「contraction pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

This anti-corrosive cap is formed of thermal contraction resin 5, and a pattern 8 for confirming the degree of contraction is displayed on the outer surface of the cap.例文帳に追加

この防食キャップは、熱収縮性の樹脂５によって形成されるとともに、その外面に、収縮の度合いを確認することができる模様８が表示されている。 - 特許庁

To provide a bake device of a resist pattern capable of making uniform the dimension changing amounts of the resist pattern in bake treatment (the contraction amounts of a pattern opening).例文帳に追加

ベーク処理におけるレジストパターンの寸法変化量（パターン開口部の縮み量）を均一にすることができるレジストパターンのベーク装置及びレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To set arbitrary sensitivity by reducing the influence of a position shift of an inspection pattern on a pattern inspecting device, the contraction of a base material, etc.例文帳に追加

パターン検査装置において検査パターンの位置ずれや基材の収縮等による影響を少なくし、任意の感度を設定できるようにすること。 - 特許庁

A contraction difference between an insulating substrate 1 and the pattern 2 is absorbed when the bend part 6 is deformed positively.例文帳に追加

絶縁基板１と導体層パターン２との間の収縮差は、曲げ部６が積極的に変形することで吸収する。 - 特許庁

A pattern having the level difference lower than height of a partition pattern is provided adjacent to the partition pattern, so that it is possible to delete or cancel the rise of the partition due to baking contraction when baking.例文帳に追加

隔壁パターンに隣接して隔壁パターンの高さよりも低い段差パターンを設けることで、焼成時の焼成収縮による隔壁の盛り上がりを無くすか、或いは相殺することが可能となる。 - 特許庁

Materials of the package, intermediate substrate, and dielectric substrate are so selected that when the superconducting filter is cooled from room temperature down to the critical temperature of the resonator pattern, the difference between the contraction factor of the intermediate substrate and the contraction factor of the dielectric substrate is smaller than the difference between the contraction factor of the dielectric substrate and the contraction factor of the package.例文帳に追加

パッケージ、中間基板、及び誘電体基板の材料は、室温から共振器パターンの臨界温度まで冷却したとき、中間基板の収縮率と誘電体基板の収縮率との差が、誘電体基板の収縮率とパッケージの収縮率との差よりも小さくなるように選択されている。 - 特許庁

To provide a resin composition for forming a fine pattern which can attain smooth and further stable contraction of a resist pattern by heat treatment, and easy removal thereof by a subsequent alkali aqueous solution treatment.例文帳に追加

熱処理により、レジストパターンを円滑により安定して収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る。 - 特許庁

Then, using the optimized reticle contraction correction model, the pattern is aligned to a target layer of a wafer, which is a next exposure object.例文帳に追加

そして、最適化後のレチクル伸縮補正モデルを用いて、パターンを次の露光対象のウエハのターゲット層に位置合わせする。 - 特許庁

The pattern forming device 100 measures the elongation and contraction of a base material length (step 902) and measures the position of the previous process pattern (step 904) relating to the region where the elongation and contraction ratio ((L+ΔL)/L) of the base material length is not within a prescribed range (No of step 903).例文帳に追加

パターン形成装置１００は、基材長の伸縮を測定し（ステップ９０２）、基材長の伸縮割合（（Ｌ＋ΔＬ）／Ｌ）が所定の範囲内にない領域に関しては（ステップ９０３のＮｏ）、前工程パターンの位置測定を行う（ステップ９０４）。 - 特許庁

If the 1st master pattern is disconnected or disappeared when a single pixel is contracted in the 1st master pattern, the pixel contraction processing is discontinued.例文帳に追加

第１のマスタパターン中の画素を１画素分収縮処理することにより、第１のマスタパターンにパターンの断線あるいは消滅が発生する場合は、画素の収縮処理を中止する。 - 特許庁

In an exposing method of projecting an exposure light image of a pattern formed on a mask onto a substrate to form a transfer pattern of the pattern on the substrate, the transfer pattern is measured, and the exposure light image is adjusted according to a mask expansion/contraction correction value calculated based on a mask expansion/contraction variation amount calculated by correcting a predetermined contribution amount when projected for a result of measurement.例文帳に追加

マスクに設けられたパターンの露光光像を基板に投影して前記基板に前記パターンの転写パターンを形成する露光方法であって、前記転写パターンを計測し、この計測結果に対して投影時の所定の寄与分を補正して算出されたマスクの伸縮変動量に基づいて算出されたマスク伸縮補正値に応じて前記露光光像を調整する。 - 特許庁

The pattern forming device calculates drawing data based on the measurement data (measurement data of the elongation and contraction of the base material length, the measurement data of the position of the previous process pattern) and performs the formation of the fresh pattern based on the drawing data (step 905).例文帳に追加

パターン形成装置は、測定データ（基材長の伸縮の測定データ、前工程パターンの位置の測定データ）に基づいて描画データを算出し、当該描画データに基づいて新たなパターンの形成を行う（ステップ９０５）。 - 特許庁

Arrangements of the pattern blocks with their widths maintained and widths of non-pattern areas between the pattern blocks varied are written with the writing data created by the data creating part 315 in accordance with the expansion and contraction of the substrate.例文帳に追加

データ生成部３１５にて生成される描画データにより、基板の伸縮率に応じて、パターンブロックの幅を維持しつつパターンブロック間の非パターン領域の幅が変更されたパターンブロックの配列が基板上に描画される。 - 特許庁

Based on the expansion/contraction rate measured at the time of alignment, incident angle of an electron beam to the mask pattern is controlled thus correcting the transfer magnification.例文帳に追加

そして、転写時に前記測定した伸縮率に基づいて電子ビームのマスクパターンへの入射角度を制御し、転写倍率を補正する。 - 特許庁

By such constitution, the pattern of the photomask 1 is corrected in terms of magnification in the lateral and longitudinal directions of the printed circuit board W so as to cope with the expansion or contraction of the printed circuit board W.例文帳に追加

この構成によりフォトマスク１のパターンを基板Ｗの縦横方向に倍率補正し、基板Ｗの伸縮に対応する。 - 特許庁

Moreover, the amount of paper expansion/contraction can be measured with the accuracy close to a nozzle pitch by way of newly making an additional recording of the expansion/contraction reference mark on the first surface and detecting the position of the mark recorded additionally in corresponding with the non-discharge detecting pattern.例文帳に追加

また、前記第１面に新たに伸縮基準マークを追加記録し、当該追加記録したマークの位置を不吐検知パターンと対応させて検出することでノズルピッチに近い精度で用紙伸縮量を計測できる。 - 特許庁

By forming four corner parts 150 of a barrier rib pattern 109 into an arc-like shape, a jump-up phenomenon due to thermal contraction of a barrier rib material at each corner part 150 of the rib pattern 109 is eliminated in the baking process after forming the rib pattern 109.例文帳に追加

隔壁パターン１０９の４隅のコーナー部１５０を円弧状とし、隔壁パターン１０９形成後の焼成において、隔壁パターン１０９のコーナー部１５０において隔壁材料の熱収縮による跳ね上がり現象を無くす。 - 特許庁

To provide an electronic circuit device of such a structure as a pattern formed on a substrate is not stripped due to expansion or contraction caused by temperature variation of mold resin.例文帳に追加

モールド樹脂の温度変化による膨張や収縮によって、基板に形成したパターンが剥離しない構造の電子回路装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method that can achieve a pattern having a dimension almost equal to a design value by compensating the contraction of resin, in the design of a nano-printing mold.例文帳に追加

ナノインプリント用モールドの設計において、樹脂の収縮を補償して設計値とほぼ等しい寸法のパターンを実現できる方法を提供する。 - 特許庁

A portion on the ribbon which has a difference in thermal contraction and expansion is in the edge section of the photographic paper so that the possibility of occurrence of a wrinkle pattern on the image can be markedly reduced.例文帳に追加

リボンに熱伸縮の差が生じる場所が、印画紙の端となり、画像上にしわ状の模様が発生する可能性を大幅に低減できる。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure apparatus for exposing a desired pattern by suppressing the generation of other aberrations when performing an astigmatic correction of an electronic optical system for contraction.例文帳に追加

縮小電子光学系の非点を補正する際、他の収差の発生を抑え、所望パターンを露光できる荷電粒子線描画装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing wiring board by which a ceramic laminate, in which the expansion and contraction of a sheet hardly occurs and a pattern can be formed at a desired position, can be manufactured.例文帳に追加

シートの膨張・収縮が生じにくく、パターンを所望の位置に形成することができるセラミック積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this case, the contraction rate of the conductor paste forming the lead-out pattern 2d is made smaller than that of the electric insulating layer 1.例文帳に追加

本発明では、前記引出パターン２ｄを形成するための導体ペーストの収縮率を前記電気絶縁層１の収縮率より小さくした。 - 特許庁

In the heating process, an influence of thermal contraction is reduced because the projection part 63T is formed on the preparatory resist pattern 63, so the preparatory resist pattern 63 is not apt to become round at the position P3.例文帳に追加

加熱工程において、前準備レジストパターン６３に突起部６３Ｔが形成されていることにより熱収縮の影響が緩和されるため、位置Ｐ３において前準備レジストパターン６３が丸みを帯びにくくなる。 - 特許庁

In an inkjet printer loaded with an inline sensor for picturizing the print result, a non-discharge detecting pattern 20 and expansion/contraction reference marks 22A-22H are recorded at the time of printing the first page (surface).例文帳に追加

印刷結果を撮像するインラインセンサを搭載したインクジェット印刷装置において、第１面（表面）の印刷時に不吐検知パターン20と伸縮基準マーク22A〜22Hを記録する。 - 特許庁

To provide a dot pattern array plate capable of mitigating a pressure from a reader device and having a little contraction and expansion accompanied by an environmental change and a time lapse.例文帳に追加

読取装置からの圧力を緩和することができるとともに、環境変化や時間の経過に伴う収縮や膨張の小さいドットパターン配列板を提供する。 - 特許庁

Regarding a focus region in the binarized image, a region adjusting means 22 alternatively performs contraction processing and expansion processing of a pixel having a pixel value of the wiring pattern.例文帳に追加

二値化された画像内の着目領域について、領域調節手段２２では配線パターンの画素値を持つ画素の縮小処理と膨張処理とを択一的に行う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a planar optical waveguide circuit device for improving wiring pattern dimension accuracy by suppressing the resist contraction of a lift-off wiring process.例文帳に追加

リフトオフ配線プロセスにおけるレジスト収縮を抑制し、配線パターン寸法精度を向上させる平面光導波回路デバイスの製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide an electron microscope which can alleviate a burden inflicted on an operator in order to perform an appropriate observation, especially, to suppress contamination of a testpiece and contraction of pattern.例文帳に追加

適切な観察を行うために、特に試料汚染及びパターン収縮を抑えるために、操作者にかかる負担を軽減することができる電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive composition for board wiring, which solves problems due to the solidification contraction of a through electrode or a circuit pattern, and to provide a circuit board and an electronic device.例文帳に追加

貫通電極又は回路パターンの凝固収縮に起因する問題を解決しえる基板配線用導電性組成物、回路基板、及び、電子デバイスを提供すること。 - 特許庁

To enable "form out" regardless of a size difference of an inputted form, pattern misalignment, expansion and contraction of an input image, local transformation, and the like, in an OCR device.例文帳に追加

ＯＣＲ装置において、入力された帳票のサイズ誤差、印刷ズレ、入力画像の伸縮、局所的な変形等に関わらず、フォームアウトを可能とする。 - 特許庁

To provide an exposure method and an exposure system capable of precisely transferring a mask pattern on a substrate even if a stage is deformed due to thermal expansion and contraction or the like.例文帳に追加

熱伸縮等でステージが形状変化した場合にも、マスクのパターンを精度よく基板上に転写することが可能な露光方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁

A defect is detected by identifying online the relation between an inspection reference pattern image and an objective pattern image for inspection during inspection, constructing a mathematical model absorbing (fitting) displacement of pixels, expansion or contraction noise, or sensing noise of an image, and further comparing a new inspection reference pattern image (model image) obtained by the simulation of the obtained model with the objective pattern image for inspection.例文帳に追加

検査基準パターン画像と被検査パターン画像との関係を検査中にオンラインで同定して、画像の画素ズレや伸縮ノイズ、センシングノイズを吸収（フィッティング）した数式モデルを構築し、そのモデルのシミュレーションによって得られる新たな検査基準パターン画像（モデル画像）と被検査パターン画像とを比較することによって欠陥を検出する。 - 特許庁

A musical sound reproduction device converts reference data corresponding to a motion pattern specified by the user, to expansion/contraction reference data obtained by expanding/contracting the data according to a motion speed of the exerciser, to output musical sound according to the expansion/contraction reference data.例文帳に追加

本発明の実施形態に係る楽音再生装置は、運動者が指定した運動パターンに対応した基準データを、運動者自身の動きの早さにあわせて伸縮させた伸縮基準データに変換し、その伸縮基準データに応じた楽音を放音させることができる。 - 特許庁

In the image correcting method, the relation of an inspection reference pattern image with a pattern image to be inspected is identified to construct a numerical formula model absorbing (fitting) the pixel shift or expansion and contraction, undulation noise and sensing noise of an image and an estimate model image is formed by the simulation of the numerical formula model.例文帳に追加

検査基準パターン画像と被検査パターン画像との関係を同定して、画像の画素ズレや伸縮・うねりノイズ、センシングノイズを吸収（フィッティング）した数式モデルを構築し、そのモデルのシミュレーションによって推定モデル画像を生成する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method in which even when a dislocation, turning, contraction, distortion or the like is caused to lower layer patterns, required upper layer patterns can be formed by aligning with the lower layer patterns.例文帳に追加

下層パターンにずれ、回転、収縮、歪み等が生じた場合であっても、下層パターンに位置合わせをして所望の上層パターンを形成しうるパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

Further, the preparatory resist pattern 63 has thermal flow and thermal contraction in the heating process and then while an internal wall of an opening part 63K tilts, the projection part 63T moves back.例文帳に追加

しかも、加熱工程では、前準備レジストパターン６３が熱流動および熱収縮することにより、開口部６３Ｋにおける内壁が傾斜すると共に突起部６３Ｔが後退する。 - 特許庁

A target expansion/contraction pattern is preset for each of first to fourth actuators, and errors δ1 to δ4 between the target stroke and the actual stroke at each time point are obtained.例文帳に追加

第１〜第４アクチュエータのそれぞれについて目標伸縮パターンを予め設定しておき、各時点での目標ストローク量と実際のストローク量との誤差δ１〜δ４を求める。 - 特許庁

To provide a device enabling every customer to recognize a sliced fish muscle contraction in response to bulk order while maintaining apparently normal provision pattern.例文帳に追加

見た目通常の提供形態を維持しつつ、大量注文に応じて全ての顧客に切り身の筋肉収縮を看取させることができる魚肉の筋肉収縮誘起装置を提供する。 - 特許庁

To allow patterns recorded on respective boards to appropriately face each other in predetermined positional relation even when the pattern on one board is distorted due to the expansion and contraction of the board or the like in the case of laminating a plurality of boards each on which a pattern is recorded.例文帳に追加

パターンが記録された複数の基板を貼り合わせる場合に、一方の基板のパターンに基板伸縮などによる歪みが生じていたとしても、両基板に記録されたパターン同士を所定の位置関係で適切に対向させることができるようにする。 - 特許庁

To surely prevent extension and contraction of a printed pattern and a shift thereof consequent upon a change in a feed speed of a metal web of long lengths, in a continuous printing line wherein a pattern is printed on the surface of the metal web by a gravure printing method, while the metal web is fed in one direction.例文帳に追加

長尺の金属ウエブを一方向へ送りながら、その表面に模様をグラビア印刷法によって印刷する連続印刷ラインにおいて、金属ウエブの送り速度の変動に伴う、印刷模様の柄伸縮や柄ずれを確実に防止する。 - 特許庁

To provide a sensor base board capable of reducing generation of noise by forming a wiring pattern of metallic wiring, and having no influence on the product service life even if there is the extension and contraction of the base board by heat.例文帳に追加

配線パターンを金属配線で形成することでノイズの発生を少なくできるとともに、熱による基板の伸び縮みがあっても製品寿命に影響のないセンサ基板を提供する。 - 特許庁

To provide a judging method of an allergic disease capable of judging the expansion/contraction pattern of an allergen and/or the expansion/contraction pattern of an allergen epitope, the judging method of the allergic disease capable of detecting the allergen recognition antibody in a specimen by immunoassay using a Cy3 labelled secondary antibody and a judging kit of the allergic disease capable of using these judging methods of the allergic disease.例文帳に追加

アレルゲンの拡大／縮小パターン及び／又はアレルゲンエピトープの拡大／縮小パターンを判定することができるアレルギー疾患の判定方法や、検体中のアレルゲン認識抗体をＣｙ３標識２次抗体を用いるイムノアッセイにより検出することができるアレルギー疾患の判定方法や、これらアレルギー疾患の判定方法に用いることができるアレルギー疾患の判定キットを提供すること - 特許庁

A foreign matter inspection device including analysis means which can measure the pattern width and can acquire the luminance distribution for image data of an alignment mark, and image processing means which enables integration processing, subtraction processing, binarization processing, expansion processing and contraction processing includes processing the image data to make the alignment mark clear, and then pattern-matching the alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークの画像データのパターン幅計測、輝度分布取得が可能な解析手段と、積算処理、減算処理、２値化処理、膨張処理、収縮処理が可能な画像処理手段を備え、画像データに処理を加えて、アライメントマークを明瞭にした後にパターンマッチングを行うようにする。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus in which exposure of a mask pattern can be fast performed with high accuracy while preventing misalignment of exposure caused by expansion/contraction of an object substrate to be exposed or of a mask on exposing the object substrate.例文帳に追加

被露光基板に露光を行う際、被露光基板またはマスクの伸縮に起因する露光のズレの発生を防止してマスクパターンの露光を迅速に且つ高精度に行うことができる露光装置を提供すること。 - 特許庁