Black Matrix Maskとは 意味・読み方・使い方

The method of manufacturing the color filter includes: a step of forming a mask layer C on a surface of a black matrix BM; a step of forming color filter layers CF(R), CF(G), and CF(B); and a step of removing the mask layer C.例文帳に追加

ブラックマトリクスＢＭの表面にマスク層Ｃを形成する工程と、カラーフィルター層ＣＦ（Ｒ），ＣＦ（Ｇ），ＣＦ（Ｂ）を形成する工程と、マスク層Ｃを除去する工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

Therein, a specified element region corresponding to one color is set to be a state facing an opening part 231 of the mask part 23 and, by applying a substrate potential, a mask potential and a black matrix potential respectively to the filter substrate 9, the mask part 23 and the black matrix 81, ions are applied to only the specific element region and the specific element region is charged.例文帳に追加

そして、一の色に対応する特定要素領域がマスク部２３の開口部２３１と対向する状態とされ、フィルタ基材９、マスク部２３およびブラックマトリクス８１にそれぞれ基材電位、マスク電位およびブラックマトリクス電位を付与することにより、特定要素領域のみにイオンが付与されて特定要素領域が帯電する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter substrate by simply correcting a black matrix exposure pattern, fabricating an exposure mask and forming a black matrix in a black matrix forming process in which a series of patterning treatments such as pattern exposure with a proximity exposure method on a black photosensitive resin layer on a transparent substrate, a development treatment and so on are conducted.例文帳に追加

透明基板上の黒色感光性樹脂層に近接露光法（プロキシミティー）にてパターン露光し、現像処理等の一連のパターニング処理を行ってブラックマトリクスを形成する工程において、簡易的にブラックマトリクス露光パターンのパターン補正を行って露光マスクを作製してブラックマトリクスを形成するカラーフィルタ基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In order to accurately match positions of a black matrix 15 and a photo-mask 4a for color filter layers, alignment is performed to match the center of a window 55-1 and the center of an alignment mark 53-1 which is formed when forming the black matrix 15.例文帳に追加

ブラックマトリクス１５とカラーフィルタ層用のフォトマスク４ａの位置を正確にあわせるために、窓５５−１の中心とブラックマトリクス１５を形成する時に形成されたアライメントマーク５３−１の中心が一致するように位置合わせを行う。 - 特許庁

Patterning is successively performed to the black matrix layer 102 and the 1st photoresist layer 104a by a mask and also the 1st photoresist layer 104a is removed.例文帳に追加

マスクにより順にブラックマトリクス層１０２および第１フォトレジスト層１０４ａをパターニングするとともに、第１フォトレジスト層１０４ａを除去する。 - 特許庁

The width 70 of each portion 72 of the black mask between the pixels L and R of the same group is larger than the width 71 of each portion 73 of the black matrix between the pixels L and R of different groups.例文帳に追加

同じグループのピクセルＬ，Ｒ間の上記ブラックマスクの各部分７２の幅７０は、異なるグループのピクセルＬ，Ｒ間の上記ブラックマスクの各部分７３の幅７１よりも大きい。 - 特許庁

Next, a backside exposure process is performed on the active device array substrate, by using the opaque metal layer as a mask to form a black matrix defining a plurality of pixel regions.例文帳に追加

次に、複数の画素領域を定義するブラックマトリックスが不透明金属パターンをマスクとして使用する背面露光プロセスにより能動デバイスアレイ基板上に形成される。 - 特許庁

The manufacturing method of a plasma display panel and the green sheet include a step exposing a first green sheet containing a cover film using a first mask on which a black matrix pattern is formed, a black matrix dry film and a base film, a step removing the cover film and laminating the first green sheet on a substrate, and a step removing the base film and forming a black matrix on the substrate.例文帳に追加

本発明は、ブラックマトリックスパターンが形成された第１マスクを利用してカバーフィルム、ブラックマトリックスドライフィルム及びベースフィルムを含む第１グリーンシートを露光するステップと、前記カバーフィルムを除去して基板上に前記第１グリーンシートをラミネーティングするステップと、前記ベースフィルムを除去して前記基板上にブラックマトリックスを形成するステップと、を含むことを特徴とする。 - 特許庁