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OUT OF FLATNESSとは 意味・読み方・使い方
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「OUT OF FLATNESS」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 48件
To provide a device for controlling flatness of hot rolling mill capable of controlling flatness with high acuracy even when a rolling stock is out of the center of sheet width.例文帳に追加
圧延材が板道の中央にない場合にも高精度にて平坦度制御を実施することのできる熱間圧延機の平坦度制御装置を提供する。 - 特許庁
Thus, while the flatness of the surface of the liquid film of the clear ink is maintained, fixing is carried out, and high glossiness can be obtained.例文帳に追加
これにより、クリアインクの液膜表面の平坦性を維持したまま定着し、高い光沢性を得ることができる。 - 特許庁
A method for regulating the flatness of the ball terminal of the semiconductor package comprises the steps of taking out the object package 1 from a tray stocker 3 conveyed to a taking-out position 5a by a first pickup mechanism 7, moving the package 1 to an image processing inspecting unit 9, and measuring the flatness of the ball terminal vertex position.例文帳に追加
取り出し位置５ａに搬送されたトレイストッカー３から、第１のピックアップ機構７により目的の半導体パッケージ１を取り出し、画像処理検査装置９に移動させ、ボール端子頂点位置の平坦度を計測する。 - 特許庁
To provide a coating device controlling the deterioration of a sheet flatness and continuously carrying out a plurality of processes.例文帳に追加
シートの平坦性が低下するのを抑制するとともに、複数の工程を連続して行うことが可能な塗布装置を提供する。 - 特許庁
By performing cold-forging with the upper and lower dies and correcting into required dimensions and the degree of flatness and arrangement, the finishing work is carried out.例文帳に追加
上下金型を冷間鍛造し、要求される尺寸と平整度に修整し、完成加工を実行する。 - 特許庁
When the principal surfaces 7a and 7b have flatness out of the range of a permission value in a prior batch, polishing in posterior batches is performed by selecting such a polishing condition that the flatness comes close to 0 and changing the condition.例文帳に追加
ここで、前のバッチで主表面７ａ、７ｂの平坦度が許容値の範囲外の場合は、平坦度が０に近づくような研磨条件を選択し、これを変化させることにより、次バッチ以降の研磨を行っている。 - 特許庁
To provide a wafer holding apparatus where the flatness of a wafer held on a chuck table is improved and replacement of the chuck table can be carried out easily.例文帳に追加
吸着テーブル上に保持されるウェーハの平坦度を向上させると共に、吸着テーブルの交換作業を容易に行えるウェーハ保持装置を提供する。 - 特許庁
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「OUT OF FLATNESS」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 48件
Thus, deformation or vibration of a mirror being a side face for carrying out positioning and measuring is suppressed, so that improvement of flatness in the case of working the side face is realized.例文帳に追加
これにより、位置決め測定を行う側面であるミラーの変形や振動を抑制することができ、側面を加工する際の平面度の向上が達成できる。 - 特許庁
To provide a pellicle storage container capable of ensuring rigidity of the pellicle storage container, especially rigidity and flatness of a mount base, without a reinforcement plate, and capable of forming a optimum shape for tray attachment when taking out a pellicle automatically.例文帳に追加
補強板を用いずともペリクル収納容器の剛性、特に載置台の剛性と平坦性を確保でき、ペリクルを自動取り出しする際のトレイ吸着にも最適な形状を得る。 - 特許庁
In this state of things, the inclination angle of a cut face of the quartz wafer and the flatness of its surface, for example, are measured, then the water is drained from the recessed portion by reversely rotating the pump, and the quartz wafer is taken out.例文帳に追加
この状態で、例えば水晶ウエハのカット面の傾斜角度や表面の平坦度を測定した後、ポンプを逆転させて凹所から水を排出し、水晶ウエハを取り出す。 - 特許庁
To obtain a high flatness easily and carry out a flat surface grinding with a high precision, on the grinding surface of a grinding surface plate.例文帳に追加
研磨定盤の研磨加工面について高い平坦度が容易に得られ、高精度の平面研磨加工が可能となる平面研磨装置を提供する。 - 特許庁
After processing a substrate so as to make it flat, the flatness of an epitaxially grown wafer is estimated before epitaxially growing, and then epitaxial growth is carried out using only a substrate satisfying required standards.例文帳に追加
基板の平坦化加工後、エピタキシャル成長前に同成長後の平坦度を予測して、所要基準を満たす基板にのみエピタキシャル成長を行う。 - 特許庁
A recording mark is formed by way of condensing a pulse laser beam to a recording layer wherein the polymerizing of a thermosetting epoxy resin having a frame with high flatness and a curing agent has been carried out.例文帳に追加
平面性の高い骨格を有する熱硬化性のエポキシ樹脂と硬化剤とが重合された記録層にパルスレーザ光を集光し、記録マークを形成する。 - 特許庁
A spark out action acts on both surfaces of the work W and the parallelism and the flatness are enhanced by making the inclination angle θ of both grinding wheels 1, 2 small.例文帳に追加
両砥石車１，２の傾斜角度θを小さくすることにより、ワークＷの両面に対してスパークアウト的な作用が働き、その平行度および平坦度が向上する。 - 特許庁
To provide a flatness measuring apparatus, whereby an operator can immediately find out the extent of planarity of each site of a region, corresponding to the exposing area on a semiconductor wafer has.例文帳に追加
半導体ウエハ上の露光エリアに対応する領域である各サイトがどのような平坦性をもっているかをオペレータが即座に知ることができる平坦度測定装置を提供する。 - 特許庁
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