SCCMとは 意味・読み方・使い方

When the polysilicon layer 9 is etched, conditions such as Cl2: 150 sccm, HBr: 450 sccm, CHF3: 100 sccm, pressure: 100 mTorr, RF power in an upper counter electrode 15: 500 W and RF power in a lower counter electrode 13: 300 W are adopted.例文帳に追加

ここで、ポリシリコン層9のエッチングにおいて、例えば、Cl_2:150sccm、HBr:450sccm、CHF_3:100sccm、圧力:100mTorr、上部対向電極15におけるRFパワー:500W、および下部対向電極13におけるRFパワー:300Wの条件を用いる。 - 特許庁

By setting the reaction temperature to around 430°C, a seed layer about 100 nm thick is deposited by using WF_6: 50 sccm, SiH_4: 10 sccm and H_2: 1,000 sccm as the reaction gas in an atmosphere of Ar, N_2: 30 Torr.例文帳に追加

反応温度を４３０℃程度に設定し、Ａｒ，Ｎ_2：３０Ｔｏｒｒの雰囲気中で、まず、反応ガスとして、ＷＦ_6：５０ｓｃｃｍ、ＳｉＨ_4：１０ｓｃｃｍ、Ｈ_2：１０００ｓｃｃｍを用いて、１００ｎｍ程度の膜厚のｓｅｅｄ層を積層する。 - 特許庁

In this case, the flow of monosilane and hydrogen is respectively 20 sccm and 20 slm.例文帳に追加

このとき、モノシラン及び水素の各流量は、夫々２０ｓｃｃｍ、２０ｓｌｍとする。 - 特許庁

SF_6 gas is fed into the chamber at a flow rate of 10 sccm or so.例文帳に追加

また、チャンバ内に、ＳＦ_6ガスを１０ｓｃｃｍ程度の流速で供給する。 - 特許庁

To provide a method of remote-controlling gas flow in a trace range less than 1 sccm.例文帳に追加

１ｓｃｃｍ未満という微小領域のガス流量を遠隔的に制御できる方法を提供する。 - 特許庁

The total flow rates of argon gas and oxygen are set to 120 SCCM, and 90 SCCM, respectively, and the pressure in the vacuum container is set to be 0.7 Pa.例文帳に追加

合計でアルゴンガスの流量を１２０ＳＣＣＭ、酸素ガスの流量を９０ＳＣＣＭとして、真空容器内の圧力を０．７Ｐａに設定する。 - 特許庁

Power of microwaves, RF power applied to the target, gas pressure in sputtering, the flow rate of argon, and the flow rate of O, are set at 800 W, 500 W, 0.13 Pa, 20 sccm (97.6 vol.%), and 0.5 sccm (2.4 vol.%), respectively.例文帳に追加

また、マイクロ波のパワーは８００Ｗ、ターゲットに印加するＲＦパワーは５００Ｗ、スパッタ時のガス圧は０．１３Ｐａ、アルゴンの流量は２０sccm（９７．６ｖｏｌ％）、Ｏの流量は０．５sccm（２．４ｖｏｌ％）とする。 - 特許庁

Precipitation quantity is controlled by the nitrogen quantity of the nitride gas contained in the ambient gas of RTA (Rapid Thermal Annealing) processing, wherein the nitride gas is in the range of 0.05% or more and less than 0.5%, or more than 1 sccm (standard cubic centimeter per minute) and 10 sccm or less.例文帳に追加

ＲＴＡ処理における雰囲気ガスに含まれる窒化ガスを０．０５％以上０．５％未満、又は１ｓｃｃｍを越えて１０ｓｃｃｍ以下の範囲として、この窒素量により析出量をコントロールする。 - 特許庁