パターン１１とシリコン基板１との間に中空部を形成する。 - 特許庁

To provide a coating fluid for forming a non-chromium type clear film which meets basic properties as a film and blocking resistance and a clear-coated steel sheet on which a clear film is formed.例文帳に追加

皮膜としての基本特性と、耐ブロッキング性とを満たす非クロム型クリヤー皮膜を形成するための塗布液およびクリヤー皮膜が形成されたクリヤーコート鋼板を提供する。 - 特許庁

To provide a transparent conductive film in which zinc oxide with low resistivity, moisture-resistant stability of resistivity, and smaller film-thickness dependency is a basic material, its manufacturing technique, and an oxide sintering body for manufacturing a thin film.例文帳に追加

低抵抗率で、かつ、抵抗率の耐湿安定性及び膜厚依存性が少ない酸化亜鉛を母材とする透明導電膜およびその製造用技術並びに薄膜製造用製造用酸化物焼結体を提供する。 - 特許庁

To obtain a non-vinyl chloride-based resin film for decoration, which has excellent basic performance as a film for decoration, gasoline resistance, flexibility and production processability in spite of being a monolayer film.例文帳に追加

単層フィルムであるにもかかわらず、装飾用フィルムとしての基本性能、耐ガソリン性、柔軟性および生産加工性にすぐれた非塩ビ系樹脂装飾用フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide an antiglare film having a protective film capable of exhibiting not only basic performances such as curing property, scratch resistance, hardness, adhesiveness and transparency but an excellent antiglare effect, formed on the surface of a transparent film.例文帳に追加

透明フィルム表面に、硬化性、耐擦傷性、硬度、接着性、透明性等の基本的性能に加えて、優れた防眩効果を発揮し得る保護層が形成されてなる防眩フィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a low cost conductor film improved in close contact property between a polyester film as a basic material and a metal pattern layer in order to assure higher conductivity and high precision mesh pattern and also provide a low cost display filter using the same conductor film.例文帳に追加

低コストで導電性が高く、高精細なメッシュパターンを得ることができ、かつ基材であるポリエステルフィルムと金属パターン層との密着性を改良された導電性フィルムを提供する。 - 特許庁

The solid polymer electrolyte film with an inorganic material composite polymer film where, composed of a polymer film which is a basic material and an inorganic material of fine particle dispersed inside the polymer film, the inorganic material disperses in the film-thickness direction with concentration gradient.例文帳に追加

固体高分子電解質膜を、基材となる高分子膜と該高分子膜の内部に分散した微粒子状の無機材料とを含み、前記無機材料が膜厚方向に濃度勾配をもって分散する無機材料複合高分子膜とする。 - 特許庁

An electrode substrate 2 comprises a recess forming film 12 where an SiN film 13, an SiO2 film 14, an SiON film 15 and a phosphorus doped P-Si film 16 are deposited sequentially on a basic material 11 from the low etching rate side and a recess 17 having an inclining face 17a is made therein.例文帳に追加

電極基板２は、基材１１上にエッチレイトの低い側からＳｉＮ膜１３、ＳｉＯ_2膜１４、ＳｉＯＮ膜１５及びリンドープＰ−Ｓｉ膜１６を順次積層した凹部形成膜１２を設けて、傾斜面１７ａを有する凹部１７を形成した。 - 特許庁

In this toilet equipment in which the surface sheet is mounted in a predetermined region, the surface sheet 131 is constituted by PET (basic material) 13 having predetermined surface hardness and a film layer 11 formed on an upper face of the basic material 13 and having surface hardness equal to that of the basic material and antibacterial agent.例文帳に追加

所定の領域に表面シートを装着したトイレ機器において、表面シート１３１は、所定の表面硬度を有するＰＥＴ（基材）１３と、基材１３の上面に形成され、基材表面と同等の表面硬度を有しかつ抗菌剤を有する皮膜層１１と、から構成されることを特徴とするトイレ機器である。 - 特許庁

In a circuitboard where a conductor circuit is formed on at least one side of an insulating basic material, the core material of the insulating basic material is formed of organic polymer, e.g. an aramid film, and impregnated with epoxy resin and the linear thermal expansion coefficient of the insulating basic material is set in the range of +10 ppm/°C to -10 ppm/°C.例文帳に追加

絶縁性基材の少なくと一面に導体回路が形成されてなる回路基板において、絶縁性基材は、その芯材をアラミドフィルム等の有機ポリマーで形成し、芯材に含浸させる樹脂としてエボキシ樹脂を使用し、その絶縁性基材の線熱膨張係数を＋１０ｐｐｍ／℃〜−１０ｐｐｍ／℃の範囲内とした。 - 特許庁

In the ink jet recording method printing on a basic material using a radiation curing ink containing a coloring material of other than white, the printed ink film thickness is 5-100 μm and the quantity of radiation curing ink being printed on the basic material having a transmission density not lower than 0.04 is smaller than being printed on the basic material having a transmission density not higher than 0.02.例文帳に追加

基材上に白色以外の色材を含む放射線硬化性インクを印字するインクジェット記録方法において、印字されたインク膜厚は５〜１００μｍであり、かつ透過濃度が０．０２以下の基材に印字する前記放射線硬化性インクのインク量に対し、透過濃度が０．０４以上の基材に印字する前記放射線硬化性インクのインク量が少ないことを特徴とするインクジェット記録方法。 - 特許庁

The cloth is constituted as a laminated body including a basic material 11, an olefin resin layer 12 formed on the basic material 11 and a bright polyethylene-made film 13 coated on the olefin resin layer 12, and a plurality of permeable holes 4 for permeating a colored adhesive are formed in the laminated body part 1 consisting of the basic material 11 and the olefin resin layer 12.例文帳に追加

基材１１と、基材１１上に形成されたオレフィン樹脂層１２と、オレフィン樹脂層１２上にコーティングされた透明ポリエチレン製フィルム１３とを含む積層体としてクロスを構成し、基材１１とオレフィン樹脂層１２とから成る積層体部分１に、着色接着剤を浸入させるための複数の浸入孔４を形成する。 - 特許庁

The method for producing the polysiloxane for film formation comprises (1) continuously or intermittently adding a silane compound to a mixture comprising water, a basic compound 1, and an organic solvent and (2) further adding a basic compound 2 and continuously or intermittently adding a silane compound.例文帳に追加

１）水、塩基性化合物１および有機溶媒からなる混合物に、シラン化合物を連続的または断続的に添加した後、２）さらに塩基性化合物２を添加しシラン化合物を連続的または断続的に添加することを特徴とする膜形成用ポリシロキサンの製造方法。 - 特許庁

This is the manufacturing method of the electrolyte membrane for the fuel cell including a process of irradiating radiation to a basic solid polymer film under existence of oxygen, and a process of doping a proton conductive compound to the radiation-irradiated basic solid polymer membrane.例文帳に追加

酸素存在下で塩基性固体高分子膜に放射線を照射する工程と、放射線を照射した塩基性固体高分子膜にプロトン伝導性化合物をドープする工程とを含むことを特徴とする、燃料電池用電解質膜の製造方法。 - 特許庁

The basic body 10 has a recess 10a located at a position corresponding to the magnetization pattern and the recess 10a is preferably formed such that the surface 11a of the ferromagnetic thin film 11 projects above the surface 10b of the basic body 10.例文帳に追加

また、基体１０は、磁化パターンに対応する位置に形成された凹部１０ａを備え、強磁性薄膜１１は、その表面１１ａが基体１０の表面１０ｂよりも突出するように凹部１０ａに形成されていることが好ましい。 - 特許庁

Using a highly flexible basic material, e.g. a polyimide resin sheet, heating resistors, discrete electrodes, signal input electrodes and a protective film are formed on one plane of the basic material using sputtering and a photolithographic process and then it is patterned.例文帳に追加

さらに、端面に発熱抵抗体を形成しパターニングを行う面が増える為、成膜やフォトリソの工数が増加するとともに、平面部と端面との電極の連続性を保つことも技術的に困難であり、量産性に問題があった。 - 特許庁

Its production method comprises the steps for coating the surface of a basic material with SiC film by CVD, for removing the basic material to produce an SiC shaped body, and for heat treating the SiC shaped body at a temperature of 1600-1800°C in an inert atmosphere while applying a load of 15 g/cm^2 or above.例文帳に追加

また、その製造方法は、ＣＶＤ法により基材面にＳｉＣ膜を被着し、次いで基材を除去して得られたＳｉＣ成形体を、不活性雰囲気中で１５g/cm^2 以上の加重を負荷しながら、１６００〜１８００℃の温度で熱処理する。 - 特許庁

The anchor pin 1 forms a flange-like blade body 10 of an orthogonal direction to a shaft center on a basic end edge, and is provided with an adhesive injection part 2 for forming a funnel-shaped resin 12 by covering a resin film on the outer peripheral face of a basic end.例文帳に追加

アンカーピン１は基端部端縁に軸心に対して直交する方向のフランジ状刃体１０を形成し、基端部の外周面に樹脂皮膜を被覆して漏斗状樹脂１２を形成した接着剤注入部２を設ける。 - 特許庁

A conductive film made of gold, silver, copper, nickel, tin, zinc, platinum or the like is provided on the surface of a basic fiber made of synthetic resin, and the metal coated short fiber, to which a heat treatment is applied, is mixed to a basic resin.例文帳に追加

合成樹脂からなる基体繊維の表面に金、銀、銅、ニッケル、錫、亜鉛、白金などの導電性金属被覆を設け、さらに加熱処理を施してなる金属被覆短繊維を基体樹脂に混合したことを特徴とする導電性樹脂組成物。 - 特許庁

The carry carton C for storing and carrying a plurality of beverage cans is assembled of a laminate sheet, consisting of a basic paper material having a window part 11a therein and a transparent basic film material 13, which are affixed to each other, and the window part 11a is located at the position from which a side face of the stored beverage can is seen.例文帳に追加

複数本の飲料缶を収納して持ち運ぶためのキャリーカートンＣであって、窓部１１ａを設けた紙基材と透明なフィルム基材１３を貼り合わせた積層シートで組み立てられ、収納した飲料缶の側面が見える位置に窓部１１ａが位置している。 - 特許庁

The SiC dummy wafer being obtained by forming an SiC film on the surface of a basic material by CVD and then removing the basic material comprises an SiC shaped body having such properties as the half peak width of SiC (111) face measured by X-ray diffraction is 0.2° or less and the warp is 0.5 mm or less.例文帳に追加

ＣＶＤ法により基材面にＳｉＣ膜を成膜した後基材を除去して得られ、Ｘ線回折により測定されるＳｉＣ（１１１）面の半値幅が０．２°以下、反りが０．５mm以下の性状を備えたＳｉＣ成形体からなるＳｉＣダミーウエハ。 - 特許庁

To realize transfer of a thin film to the entire region of a substrate as a transfer object under the condition that there is not any transfer error by suppressing any rise of a basic material on a plate due to the expansion of gas existing between the basic material and the plate in contact therewith.例文帳に追加

基材とこれに当接されるプレートとの間に存在する気体の膨張による、プレート上での基材の盛り上がりを抑制し、転写不良などがない状態で、転写対象の基板全域に薄膜が転写できるようにする。 - 特許庁

A basic material of nozzle 100 is subjected to electroless Ni-P treatment and fluorinated pitches are subjected to eutectoid treatment thus forming a water repellent film 101, exhibiting higher water repellency than the basic material of nozzle 100, annularly around the ejection opening of a nozzle 21 on the end face of the nozzle where the ejection opening is opened.例文帳に追加

ノズル基材１００を無電解Ｎｉ−Ｐ処理後、フッ化ピッチを共析させることにより、ノズル２１の吐出口が開口するノズルの端面上に、吐出口を囲む環状にノズル基材１００よりも撥水性の高い撥水膜１０１を成膜する。 - 特許庁

The oxide transparent conductive film which contains In-O, Sn-O or Zn-O as basic oxides, is formed on a substrate 14 by the reactive sputtering method with using the metalic target material 10 which contains In, Sn or Zn in a vacuum as basic elements.例文帳に追加

本発明では、真空中においてＩｎ、Ｓｎ又はＺｎを基本構成元素とする金属からなるターゲット材１０を用い反応性スパッタ法によって基板１４上にＩｎ−Ｏ、Ｓｎ−Ｏ又はＺｎ−Ｏを基本構成元素とする酸化物透明導電膜を形成する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the optical element, a first material film 130A containing polyα-styrene is formed on the whole surface of a basic material 11, and then a second material film 130B containing a material (polyimide) being different from that of the first material film 130A is formed like a belt partially on a surface of the first material film 130A by using a printing method.例文帳に追加

基材１１の表面全体に、ポリα−スチレンを含む第１材料膜１３０Ａを形成したのち、印刷法を用いて、第１材料膜１３０Ａとは異なる材料（ポリイミド）を含む第２材料膜１３０Ｂを第１材料膜１３０Ａの表面の一部に帯状に形成する。 - 特許庁

After a resist film 101 composed of a chemically amplified resist material is formed, a resist film 102 is exposed to a pattern by selectively projecting exposing light 104 upon the film 102 in a state where a solution 103 containing a basic compound is supplied to the surface of the film 102.例文帳に追加

化学増幅型レジスト材料よりなるレジスト膜１０１を形成した後、塩基性化合物を含む溶液１０３をレジスト膜１０２の上に供給した状態で、露光光１０４をレジスト膜１０２に選択的に照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁

In this process, an acidic compound 19 is diffused from the protective film 16A adding to acid produced by an acid producing agent in the resist film 17, and this makes the resist film in the hole 14a acidic even though the basic compound 18 is diffused from the interlayer insulating film 14.例文帳に追加

このとき、レジスト膜１７中の酸発生剤から発生する酸に加えて、保護膜１６Ａから酸性化合物１９が拡散し、層間絶縁膜１４から塩基性化合物１８が拡散しても孔部１４ａのレジスト膜は酸性となる。 - 特許庁