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direct plottingとは 意味・読み方・使い方
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「direct plotting」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 15件
CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM AND MASK FOR DIRECT PLOTTING AND PLOTTING METHOD例文帳に追加
荷電粒子線露光装置および直描用マスク並びに描画方法 - 特許庁
LASER DIRECT PLOTTING DEVICE HAVING AUTOMATIC RESOLUTION SETTING FUNCTION例文帳に追加
自動分解能設定機能を有するレーザ直描装置 - 特許庁
PRODUCING METHOD OF DOUBLE SPREAD PRESS PLATE FOR NEWSPAPER PRINTING BY MEANS OF LASER DIRECT PLOTTING METHOD例文帳に追加
レーザ直接描画方式による新聞印刷用の見開き刷版の製造方法 - 特許庁
To provide a laser direct plotting device which is simply constituted, and also whose plotting speed and accuracy can be improved.例文帳に追加
装置の構成が簡単で、しかも描画速度および描画精度を向上させることができるレーザ直接描画装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a pattern formation method capable of plotting a photosensitive material for an ultraviolet ray in a pattern with high throughput by a mask-less direct plotting exposure device having an irradiating light source being an h-line in a main wavelength.例文帳に追加
主波長がh線である照射光源を持つマスクレス直接描画露光装置で紫外線用の感光性材料を高スループットにパターン描画可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of producing a diffraction grating by direct plotting using charged particle beam such as electron beam or ion beam and in detail, a method of precisely plotting the diffraction grating having an optional spatial frequency without depending on beam irradiation position control resolution of the plotting device.例文帳に追加
本発明は、電子ビームやイオンビーム等の荷電粒子ビームを用いた、直接描画による回折格子の形成方法に係り、さらに詳しくは、描画装置のビーム照射位置制御分解能によらず、任意の空間周波数の回折格子を精度良く描画する方法に関するものである。 - 特許庁
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「direct plotting」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 15件
(1) The resist pattern is formed by using a resist pattern forming method based on a direct resist plotting method using a plotter or dispenser.例文帳に追加
(1)レジスト直描方式によるレジストパターン形成方法を用い、該レジスト直描方式がプロッターまたはディスペンサーを用い、レジストパターンを形成する。 - 特許庁
To improve throughput by changing an exposure method at the time of plotting a device pattern and at the time of exposing the periphery of a molded chip area, so called, at the time of peripheral exposure by using a variable molding type EB(electron beam) direct plotting device.例文帳に追加
可変成形型のEB直描装置を用いて、デバイスパターンの描画時と成形チップ領域の外周を露光する、いわゆる周辺露光時の露光方法を変えることにより、スループットを向上させることを課題とする。 - 特許庁
(1) After the resist pattern is formed by using the direct resist plotting method, metal patterns are formed at portions where the resist pattern is not formed by a plating method, and the conductor pattern is formed by peeling and removing the resist pattern.例文帳に追加
(1)レジスト直描方式によりレジストパターンを形成した後、該レジストパターンの無い部分にめっき法により金属パターンを形成し、その後にレジストパターンを剥離除去し、導体パターンを形成する。 - 特許庁
(1) In the formation of the resist pattern by using the direct resist plotting method, the resist pattern is formed by irradiating photosensitive resist ink with ultraviolet rays or visible light rays simultaneously with or immediately after the ink adheres to a substrate.例文帳に追加
(1)レジスト直描方式によるレジストパターン形成において、感光性レジストインクが、基板に付着すると同時または直後に紫外線または可視光線に照射され、レジストパターンが形成される。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a direct plotting waterless lithographic printing plate wherein plate-making can be done directly with a laser beam, curability of a silicone rubber layer and adhesive properties of the rubber layer to a heat sensitive layer are excellent and there is no variation in plate performance.例文帳に追加
レーザー光で直接製版でき、シリコーンゴム層の硬化性およびシリコーンゴム層と感熱層との接着性に優れ版性能にばらつきのない描型水なし平版印刷版の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive element having high sensitivity, even in direct plotting exposure with a less degradation change of sensitivity, even when leaving the photosensitive element coated with a protective film over a long period and to provide a method for forming a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加
保護フィルムで被覆した感光性エレメントを長期間放置しておくことによる感度の低下変化が少なく、直接描画露光でも高感度である感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁
This image processor for transmitting/receiving data with a server computer having a PDL conversion means through a network is provided with: a means for reading information in external media; an external storage medium for storing image data; a means for judging whether direct printing is available according to the analysis of the image data: and a means for plotting and developing PDL data.例文帳に追加
ネットワークなどを介してPDL変換手段を有するサーバコンピュータとのデータ送受信が可能な画像処理装置であって、外部メディア内の情報を読み取る手段と、画像データを保存する外部記憶媒体と、画像データの解析によりダイレクトプリント可能かどうかを判断する手段と、PDLデータを描画展開する手段を有する構成である。 - 特許庁
The method for manufacturing a direct plotting waterless lithographic printing plate original plate by sequentially laminating at least a heat sensitive layer and a silicone rubber layer on a base plate comprises the steps of dissolving a polydimethylsiloxane in a solvent, adding a crosslinker to a solution containing a polydimethylsiloxane, and adding a curing catalyst to the solution containing at least the polydimethylsiloxane and the crosslinker.例文帳に追加
基板上に、少なくとも感熱層およびシリコーンゴム層をこの順に積層してなる直描型水なし平版印刷版原版の製造方法であって、(1)ポリジメチルシロキサンを溶媒に溶解する工程、(2)少なくともポリジメチルシロキサンを含む溶液に架橋剤を加える工程、(3)少なくともポリジメチルシロキサン及び架橋剤を含む溶液に硬化触媒を加える工程、を含むことを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版の製造方法。 - 特許庁
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