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compensated semiconductorとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 補償半導体; 補償形半導体
「compensated semiconductor」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 34件
SEMICONDUCTOR DEVICE AND TEMPERATURE COMPENSATED OSCILLATOR例文帳に追加
半導体装置、温度補償発振装置 - 特許庁
STRAIN COMPENSATED LONG WAVELENGTH SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING ELEMENT例文帳に追加
ひずみ補償長波長半導体発光素子 - 特許庁
STRESS SENSOR FOR MEASURING MECHANICAL STRESSES IN SEMICONDUCTOR CHIP AND STRESS COMPENSATED HALL SENSOR例文帳に追加
半導体チップの機械的な応力を検出するための応力センサ及び応力補正ホールセンサ - 特許庁
To provide a phase change semiconductor memory device in which a leakage current can be compensated during read operation.例文帳に追加
リード動作時に漏洩電流を補償することができる相変化メモリ装置を提供することにある。 - 特許庁
To solve starting problems of a semiconductor integrated circuit designed under the condition that process variance is compensated by controlling an operating voltage.例文帳に追加
動作電圧を制御してプロセスばらつきを補償する条件で設計した半導体集積回路の起動問題を解消する。 - 特許庁
Furthermore, even if characteristics of a semiconductor laser LD is varied, a drive current Ild of the semiconductor laser LD is compensated, and the differential amplifier 11 has a function for suppressing noise to a low level, the semiconductor laser LD is modulated stably.例文帳に追加
また半導体レーザLDの特性が変化しても半導体レーザLDの駆動電流Ildが補正され、差動増幅器11はノイズを少なく抑える機能があるので、半導体レーザLDを安定して変調できる。 - 特許庁
Thus, series resistance increasing accompanied with the reduction of film thickness of the n-type semiconductor layer 2 can be compensated without reducing the light receiving area.例文帳に追加
こうして、n型半導体層2の薄膜化に伴って増加した直列抵抗を、受光面積を減少させることなく補償する。 - 特許庁
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「compensated semiconductor」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 34件
To provide a semiconductor memory device in which transfer voltage to a word line can be compensated even when a property of a drive transistor of a word line is deteriorated.例文帳に追加
ワード線の駆動トランジスタの特性が劣化した場合においてもワード線への転送電圧を補正することが可能な半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁
When the output level of the output light is reduced from prescribed reference, the output of the semiconductor laser is compensated, so as to obtain set gain.例文帳に追加
出力光の出力レベルが所定の基準より低下すると、設定された利得が得られるように半導体レーザーの出力が補償される。 - 特許庁
By forming a plurality of p-type semiconductor regions 13 on the main surface side of an n-type semiconductor substrate 10 separately or so as to be partially overlapped, and forming an n-type semiconductor region 17 shallow over the adjacent p-type semiconductor regions 13, the mutually opposing shallow regions of the adjacent p-type semiconductor regions 13 are compensated by an overlap with the n-type semiconductor region 17.例文帳に追加
n型の半導体基板10の主面側に複数のp半導体領域13を離してまたは一部が重なるように形成し、隣り合うp半導体領域13にまたがってn半導体領域17を浅く形成することによって、隣り合うp半導体領域13の相対峙する浅い領域をn半導体領域17との重なりによって補償する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device wherein deterioration of current supply ability caused by substrate bias effect is compensated, and deterioration of charge transfer ability is restrained.例文帳に追加
基板バイアス効果による電流供給能力の低下を補償するとともに、電荷転送能力の低下を抑制することのできる半導体装置を提供する。 - 特許庁
To provide a wavelength multiplexer/demultiplexer using a semiconductor material with which the polarization dependency generated due to the error in a manufacturing process or the machining error is compensated without being accompanied by the deterioration in characteristic.例文帳に追加
製造プロセス時のエラーや加工誤差により生じた偏波依存性を、特性劣化を伴うことなく補償できる半導体系材料を用いた波長合分波器を提供する。 - 特許庁
In a method of producing the semiconductor element having a light-emitting semiconductor layer or a light-emitting semiconductor element, two contact locations, and a vertically or horizontally patterned carrier substrate, the carrier substrate is patterned in such a way that the thermal stresses are reduced or compensated sufficiently to ensure that the element does not fail.例文帳に追加
光出射半導体層、又は、光出射半導体素子、2つのコンタクト個所及び垂直又は水平に構造化された支持体基板を有する半導体構成素子の製造方法において、支持体基板は、熱応力を、構成素子が故障しないように十分に小さくし、乃至、補償するように構造化する。 - 特許庁
Errors produced in the data, when the failures generated in semiconductor memory 703, are compensated readily, and operation as a desired RAM, even if the failures are present in the data input/output, is performed.例文帳に追加
半導体メモリ703に故障が発生した際にデータに生じる誤りを容易に補償することができ、またデータ入出力に故障が存在しても所望のRAMとして動作できる。 - 特許庁
The heating condition of impurity activation is set on the result of measurement of the gate threshold voltage, whereby, the irregularity of characteristics of an unit of FET structure is compensated, and the characteristics of semiconductor device can be made uniform.例文帳に追加
ゲート閾値電圧の測定結果に基づいて不純物活性化の加熱条件を設定することで、単位FET構造の特性の不揃いを補償し、半導体装置の特性を揃えることができる。 - 特許庁
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