circumferential defectとは 意味・読み方・使い方

In Fig. (a), a potential difference measuring terminal 112 for a defect in the circumferential direction is installed on a terminal holder 122, and a potential difference measuring terminal 114 for a defect in the axial direction is installed on a terminal holder 124.例文帳に追加

（ａ）端子ホルダ１２２に周方向欠陥用電位差測定端子１１２を設置しており，端子ホルダ１２４に軸方向欠陥用電位差測定端子１１４を設置している。 - 特許庁

The potential difference measuring terminal 112 for the defect in the circumferential direction and the potential difference measuring terminal 114 for the defect in the axial direction are installed so that each direction of the two terminals forms 90° mutually.例文帳に追加

周方向欠陥用電位差測定端子１１２と軸方向欠陥用電位差測定端子１１４は、２本の端子の向きが互いに９０°となるように設置されている。 - 特許庁

Even if there is an electrode open defect 103 in a wall face of a rib 101 formed on a substrate, the defect can be stably and efficiently amended by identifying the defect 103, pressing and applying a paste 30 adhering to the circumferential face of a coating probe 20 to the identified defect part from the side face, and curing the applied paste 30.例文帳に追加

基板上のリブ１０１の電極オープン欠陥１０３を認識し、認識した欠陥部分に塗布針２０の周面に付着したペースト３０を側面から押し当てて塗布し、塗布したペースト３０を硬化させることにより、基板上に形成されたリブ１０１の壁面に欠陥があっても安定してかつ効率的に修正することができる。 - 特許庁

Light is projected to the outer circumferential side face of a glass substrate or the end face at the mouth of a glass vessel and a component of the light diffuse reflected at a defect in the glass substrate or on the surface thereof and outgoing therefrom is detected thus detecting a defect of the glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板の外周側面、又はガラス容器の口部端面に光を入射させ、その光のうちの、該ガラス基板の内部又は表面の欠点で乱反射し、該ガラス基板の表面から出てくる光を検出することで、ガラス基板の欠点を検出する。 - 特許庁

After allowing the drawn POF 13 to pass a pass formation part, light dissipated by a defect from the circumferential surface of the POF 13 is detected by light receiving sensors 50a, 50b, and existence of a defect is determined based on signals from the light receiving sensors 50a, 50b.例文帳に追加

延伸されたＰＯＦ１３はパス形成部を経由した後、ＰＯＦ１３の外周面から欠陥によって散逸する光を受光センサ５０ａ，５０ｂにより検出し、この受光センサ５０ａ，５０ｂからの信号に基づき欠陥の有無を判定する。 - 特許庁

To provide an epitaxial wafer and method of manufacturing the same capable of preventing the occurrence of the surface defect of the epitaxial film and a slip of the outer circumferential part of the film, and capable of lowering its manufacturing cost in having a gettering site.例文帳に追加

エピタキシャル膜の表面欠陥と、この膜の外周部のスリップとの発生を防止でき、ゲッタリングサイトを有して製造コストも低減可能なエピタキシャルウェーハおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method, apparatus and program for defect detection, capable of accurately detecting defects in the contour shape of an workpiece having an outer circumferential contour, based on a straight line.例文帳に追加

直線を基調とした外周輪郭を有する被検査物に対して、精度よく輪郭形状欠陥を検出可能な欠陥検出方法、欠陥検出装置、および欠陥検出プログラムを提供する。 - 特許庁

To obtain a device which can detect a three-dimensional space in the 360° circumference of the internal surface of a conduit with high resolution and clearly display a defect, such as the crack, particularly, in the circumferential direction.例文帳に追加

管渠の内壁面を周囲３６０度の３次元空間を分解能よく検出して特に円周方向の亀裂などの欠陥を明白に表示できる装置を得ること。 - 特許庁