base rate areaとは 意味・読み方・使い方

Various applications are flexibly coped with by registering the maximum number of a transmission rate from the applications in communication between a base station 1 to perform variable rate transmission by the small area communication protocol and mobile stations 3, 7.例文帳に追加

狭域通信プロトコルによる可変レート伝送を行う基地局１と移動局３，７間の通信において、アプリケーションから伝送レート最大数を登録することにより、多種多様なアプリケーションに柔軟に対応させることを特徴とする。 - 特許庁

The rate of change of the base length of the lenses 15 is the same as that of parallax of the image formed on an imaging area 14 obtained by the light having transmitted the lenses.例文帳に追加

このため、各レンズ１５の基調線の変化率は、撮像領域１４によって各レンズを透過した光から得られた画像の視差の変化率と同じとなる。 - 特許庁

To provide a linear motor coil assembly structure that increases the area where a coil contacts with the inside wall of an insertion groove of a base for improving the rate of heat radiation.例文帳に追加

コイルとベースの挿着溝の内壁とが接触する面積を増大させ、放熱速度を向上させるリニアモータコイルアセンブリ構造を提供する。 - 特許庁

The surface layer of an a-C system is formed under a film deposition condition (area B) that the deposition rate of the surface layer is lowered with the temperature rise of conductive base substance.例文帳に追加

ａ−Ｃ系の表面層を、導電性基体の温度上昇に伴い表面層の堆積速度が低下する成膜条件下（Ｂ領域）で形成する。 - 特許庁

To provide a conductive paste containing a ceramic additive which reduces baking shrinkage rate difference between a ceramic base plate and a conductive film even in the case of baking at a comparatively low temperature area.例文帳に追加

比較的低温域で焼成した場合であってもセラミック基材と導体膜との間の焼成収縮率の差を縮め得るセラミック添加剤を含む導体ペーストを提供すること。 - 特許庁

Accordingly, the location registration request can be transmitted to another base station in the same location area, and a call termination rate can be achieved equivalent to that of the public PHS.例文帳に追加

したがって、同じ位置登録エリアの他の基地局に対して位置登録要求を送信できるようになり、公衆のＰＨＳシステムと同等の着信率を達成することが可能となる。 - 特許庁

To form a deposited film which is uniform in both the film thickness and the film quality, and excellent in the characteristic by performing the uniform plasma treatment of a base body of a large area at a high treatment rate.例文帳に追加

高速な処理速度で大面積の基体を均一にプラズマ処理し、膜厚、膜質共に均一で特性の良好な堆積膜を形成する。 - 特許庁

At this point, the opening 3b is so formed as to make the opening rate of the opening 3b in a third semiconductor region forming area equal to the impurity concentration ratio of the base region to the third semiconductor region.例文帳に追加

この際、開口３ｂは、第３半導体領域の形成領域における開口率がベース領域の不純物濃度と第３半導体領域の不純物濃度との比に等しくなるように形成される。 - 特許庁