camberedとは 意味・読み方・使い方

The driving power member 4 consists of a shape memory alloy metal plate whose one end is restrained by the base plate 1 and other end is engaged with the lever member 3 and is cambered/deformed according to the energization to drive the lever member 3.例文帳に追加

この動力部材４は一端が地板１に係止され、他端がレバー部材３に係合した形状記憶合金の板材からなり、通電に応じて反り変形してレバー部材３を駆動する。 - 特許庁

The sensor element main body has two parallel end wall areas as the top and bottom surfaces which are integrally connected without joints by inwardly cambered side wall areas.例文帳に追加

センサエレメント本体は、頂面および底面としての２つの平行な端壁領域を有し、該端壁領域は、内方に上反りになっている側壁領域によって継ぎ目なしに一体的に連結されている。 - 特許庁

When it is cut off, each tilt apron 4 disposed before and behind in the length direction of the shaped steel 1 with respect to the rotary disk saw edge 3 is controlled so as to be lifted in response to a cambered amount of the shape steel at the cutting part.例文帳に追加

その切断に際して、回転円形鋸刃３に対して形鋼１の長さ方向に前後してそれぞれ配置されたチルトエプロン４を、形鋼１の鋸断部の反り量に応じて上昇制御する。 - 特許庁

To provide a turntable with which it is effectively prevented that the downward cambered part of a material to be rolled from being caught by the large diameter part of the turning roller during operation of the turn of 90° even when the material to be rolled has the large downward camber.例文帳に追加

下反り量が大きい被圧延材の場合でも、９０°転回動作中、被圧延材の下反り部が転回ローラの大径部に引っ掛かることを効果的に防止できる転回テーブルを提供する。 - 特許庁

When a substrate upper face at the upper part of the center of lamination is cambered so as to be recessed in a ceramic multilayer substrate whose internal multilayers are formed with wiring patterns, a dummy pattern is set at the outer periphery of a product at the lower face side at the lower part of the center of lamination.例文帳に追加

内部の複数の層に配線パターンを形成したセラミックス多層基板において、積層中央から上部にある基板上面が凹に反る場合は、積層中央から下部にある下面側の製品部分の外周部にダミーパターンを設ける。 - 特許庁

The cambered plate is positioned between the projecting discharge end 12 and the bottom conveyer belt 6, and is designed to be capable of being adjusted by a driving device 14 to a non operation position from an operation position apt to camber the bulk material 17 discharged by a discharge end 12.例文帳に追加

これは、排出端１２と底部コンベヤベルト６との間に位置し排出端１２によって排出されたバルク材料１７をそらすように意図された操作位置から、非操作位置内へ、駆動装置１４によって調節可能であるように設計される。 - 特許庁

To provide a polishing method for a workpiece surface that avoids complication of work by polishing with one polishing device, reduces polishing time and polishing man-hour, and secures uniformity after the polishing, even when a workpiece such as semiconductor wafer is cambered or bent.例文帳に追加

半導体ウェハ等のワークに反りや湾曲したものが含まれている場合でも、一台の研磨装置で研磨加工が行えるようにすることで作業の煩雑性を回避すると共に、研磨時間や研磨工数の削減を図り、併せて研磨した後の品質の均一性を確保できるようなワーク表面の研磨方法を提供することである。 - 特許庁