contraction patternとは 意味・読み方・使い方

To set arbitrary sensitivity by reducing the influence of a position shift of an inspection pattern on a pattern inspecting device, the contraction of a base material, etc.例文帳に追加

パターン検査装置において検査パターンの位置ずれや基材の収縮等による影響を少なくし、任意の感度を設定できるようにすること。 - 特許庁

A contraction difference between an insulating substrate 1 and the pattern 2 is absorbed when the bend part 6 is deformed positively.例文帳に追加

絶縁基板１と導体層パターン２との間の収縮差は、曲げ部６が積極的に変形することで吸収する。 - 特許庁

A pattern having the level difference lower than height of a partition pattern is provided adjacent to the partition pattern, so that it is possible to delete or cancel the rise of the partition due to baking contraction when baking.例文帳に追加

隔壁パターンに隣接して隔壁パターンの高さよりも低い段差パターンを設けることで、焼成時の焼成収縮による隔壁の盛り上がりを無くすか、或いは相殺することが可能となる。 - 特許庁

Materials of the package, intermediate substrate, and dielectric substrate are so selected that when the superconducting filter is cooled from room temperature down to the critical temperature of the resonator pattern, the difference between the contraction factor of the intermediate substrate and the contraction factor of the dielectric substrate is smaller than the difference between the contraction factor of the dielectric substrate and the contraction factor of the package.例文帳に追加

パッケージ、中間基板、及び誘電体基板の材料は、室温から共振器パターンの臨界温度まで冷却したとき、中間基板の収縮率と誘電体基板の収縮率との差が、誘電体基板の収縮率とパッケージの収縮率との差よりも小さくなるように選択されている。 - 特許庁

To provide a resin composition for forming a fine pattern which can attain smooth and further stable contraction of a resist pattern by heat treatment, and easy removal thereof by a subsequent alkali aqueous solution treatment.例文帳に追加

熱処理により、レジストパターンを円滑により安定して収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る。 - 特許庁

Then, using the optimized reticle contraction correction model, the pattern is aligned to a target layer of a wafer, which is a next exposure object.例文帳に追加

そして、最適化後のレチクル伸縮補正モデルを用いて、パターンを次の露光対象のウエハのターゲット層に位置合わせする。 - 特許庁

The pattern forming device 100 measures the elongation and contraction of a base material length (step 902) and measures the position of the previous process pattern (step 904) relating to the region where the elongation and contraction ratio ((L+ΔL)/L) of the base material length is not within a prescribed range (No of step 903).例文帳に追加

パターン形成装置１００は、基材長の伸縮を測定し（ステップ９０２）、基材長の伸縮割合（（Ｌ＋ΔＬ）／Ｌ）が所定の範囲内にない領域に関しては（ステップ９０３のＮｏ）、前工程パターンの位置測定を行う（ステップ９０４）。 - 特許庁

If the 1st master pattern is disconnected or disappeared when a single pixel is contracted in the 1st master pattern, the pixel contraction processing is discontinued.例文帳に追加

第１のマスタパターン中の画素を１画素分収縮処理することにより、第１のマスタパターンにパターンの断線あるいは消滅が発生する場合は、画素の収縮処理を中止する。 - 特許庁