E to Hとは 意味・読み方・使い方

A process control part 54 performs control of activation/inactivation about an H-ARQ process indicated by a PAF in the case of a Primary E-RNTI and performs the control of activation/inactivation to all the H-ARQ processes irrespective of the PAF in the case of a Secondary E-RNTI.例文帳に追加

プロセス制御部５４は、Primary E-RNTIの場合にはＰＡＦで示されたＨ−ＡＲＱプロセスについてactivation/inactivationの制御を行い、Secondary E-RNTIの場合にはＰＡＦにかかわらずすべてのＨ−ＡＲＱプロセスに対してactivation/inactivationの制御を行う。 - 特許庁

The degree of distance from a main point 71 to each of the best aberration points 73M, E, F, G, H, I, J in the direction of an optical axis 32 are expressed by d0-d3 as attached figures to (d).例文帳に追加

光軸32方向へ主点71から各最良収差点73M,E,F,G,H,I,Jまでの距離を次数をｄの添字として、ｄ０〜ｄ３と表す。 - 特許庁

In particular, the invention relates to type IV pili from nontypeable H. influenzae (NTHi) and from H. influenzae strains a, b, c, e, and f.例文帳に追加

特に、本発明は、分類不能型Ｈ．ｉｎｆｌｕｅｎｚａｅ（ＮＴＨｉ）由来およびＨ．ｉｎｆｌｕｅｎｚａｅ株ａ、ｂ、ｃ、ｅおよびｆ由来のＩＶ型ピリ線毛に関する。 - 特許庁

Based on these operating condition parameters and model constants A-H, a function model parameter X is calculated according to equation: X=A×P^B×Veff^C×Pc^D×EGR^E×Ne^F×q^G×exp(H/T).例文帳に追加

Ｘ＝Ａ×Ｐ^Ｂ×Ｖeff^Ｃ×Ｐc^Ｄ×ＥＧＲ^Ｅ×Ｎe^Ｆ×ｑ^Ｇ×ｅｘｐ（Ｈ/Ｔ） - 特許庁

The depth dimension H_o of respective surface and back surface 8 and 9 of the random pattern uneven shape E is set to be 150 μm≤H_o≤500 μm.例文帳に追加

ランダム模様凹凸形状Ｅの表裏各面８，９における深さ寸法Ｈ_0 を 150μｍ≦Ｈ_0 ≦ 500μｍに設定する。 - 特許庁

When H is assumed for height of a getting off site Y of an escalator E, the prescribed height H_0 is set so as to be in a relation H/2≤H_0≤H.例文帳に追加

エスカレータＥの降場Ｙの高さをＨとすると、所定高さＨ_0 は、Ｈ／２≦Ｈ_0≦Ｈとなるように設定される。 - 特許庁

The following values are represented by e, f, g, and h in the formula, in addition to the above values:発音を聞く 例文帳に追加

この式において、ｅ、ｆ、ｇ及びｈは、それぞれ次の値を表すものとする。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

e. In the case of a land aerodrome, the subject units shall conform to the standards listed under "2", "g" and "h".発音を聞く 例文帳に追加

ｅ　陸上空港等にあつては、（二）ｇ及びｈに掲げる基準に適合するものであること。 - 日本法令外国語訳データベースシステム